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"Positive pattern"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18件
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POSITIVE PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びポジ型パターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁
To provide a high sensitivity photosensitive resin composition comprising a polyimide precursor, developable with an aqueous alkali solution and having positive pattern forming ability and to provide a new positive pattern forming method.例文帳に追加
アルカリ水溶液にて現像が可能でポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体からなる高感度の感光性樹脂組成物と新規なポジ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The polybenzoxazole resin can be obtained in a positive pattern by exposing the photosensitive resin composition and developing the exposed photosensitive resin composition.例文帳に追加
そして、感光性樹脂組成物を露光および現像してポジ型のパターンでポリベンゾオキサゾール樹脂を得る。 - 特許庁
To provide a polybenzoxazole precursor composition developable with an aqueous alkali solution and having positive pattern forming ability.例文帳に追加
アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリベンゾオキサゾール前駆体組成物を提供する。 - 特許庁
The needle holding member comprises a surface with a positive pattern taper, the hub of the unit dosage needle comprises a surface with a negative pattern taper coupled each other.例文帳に追加
針保持部材は雄型テーパ付面を含み、単位用量針のハブは、これらの間で連結する雌型テーパ付面を含んでいる。 - 特許庁
To provide the resist composition developable with an aqueous alkaline solution and capable of obtaining a positive pattern good in dimensional control free from trailing on a photomask substrate.例文帳に追加
アルカリ水溶液で現像でき、フォトマスク基板上で裾引きのない寸法制御性のよいポジ型パタンを現出させるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To prepare a photosensitive resin compsn. contg. a polyimide precursor, developable with an aq. alkali soln. and having positive pattern forming ability.例文帳に追加
アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体からなる感光性樹脂組成物とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide the photosensitive resins composition composed of a polyimide developable in an aqueous alkaline solution and capable of forming a positive pattern and its manufacturing method.例文帳に追加
アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミドからなる感光性樹脂組成物とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition using a high molecular polybenzoxazole precursor soluble in an aqueous alkali solution and having positive pattern forming capability.例文帳に追加
アルカリ水溶液に可溶なポジ型パターン形成能を有する高分子量のポリベンゾオキサゾール前駆体を用いた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
In this index system, the patient positioning device comprises a table for supporting a patient and this table has both side faces equipped with a positive pattern index projection extending outside along each side edge of the table.例文帳に追加
患者位置決め装置は、患者を支持するためのテーブルを含み、このテーブルはテーブルの各サイドエッジに沿って外側に延びる雄型割り出し突起を備えた両側面を有する。 - 特許庁
To provide a method for forming an ultrahigh heat-resistant positive pattern by using a positive photosensitive composition in the process which requires high heat resistance of a photoresist pattern such as manufacturing of a TFT active matrix substrate.例文帳に追加
TFTアクティブマトリクス基板の製造など、フォトレジストパターンに高耐熱性が要求されるプロセスにおいて、ポジ型感光性組成物を用いて良好な超高耐熱ポジ型パターンを形成する。 - 特許庁
The photosensitive resin composition is mainly composed of a polyimide precursor having a benzoxazole skeleton and a phenolic hydroxyl group, a vinyl ether compound and a photoacid generator, can be developed with an aqueous alkali solution, and has positive pattern forming capability.例文帳に追加
ベンゾオキサゾール骨格とフェノール性水酸基を有するポリイミド前躯体、ビニルエーテル化合物、光酸発生剤とを主成分とするアルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有する感光性樹脂。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition which is exposed to active rays such as UV rays and formed into a film functioning as an insulating protective film on the surface of a semiconductor device, and also to provide a method for forming the positive pattern of the resin composition.例文帳に追加
紫外線等の活性光線にて露光が可能な、半導体素子表面に成膜され、絶縁保護膜となるポジ感光性樹脂組成物と、この樹脂組成物のポジ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method by a positive-negative reversal in which wet etching using an alkaline etching liquid is performed for a step of finally acquiring a negative image by giving a positive pattern a resistance to an organic solvent used for a composition for forming a reverse film to the degree of necessity, and securing solubility into an alkaline etching liquid.例文帳に追加
ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
When a base material 2, a colored layer 3 and a pattern layer 4 are successively laminated and a surface protective layer 7 is formed on the pattern layer by using an ionizing radiation curable resin compsn., a cured uniform coating film layer 5 and a negative pattern 6 lower in permeability or a liquid repelling positive pattern having a property repelling paint are interposed between the pattern layer and the surface protective layer.例文帳に追加
基材2、着色層3、および模様層4を順に積層した上に、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて表面保護層7を形成する際に、間に、硬化した一様均一な塗膜層5と、その上に、浸透性がより低いネガパターン6または塗料をはじく性質のある撥液性ポジパターンを介在させることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁
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