「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive type radiation sensitive composition, by which the high resolution and a pattern with the satisfied dimensional accuracy are obtained, and a manufacturing method of a stamper using the same.例文帳に追加

高解像度、かつ、寸法精度のよいパタンが得られるポジ型感放射線組成物及びそれを用いたスタンパの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which does not require prebake in a process of forming a resist film and has high sensitivity and proper pattern-forming properties.例文帳に追加

レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a refined pattern of excellent shape by eliminating residual matter (imperfect melting) in developing a positive type resist by immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィ法によるポジ型レジストの現像時の残渣物（溶け残り）を解消して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition excellent in various characteristics such as resolving power, margin for exposure, edge roughness of a pattern and density dependence.例文帳に追加

解像力、露光マージン、パターンのエッジラフネス、疎密依存性の諸特性に優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition which is superior in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and can stably form a high precision fine pattern.例文帳に追加

ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and excellent in low temperature preservability.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に低温保存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SUBSTRATE HAVING INTEGRATED CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT FORMED ON ONE SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成された基板製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN, RESIN PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

樹脂の製造方法、その製造方法によって製造された樹脂、その樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The surroundings of the negative electrode 4 and the pattern of the electron injection blocking layer 10 are enclosed by a luminous material layer 2, and its outside is surrounded by a positive electrode 6.例文帳に追加

陰極４および電子注入阻止層１０のパターンの周囲は、発光材料層２により囲まれ、その外側は陽極６により囲まれている（b）。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING POLYMER, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION COMPRISING POLYMER PRODUCED BY THE METHOD AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

重合体の製造方法、その製造方法によって製造された重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

When a mask pattern having the angle of 90° on the end surface is formed, a positive resist is over-exposed by using a binary mask shown in (c).例文帳に追加

端面が９０°の角度を有するマスクパターンを形成しようとするとき、（ｃ）に示すような２値化マスクを使用し、ポジ型レジストをオーバ露光する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power and ensuring reduced development defects and improved rectangularity of a pattern.例文帳に追加

高感度で高解像力を有し、現像欠陥およびパターンの矩形性が改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a compound for preparing a chemically amplified positive photoresist composition to give patterns having high resolution and good pattern profile.例文帳に追加

優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin forming excellent fine overcrowded or isolated pattern, and excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and a positive-type photoresist composition.例文帳に追加

微細な密集、孤立パターンを良好に形成し、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

One shot-form of exposure treatment is made to be rectangular, and one dimension is made (a)times as long as a chip pattern dimension (however, (a) is a positive integer of 2 or larger).例文帳に追加

露光処理の１ショットの形状を矩形状とし、その一方の寸法をチップパターンの寸法のａ倍（ただし、ａは２以上の正の整数）とする。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of giving a pattern with a high rate of a residual film and to provide a semiconductor device using the resin composition.例文帳に追加

高感度で高残膜率のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁

Lugs 18 of a positive electrode plate 1 and a negative electrode plate 2 are put between the comb-shaped teeth of the mold, after which additional lead forming a pattern of an electrode pole 9 and a strap 6 is placed.例文帳に追加

そして、前記金型のくし歯の部分に、正極板1や負極板2の耳部18を挟んだ後、極柱9とストラップ6の原型となる足し鉛を置く。 - 特許庁

To provide positive and negative chemically amplified resist compositions, having high resolution and high sensitivity and giving a resist pattern of superior shape.例文帳に追加

高解像性及び高感度を有し、かつ優れた形状のレジストパターンを与えるポジ型及びネガ型の化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having improved storage stability, capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good heat resistance.例文帳に追加

引置き安定性が改善され、高コントラスト薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な耐熱性のポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent sensitivity and resolution, hardly generating development residue or development defect and exhibiting excellent shape of pattern profile.例文帳に追加

感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The shape of the positive electrode film 14 is formed into a prescribed pattern so as to be used as a standard for adjusting the secondary image focusing optical system.例文帳に追加

陽極膜１４の形状を所定のパターンに形成しておくことにより、二次結像光学系の調整のための標準として用いることができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive positive resin composition excellent in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution to stably form a high-precision fine pattern.例文帳に追加

ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

FORMING METHOD OF POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LCD MANUFACTURE WITH INTEGRATED CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PART FORMED ON ONE SUBSTRATE, AND RESIST PATTERN例文帳に追加

１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成されたＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition which achieves reduction in development defects and combines the reduction with lines with roughness (LWR), and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

現像欠陥が低減され、かつ良好なラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）との両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post-exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To prepare a photosensitive resin compsn. contg. a polyimide precursor, developable with an aq. alkali soln. and having positive pattern forming ability.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体からなる感光性樹脂組成物とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor developable with an aqueous alkali solution and having positive type pattern forming ability, and a method of stably producing the polyimide precursor.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体とこのポリイミド前駆体を安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁

A light shielding film 3 having a prescribed pattern is formed on a transparent substrate 2 and a positive photoresist 7 is coated on the light shielding film 3 of the transparent substrate 2.例文帳に追加

透明基板２の上面に所定パターンの遮光膜３を形成し、透明基板２の遮光膜３上にポジ型フォトレジスト７を塗布する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having excellent resolution and edge roughness of line pattern and hardly causing developing defect in the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において解像力、ラインパターンのエッジラフネスに優れ、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat-resistant resin composition that is inexpensive, does not cause metal corrosion, and has positive type photosensitivity allowing pattern forming in alkali aqueous solution.例文帳に追加

安価で、金属コロージョンを引き起こさず、アルカリ水溶液にてパターン形成が可能なポジ型の感光性を有する耐熱性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having improved exposure margin and defocus latitude in the resolution of a contact hole pattern.例文帳に追加

コンタクトホールパターン解像における露光マージン及びデフォーカスラチチュードが改善された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

When the accelerator pedal is off with the sign of the torque command value being positive, the torque command value is changed down to zero following an attenuation pattern (steps S102-S106).例文帳に追加

アクセルペダルがオフにされた際に、トルク指令値の符号が正であるとき、減衰パターンに沿ってトルク指令値を０まで変化させる（ステップＳ１０２〜Ｓ１０６）。 - 特許庁

To provide a black polyimide composition having excellent positive photosensitive characteristics and good resolution during pattern formation and facilitating the production of a black matrix.例文帳に追加

ポジ型感光特性に優れてパターン形成時の解像性が良好であり、ブラックマトリックスの製造を容易にする黒色ポリイミド組成物の提供。 - 特許庁

To provide the photosensitive resins composition composed of a polyimide developable in an aqueous alkaline solution and capable of forming a positive pattern and its manufacturing method.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミドからなる感光性樹脂組成物とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition using a high molecular polybenzoxazole precursor soluble in an aqueous alkali solution and having positive pattern forming capability.例文帳に追加

アルカリ水溶液に可溶なポジ型パターン形成能を有する高分子量のポリベンゾオキサゾール前駆体を用いた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which prevents deformation of a resist pattern in a high temperature postbaking process and which decreases the degassing amount during high temperature heating.例文帳に追加

高温ポストベーク工程におけるレジストパターンの変形を防止できるとともに、高温加熱時の脱ガス量を低減させることができるようにする。 - 特許庁

In this case, it is so arranged that the wire 2 can move in either direction of the positive direction and reverse direction, by changing the vibration pattern of the vibrator 6 by the selection of the current application pattern to each electrode of the vibrator 6.例文帳に追加

この場合、振動体６の各電極への通電パターンの選択により振動体６の振動パターンを変更して、ワイヤー２を正方向と逆方向のいずれの方向にも移動し得るようになっている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that has a hydrophobic property during exposure, has a characteristic in which the hydrophilic property of a resist film surface becomes high during development, and forms a favorable resist pattern, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

露光時に疎水性を有し、かつ、現像の際にレジスト膜表面の親水性が高くなる特性を有し、良好なレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a positive resist composition suitable for multiple exposures, ensuring that in the multiple exposure process of performing exposure a plurality of times on the same resist film, the pattern is reduced in the film loss.例文帳に追加

同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターンの膜減りを抑えられる、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

A positive- type photosensitive material pattern 7a, whose thickness in the peripheries of the openings of the pattern 3a becomes continuously smaller the closer toward the openings it is formed by development and hardening (E).例文帳に追加

現像処理及びハードニング処理により、遮光膜パターン３ａの開口部分周辺の膜厚が開口部分に近づくにつれて連続的に薄くなるポジ型感光性材料パターン７ａを形成する（Ｅ）。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses collapse of a resist pattern and degradation of its profile due to post exposure between exposure and PEB (post exposure bake) at the time of immersion exposure, and also to provide a method of pattern formation with the composition.例文帳に追加

液浸露光時の、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound capable of forming a resisit pattern that has a high resolusion property and high photographic sensitivity, and whose collapse is protected, to provide a positive-type resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition excellent in storage stability and having high-sensitivity positive lithography performance, a method for producing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加

保存安定性に優れ、高感度なポジ型のリソグラフィー性能を有する新規な感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置の提供。 - 特許庁

The resist pattern-forming method includes steps of: forming a resist film on a support using the positive resist composition; exposing the resist film; and developing the resist film to form a resist pattern.例文帳に追加

支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

A multiplier determining section 12 determines a multiplier of a positive or negative value in response to a value of each bit included in a binary bit sequence for configuring a scramble pattern generated by a pattern generating section 11.例文帳に追加

パターン生成部１１にて生成されたスクランブルパターンを構成する２進数ビット列に含まれる各ビットのビット値に対応して、正値あるいは負値の乗算値を乗算値決定部１２によって決定する。 - 特許庁