「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THIN FILM IMPLANTATION PROCESS AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

薄膜インプランテーションプロセス用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, SUBSTRATE WITH PHOTOSENSITIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびポジ型感光性樹脂のパターン形成法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR NON-SPIN COAT SYSTEM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ノンスピン塗布方式用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ULTRAVIOLET SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型感熱性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF PATTERN FORMATION WITH THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR DIPPING EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL ELEMENT AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM OR EUV, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYIMIDE COPOLYMER, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ポリイミド共重合体、ポジ型感光性樹脂組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

多層レジスト用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR EUV EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

ＥＵＶ露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE POSITIVE COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

COMPOUND, POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

In a solid electrolytic capacitor 10, each positive electrode terminal pattern 42A (and each positive electrode terminal 43A) is connected to a positive electrode part 24 of a capacitor element 12 through a positive electrode via 44A formed at a substrate 14 and a positive electrode pattern 38D formed at an element mounting surface 14a.例文帳に追加

本発明に係る固体電解コンデンサ１０においては、各陽極端子パターン４２Ａ（及び、各陽極端子４３Ａ）は、基板１４に形成された陽極ビア４４Ａと素子搭載面１４ａに形成された陽極パターン３８Ｄとを介して、コンデンサ素子１２の陽極部２４に接続される。 - 特許庁

To provide a patterning process in which a closely packed dot pattern and an isolated dot pattern are formed in one exposure using a positive resist film and which patterns are used to form a hole pattern by positive/negative reversal.例文帳に追加

ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition, a method of forming a pattern using the positive photosensitive resin composition, and a semiconductor device having a photoresist pattern obtained by the method of forming a pattern.例文帳に追加

ポジティブ型感光性樹脂組成物、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、パターン形成方法によって得られるフォトレジストパターンを有する半導体素子を提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING PATTERN ON SURFACE OF ARTICLE BY MEANS OF POSITIVE MICROCONTACT PRINTING例文帳に追加

ポジ型マイクロコンタクト印刷を使用して物品の表面にパターンを形成する方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR DISCHARGE NOZZLE TYPE COATING METHOD, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POLYPHENOL COMPOUND, COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感放射線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR FORMING PATTERN AND CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE PHOTORESIST USING SAME例文帳に追加

パタ—ン形成用樹脂組成物及びそれを用いた化学増幅型ポジ型ホトレジスト - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、薄膜パターンの製造方法及び半導体素子 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR DISCHARGE NOZZLE SYSTEM COATING METHOD AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POLYHYDRIC PHENOL COMPOUND, COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COATING LIQUID AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト塗布液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR PRODUCTION OF SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁