「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR FORMING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

フォトマスク製造用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パタ−ンの製造法および電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND RESIN USED FOR POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、それを用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂 - 特許庁

A positive disk includes a plurality of leg forms welded into the first pattern of recesses formed in the positive winding foils.例文帳に追加

正のディスクは、複数の脚部を有しており、これは正の巻付フォイルの凹部第１パターンに溶接される。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE THERMOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型感熱性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND, AND COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE ELECTRON BEAM RESIST COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型電子線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND THIN FILM TRANSISTOR ARRAY SUBSTRATE例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、パターン形成方法、及び薄膜トランジスタアレイ基板 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF RESIST PATTERN, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

サーマルフロー用化学増幅型ポジレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ポジティブ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法および半導体素子 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND, AND COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING NEW POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

新規なポジ型感光性樹脂組成物を用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR FABRICATING LCD AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING LCD, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOUND, RESIN AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、重合性化合物、樹脂及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND ION IMPLANTATION METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法及びイオンインプランテーション方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high resolution and giving a resist pattern of good rectangularity and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

高解像性で、矩形性の良好なレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of improving the standing wave of a side wall of a resist pattern and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

レジストパターン側壁のスタンディングウェーブを改善できるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Two kinds; a line pattern and a space pattern formed by a negative-to-positive reversal thereof are used as a dimensional inspection pattern to be used in a wafer process.例文帳に追加

ウェハプロセスで用いる寸法検査パタンとして、ラインパタンとこれをネガポジ反転したスペースパタンの２種類を用いるようにする。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithography characteristics and pattern shape, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition forming a resist pattern with high resolution, and to provide a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a resist pattern of a good profile and a method of forming resist pattern.例文帳に追加

良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method for forming a resist pattern with reduced line width roughness.例文帳に追加

ＬｉｎｅＷｉｄｔｈＲｏｕｇｈｎｅｓｓの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method, forming a resist pattern of a good shape.例文帳に追加

良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SYSTEM LCD, METHOD FOR PREPARING THE POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物、該ポジ型ホトレジスト組成物の調製方法及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIN FOR POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION USING THE SAME, LAMINATE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物用樹脂、およびこれを用いたポジ型レジスト組成物、積層体並びにレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a polymer compound, positive type resist composition and resist pattern forming method using the positive type resist composition.例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、並びに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION, BOARD WITH PHOTOSENSITIVE FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYAMIDEIMIDE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF LCD AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN PRODUCING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁