「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive radiation-sensitive resin composition which easily and efficiently forms a fine resist pattern without practically generating scum between parts of an insolubilized first resist pattern.例文帳に追加

不溶化処理された第一のレジストパターンの間にスカムをほとんど生じさせることなく、微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

An electrode pattern as a first layer including a black layer is formed on a transparent substrate, and a positive type photosensitive conductive film, is applied onto the electrode pattern, and the entire surface is exposed from the rear face of the substrate.例文帳に追加

透明基板上に黒色層を含む第1層の電極パターンを形成し、その上にポジ型感光性導電膜を塗工して、透明基板の裏面から全面露光することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high exposure sensitivity to i-line, forming a fine pattern free from peeling particularly in development and excellent in heat resistance, a method for producing a pattern using the composition and electronic parts.例文帳に追加

ｉ線に対する露光感度が高く、特に現像時に微細パターンの剥離の無い、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high exposure sensitivity even in a large film thickness, ensuring a good pattern shape and excellent in heat resistance, a method for producing a pattern and electronic parts having high reliability.例文帳に追加

本発明は、厚い膜厚でも露光感度が高く、パターンの形状も良好な、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has hydrophobicity suitable for the formation of a fine resist pattern and ensures excellent solubility of its exposed part in an alkali developer in development, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なレジストパターンの形成等に好適な疎水性を有し、現像処理時には、露光部がアルカリ現像液に対する溶解性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To form a high aspect etching pattern without being accompanied with positive-negative reverse or increasing the number of etching steps, to improve etching durability of a photoresist pattern and to prevent line thinning by electron beam irradiation.例文帳に追加

ポジネガ反転を伴うことなく、エッチング回数増なく、高アスペクトエッチングパターンを形成でき、また、フォトレジストパターンのエッチング耐性を向上させ、電子ビーム照射によるライン細りを防止できる。 - 特許庁

To provide: a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition; a compound useful as a monomer of the polymeric compound; a positive resist composition including the polymeric compound; and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition, a compound useful as a monomer of the polymeric compound, a positive resist composition including the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel polymer compound available as a base component of a positive resist composition; a compound useful as a monomer of the polymer compound; a positive resist composition including the polymer compound; and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive-type resist material, particularly a chemically-amplified, positive-type resist material, having a high resolution, margin of exposure, a small difference between sparse and dense dimensions, and process adaptability, surpassing those of conventional positive-type resist materials, furnishing a good pattern shape on exposure, and showing excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist material, in particular a chemically amplified positive resist material, which surpasses a conventional positive resist material, has high sensitivity, high resolution, exposure margin and process adaptability, ensures a good pattern shape after exposure and particularly small line edge roughness, and exhibits superior etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、特にラインエッジラフネスが小さく、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

A resist pattern shape improver comprising a steroid compound is incorporated into a positive type chemical amplification resist by 0.5-8 pts.wt. based on 100 pts.wt. resin for a resist in the positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

ポジ型化学増幅レジストに、ステロイド系化合物からなるレジストパターンの形状改善剤をポジ型化学増幅レジスト中のレジスト用樹脂１００重量部に対して０．５乃至８重量部含有させる。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING POLYMERIC COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which is exposed to active rays such as UV rays and formed into a film functioning as an insulating protective film on the surface of a semiconductor device, and also to provide a method for forming the positive pattern of the resin composition.例文帳に追加

紫外線等の活性光線にて露光が可能な、半導体素子表面に成膜され、絶縁保護膜となるポジ感光性樹脂組成物と、この樹脂組成物のポジ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A modulation signal generation part 109 generate a modulation signal on the basis of the modulation patterns read out from the modulation pattern storage parts 106 and 107 and the positive/negative decision result of the positive/ negative inversion decision part 108.例文帳に追加

変調信号生成部１０９は、変調パターン記憶部１０６、１０７から読み出された変調パターンと正負反転判定部１０８の正負判定結果に基づいて、変調信号を生成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition containing a new compound suitable for use as an acid generator for a resist composition, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition capable of forming a rectangular or nearly rectangular profile even after the formed pattern is baked.例文帳に追加

形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for a protective film capable of pattern formation by alkali development, having good heat resistance and keeping a foreign matter inconspicuous.例文帳に追加

アルカリ現像によるパターン形成が可能で、耐熱性および異物特性の良好な保護膜用感光性組成物が求められている。 - 特許庁

To provide a heat-resistant positive photosensitive resin composition having good sensitivity and resolution, and to provide a method for producing a pattern by the use of the composition.例文帳に追加

感度や解像度も良好な耐熱性のポジ型感光性樹脂組成物、上記組成物の使用による、パターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in preservability.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善し、経時保存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition having high resolution and useful as a chemically amplified resist excellent in a margin for pattern collapse.例文帳に追加

高解像度であり、且つパターン倒れマージンに優れた化学増幅型レジストとして有用なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high sensitivity and high resolution and ensuring a large angle of the side wall of a pattern after the resin is cured.例文帳に追加

高感度かつ高解像度であり、樹脂を硬化した後のパターン側壁の角度が高いポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in sensitivity and resolution and satisfies even a rectangular pattern shape and good edge roughness.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性をも満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition having good line edge roughness and a chemically amplified positive resist composition wherein the pattern is miniaturized in a reflow step.例文帳に追加

ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity, high resolution and excellent edge roughness of a line pattern.例文帳に追加

高感度かつ高解像度で、ラインパターンのエッジラフネスが優れた電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition allowing development with an alkaline aqueous solution and excellent in resolution, photosensitivity and pattern form even in the case of a thick film.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、厚膜でも解像度、感度、パターン形状に優れるポジ型の感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

ALKALI-SOLUBLE SILOXANE POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, ELECTRONIC CIRCUIT DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFYING POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, THICK FILM PHOTORESIST LAYERED BODY, METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING TERMINAL例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法 - 特許庁

A island-like film pattern 14a is formed on the surface of the positive electrode 12 exposed to an opening part H5 of the bank layer 13d.例文帳に追加

これにより、バンク層１３ｄの開口部Ｈ５に露出した陽極１２の表面に島状の膜パターン１４ａを形成することができる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which is improved in exposure latitude and line edge roughness performance, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能が改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To safely and inexpensively remove an unwanted region of a positive photoresist used for the pattern-forming of a metallic thin film without using thinner.例文帳に追加

金属薄膜のパターン形成に用いるポジタイプのフォトレジストを、シンナーを用いる事無くその不要領域を安全且つ低コストで除去する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having improved pattern profile, particularly, roughness without causing basic ability such as sensitivity and resolution to fall significantly.例文帳に追加

感度、解像度などの基本的な性能を大きく落とさずにパターンプロファイル、特にラフネスが改良されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polymer composition having high sensitivity and a favorable pattern profile and a favorable film remaining rate in an unexposed portion, to provide a method for manufacturing a relief pattern to obtain a pattern with high resolution and a preferable profile from the above composition, and to provide electronic parts with high reliability having the above relief pattern.例文帳に追加

本発明は、感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の感光性重合体組成物、該組成物により、解像度が高く、良好な形状のパターンが得られるレリーフパターンの製造方法、このレリーフパターンを有する信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which gives a photoresist forming a rectangular pattern in the production of a semiconductor device and ensures low edge roughness of a line pattern and a small dimensional shift in the transfer of a pattern to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、矩形形状のパターンを形成するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物をを提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be used suitably in a process using ArF excimer laser light as an exposure light source, which is superior in line edge roughness and free of pattern collapses, will cause no problem regarding development defects, and is superior in a pattern profile and exposure latitude, and to provide a method for forming a pattern that uses the composition.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The sum total of the intensity of the magnetization of a burst type of the servo pattern is made 0 by forming a DC signal part involved in the burst part of the servo pattern with a combination of positive and negative DC signal components and low-density dummy bits or a pattern shifted in its phase.例文帳に追加

サーボパターンのバースト部分に含まれる直流信号部分を、正と負の直流信号要素の組み合わせ、低密度のダミービット、もしくは位相をずらしたパターンで構成することにより、サーボパターンのバースト部分の磁化量の総和を０とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying the requirements of wide exposure latitude, reduction in line edge roughness, a desirable pattern configuration and dry etching resistance and giving a pattern with few defects after development, and to provide a method for forming a pattern by use of the above composition.例文帳に追加

広い露光ラチチュード、ラインエッジラフネスの低減、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good stability to PED (post-exposure delay) in vacuum.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent sensitivity and resolution, hardly generating development residue or development defect and exhibiting excellent shape of pattern profile.例文帳に追加

感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The shape of the positive electrode film 14 is formed into a prescribed pattern so as to be used as a standard for adjusting the secondary image focusing optical system.例文帳に追加

陽極膜１４の形状を所定のパターンに形成しておくことにより、二次結像光学系の調整のための標準として用いることができる。 - 特許庁

To provide a method for processing a positive type photosensitive resin composition by which a high sensitivity pattern is obtained at a high rate of a residual film even in thick film processing.例文帳に追加

厚膜加工においても高残膜率で高感度のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a copolymer for chemical amplification positive type semiconductor lithography, which has high developing contrast and excellent resolution in a fine pattern.例文帳に追加

現像コントラストが高く、微細パターンの解像性能に優れた、化学増幅ポジ型の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A 2nd compositing means 112 composites the image If and a negative positive inversion gray pattern image Id to obtain a 2nd synthetic texture image Ig.例文帳に追加

この拡大原テクスチャ画像Ｉｆとネガポジ反転グレイパターン画像Ｉｄとを第２の合成手段１１２により合成して第２合成テクスチャ画像Ｉｇを得る。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in light blocking effect, that is, having a high OD value and capable of forming a fine pattern with high dimensional accuracy.例文帳に追加

遮光性に優れ、すなわち高いＯＤ値を有し、微細パターンを精度良く形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁