「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Thus, a line pattern is transferred onto a positive photoresist film on a semiconductor wafer.例文帳に追加

これにより、半導体ウエハ上のポジ型のフォトレジスト膜にラインパターンを転写する。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, ACID GENERATOR, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POLYIMIDE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ポリイミド組成物及びそれを用いたポリイミドパターンの形成方法 - 特許庁

POLYBENZOXAZOLE, ITS POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール及びそのポジ型感光性樹脂組成物、並びにパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION USED FOR METHOD例文帳に追加

レジストパターン形成方法及びそれに用いるポジ型感放射線性樹脂組成物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR INJECTION NOZZLE COATING METHOD AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition producing a pattern excellent in resolution.例文帳に追加

解像度に優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING SYSTEM LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND RELIEF PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、その製造方法、及びレリーフパターンの形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN-FORMING METHOD AND POSITIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION USED FOR THE SAME例文帳に追加

レジストパターン形成方法及びそれに用いるポジ型感放射線性樹脂組成物 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithographic characteristics, and a method for forming a resist pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POSITIVE PHOTOSENSITIVE DRY FILM, MATERIAL OBTAINED BY USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性ドライフィルム、その組成物を使用して得られる材料及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern of a good profile and a resist pattern forming method.例文帳に追加

良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition improved in pattern collapse and roughness performance and to provide a pattern forming method using the above composition.例文帳に追加

パターン倒れ、ラフネス性能が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a resist pattern with excellent resolution, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

解像力に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern excellent in resolution and a resist pattern forming method.例文帳に追加

解像性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which reduces falling of a pattern and surface roughness and dependence on the pattern density during etching.例文帳に追加

パターン倒れ、エッチング時の表面荒れ及び疎密依存性が軽減されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method capable of forming a resist pattern with reduced roughness.例文帳に追加

ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN USED FOR THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, COMPOUND USED FOR SYNTHESIS OF THE RESIN, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition for suppressing failure of a pattern, when resolving a minute pattern, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

微細なパターンを解像しようとするときのパターン倒れを抑制したポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a base material for a pattern forming material, a positive resist composition, and a method for forming a resist pattern which enable a pattern with reduced line edge roughness (LER) to be formed.例文帳に追加

ＬＥＲの低減されたパターンが形成できるパターン形成材料用基材、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the resist pattern for the alignment measurement for which the resist pattern is formed and then shrunk by heat flow, the resist pattern is formed of a plurality of line positive type patterns.例文帳に追加

レジストパターン形成後、熱フローによりシュリンクさせる合わせ測定用のレジストパターンにおいて、前記レジストパターンを複数のラインポジ型パターンで形成すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming both a high density pattern and an isolated pattern with good profiles even when an ultrafine resist pattern is formed.例文帳に追加

超微細なレジストパターンを形成する場合においても、密集パターン、孤立パターン共に形状良く形成できるポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in sensitivity and improved in exposure latitude, pattern collapse, pattern profile and line edge roughness of a line pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

感度に優れ、且つ、露光ラチチュード、パターン倒れ、パターンプロファイル、及びラインパターンのラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, from which a pattern having superior pattern strength, hardly causing pattern collapse and having high resolution and low line edge roughness can be formed, and to provide a method for producing a relief pattern and electronic components using the positive resist composition.例文帳に追加

パターン強度に優れ、パターン倒れが起こりにくく、かつ、高解像度で低ラインエッジラフネスのパターンを得ることができるポジ型レジスト組成物、当該ポジ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition with which a resist pattern having favorable resolution and suppressed cracks during plating can be formed and pattern thickening of the plating pattern can be improved, and to provide a method for forming a resist pattern by using the positive photoresist composition.例文帳に追加

解像性が良好で、メッキ時のクラックの発生が抑制されたレジストパターンが形成でき、メッキパターンのパターン太りを改善できるポジ型フォトレジスト組成物、及び該ポジ型フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

HIGH POLYMER AND POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE BASE MATERIAL, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

VISIBLE LIGHT SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁

HIGH MOLECULAR COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE RESIST MATERIAL例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING THIN FILM RESIST PATTERN FOR OBLIQUE IMPLANTATION PROCESS例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物および傾斜インプランテーションプロセス用薄膜レジストパターンの形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE GLASS PASTE COMPOSITION AND BAKED MATTER PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ガラスペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン形成方法 - 特許庁

POLYMER AND POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN THEREWITH例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERN CURED FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 - 特許庁

To provide a lift-off positive resist composition capable of forming a fine lift-off pattern.例文帳に追加

微細なリフトオフ用パターンを形成できるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high sensitivity and excellent in pattern shape.例文帳に追加

高感度かつパターン形状の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithographic properties and resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁