「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, LOW-MOLECULAR COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物およびその製造方法、低分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a colored positive radiation-sensitive resin composition having high resolution in a colored cured resin pattern.例文帳に追加

着色硬化樹脂パターンにおいて、解像度の高いポジ型着色感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

低温ドライエッチング用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in depth-of-focus (DOF) characteristics and a resist pattern forming method.例文帳に追加

焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a ruler for an escargot skirt, enabling a user to make an escargot skirt in a properly designated escargot pattern fitted to the positive bias of a fabric.例文帳に追加

エスカルゴスカートが、布地の正バイヤスに合ったきちんと統一されたエスカルゴパターンになるようにすること。 - 特許庁

Also, its one side is directly connected to a positive power source pattern 9 of a circuit board, to be electrically conducted.例文帳に追加

また、その一端部は回路基板のプラス電源パターン９に直接接続され、電気的導通が図られている。 - 特許庁

The surroundings of the positive electrode 6 and the pattern of the hole injection blocking layer 3 are enclosed by a luminous material layer 2.例文帳に追加

陽極６およびホール注入阻止層３のパターンの周囲は、発光材料層２により囲まれている。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition excellent in shelf stability and giving a resist pattern free from development defects.例文帳に追加

保存安定性に優れ、現像欠陥のないレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Also the pattern electrodes may be formed via the photo-resists after forming the photo-resists of positive type on the piezoelectrics.例文帳に追加

また、前記圧電体にポジ型のフォトレジストを形成し、このフォトレジストを介してパターン電極を形成してもよい。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK USING THE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク - 特許庁

The polybenzoxazole resin can be obtained in a positive pattern by exposing the photosensitive resin composition and developing the exposed photosensitive resin composition.例文帳に追加

そして、感光性樹脂組成物を露光および現像してポジ型のパターンでポリベンゾオキサゾール樹脂を得る。 - 特許庁

To quickly discharge to a substrate positive and negative charge charged to a dummy pattern for CMP.例文帳に追加

ＣＭＰ用ダミーパターンにチャージした正の電荷と負の電荷の双方を、速やかに基板に放電できるようにする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive positive composition having a resolution capable of microfabricating a subquarter micron pattern and high sensitivity.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

To provide a method for forming a multi-resist pattern comprising a positive chemically amplified resist, and to provide a processing method of a functional material layer using the multi-resist pattern, and a multi-resist pattern structure.例文帳に追加

ポジ型の化学増幅型レジストからなる多重レジストパターンの形成方法、及びその多重レジストパターンを用いた機能性材料層の加工方法、並びに多重レジストパターン構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide a polyvalent phenolic material as a base material for a pattern forming material with which a pattern with high resolution and reduced line edge roughness (LER) can be formed, and to provide a positive resist composition and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

ＬＥＲの低減された高解像性のパターンが形成できるパターン形成材料の基材用の多価フェノール材料、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can form a fine resist pattern, which can control the taper angle of the resist pattern to a proper angle, and which can form a resist pattern excellent in the focal depth range.例文帳に追加

微細なレジストパターンを形成でき、該レジストパターンのテーパー形状の角度を適度な角度に制御でき、また焦点深度幅に優れるレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method of pattern formation using the composition, the positive resist composition improved in performances relating to a pattern profile, pattern falling and scum and excellent in a receding contact angle with an immersion liquid and water following-up property.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition improved in pattern shapes, PEB temperature dependency and exposure latitude, and to provide a pattern forming method using the positive photosensitive composition, in the positive photosensitive composition and a pattern forming method using the positive photosensitive composition to be used for production processes of semiconductors such as ICs, production of circuit boards for liquid crystals, thermal heads or the like, and other photofabrication processes.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法に於いて、パターン形状、ＰＥＢ温度依存性、露光ラチチュードが改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of highly satisfying all of line edge roughness (LWR), exposure latitude (EL), PEB temperature dependency and pattern collapse, and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ラインエッジラフネス（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）、ＰＥＢ温度依存性及びパターン倒れについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which does not produce scums during formation of a resist pattern and showing proper matching with a substrate, to provide a polymer compound which is to be used as a base material for the positive resist composition, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターン形成時においてスカムが発生せず、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition capable of forming a polyimide film that excels in transparency, has fine pattern forming capability and combines a low dielectric constant and high heat resistance, and to provide a manufacturing method of a positive type pattern.例文帳に追加

透明性に優れ、微細なパターン形成能を有し、且つ低誘電率及び高耐熱性を併せ持つポリイミド膜を形成することのできるポジ型感光性樹脂組成物及びポジ型パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having superior lithographic characteristics and suppressing film reduction during pattern formation, a polymer compound useful as a base component of the positive resist composition, a compound which is useful as a monomer, as well as, a method for forming a pattern.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、パターン形成時の膜減りが抑制されたポジ型レジスト組成物、ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、モノマーとして有用な化合物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, which uses a low molecular material as a base component and can form a high-resolution resist pattern, and a method for resist pattern formation, a compound suitable for the positive resist composition, and a dissolution inhibitor.例文帳に追加

基材成分として低分子材料を用いた、高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用として好適な化合物および溶解抑制剤を提供する。 - 特許庁

When a two-layer organic film of a positive type photosensitive resin composition and a positive type photoresist is processed, the positive type photosensitive resin composition is applied and dried on a substrate, the positive type photoresist is further applied and dried and the resulting two-layer organic film is exposed and developed to form a pattern.例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物とポジ型フォトレジストの２層有機膜であり、ポジ型感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥後、更に、その上にポジ型フォトレジストを塗布、乾燥させた後、露光、現像することによりパターンを形成する方法である。 - 特許庁

Pattern CAD data prepared for the actual pattern at a time when the reticle is manufactured are used as they are in this case, the inversion pattern can be manufactured simply when a resist in the case of the processing of a reticle pattern is inverted to a negative or positive state, and the number of processes is omitted and the reticle can be prepared efficiently.例文帳に追加

この場合には、レチクル作製時に実パターン用に作製したパターンCADデータをそのまま使い、レチクルパターン加工時のレジストをネガ、ポジ反転すれば簡単に反転パターンを作製でき、工程数を省け効率的なレチクル作製ができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a pattern forming method using the same having small line edge roughness even in the formation of a fine pattern, and having a wide defocus latitude even in various patterns such as a sparse or dense pattern, a line or trench pattern, and so forth.例文帳に追加

微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネスが小さく、疎又は密パターン、ライン又はトレンチパターンなど種々のパターンにおいてもデフォーカスラチチュードが広いポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new polymer compound which can be used as a substrate component for a positive resist composition, to provide a positive resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern, using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent lithography characteristic, a new high molecular compound useful as a base material component of the positive type resist composition, and also to provide a method of forming a resist pattern using the positive type resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER COMPOUND FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF THE POLYMER COMPOUND, COMPOUND FOR USE IN MANUFACTURE OF THE POLYMER COMPOUND, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法、該高分子化合物の製造に使用される化合物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having improved edge roughness of a pattern and an improved trailing shape on an inorganic substrate and giving an excellent resist pattern profile.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、無機基板上での裾引き形状も改良された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Both ends of a current conducting tester 12 are connected between a positive side and powder supply side conductor pattern 3 and an earth side conductor pattern 4 on the board 1 to apply a voltage between the patterns 3 and 4.例文帳に追加

プリント基板１の正極側電源側導体パターン３と接地側導体パターン４との間に対して、通電試験器12の両端を接続して電圧を印加する。 - 特許庁

The image forming apparatus is provided with the decolorizing function prints a negative image pattern 74, which takes printed information 72 by the decolorizable toner (S) as a positive image pattern on a printed face 71 of a paper sheet 66 using a transparent toner (T).例文帳に追加

用紙６６の印刷面７１に消色性トナー（Ｓ）による印字情報７２を陽画パターンとする陰画パターン７４を透明トナー（Ｔ）によって印字する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition using a low-molecular-weight resin as a base resin and capable of forming a high-resolution resist pattern, and to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

ベース樹脂として低分子量の樹脂を用いて高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a positive photosensitive resin composition having high sensitivity; a method for producing a cured relief pattern using the composition; and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加

高感度のポジ型感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in PEB temperature dependence, line edge roughness, exposure latitude and pattern profile, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＰＥＢ温度依存性、ラインエッジラフネス、露光ラチチュード、及びパターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

Every time the value of the step counter amounts to a multiple (12n : n=positive integer) of 12 (the number of steps corresponding to the movement of one pattern), the current display pattern data is incremented by one.例文帳に追加

そして、ステップ数カウンタの値が１２（１図柄の移動に応じたステップ数）の倍数（１２ｎ：ｎ＝正の整数）になる度に現在表示図柄データを＋１する。 - 特許庁

A wiring layer 6, having a predetermined pattern form according to a display pattern, is formed on a positive electrode board 2 constituting a part of an envelope of which inside is kept in a high-vacuum condition.例文帳に追加

内部が高真空状態に保持された外囲器１の一部をなす陽極基板２には、表示パターンに応じた所定パターン形状の配線層６が形成される。 - 特許庁

To provide a polymer capable of forming a resist pattern having a high resolution and exhibiting excellent etching resistance, a positive resist composition and a resist pattern-forming method.例文帳に追加

高解像性で、しかもエッチング耐性にも優れたレジストパターンを形成できる重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a high sensitivity chemically amplified positive resist composition capable of efficiently forming an ultrafine resist pattern faithful to a mask pattern and having a good section shape.例文帳に追加

マスクパターンに忠実で、断面形状の良好な超微細なレジストパターンを効率よく形成させることができる高感度化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for a solid state imaging device which is superior in developability and in pattern formation, produces highly refractive cured film, and forms a pattern with ease.例文帳に追加

現像性に優れ、パターン形成性に優れた、高屈折率の硬化膜を与える、パターン形成が容易なポジ型感光性の固体撮像素子用組成物を提供する。 - 特許庁

A response information comparison part 27 determines vulnerability when all response patterns for the negative response are not matched to every response pattern for the positive response pattern.例文帳に追加

レスポンス情報比較部２７は、ネガティブレスポンスに対する全てのレスポンスのパターンが、ポジティブレスポンスに対するどのレスポンスのパターンにも一致しない場合には脆弱性ありと判定する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is used as a second resist composition in the formation of a resist pattern through double patterning, and to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、第二のレジスト組成物として用いることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which can form a resist pattern good in shape and is preferable for use in manufacturing a system LCD, and provide a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

形状の良好なレジストパターンを形成でき、システムＬＣＤ製造用として好適なポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A wiring pattern 25 for positive electrode and a wiring pattern 26 for negative electrode of a light emitting module 21 are made principally of Ag, and are provided on a module substrate 22 as light reflecting surfaces.例文帳に追加

発光モジュール２１の正極用の配線パターン２５と負極用の配線パターン２６は銀を主成分とし、これらをモジュール基板２２上に設け光反射面とする。 - 特許庁

To obtain a positive radiation sensitive composition having such resolution as to enable sub-quarter micron patterning and also having high sensitivity and to provide a method for producing a resist pattern using the composition.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁