「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface 1c of the reinforcing plate 1 exposed from a GaAs substrate 3 is covered with the mask jig 101 and coated when the rear 3b of the GaAs substrate 3 is coated with a positive resist 4 for forming a desired resist pattern.例文帳に追加

ＧａＡｓ基板３の裏面３ｂに所望のレジストパターンを形成するための、ポジ型レジスト４を塗布する際、ＧａＡｓ基板３から露出した補強板１の表面１ｃをマスク治具１０１で被覆して塗布する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition capable of giving a resist pattern excellent in section shape without generating resist residue when a semiconductor device is manufactured by a via first dual damascene process.例文帳に追加

ビアファーストのデュアルダマシン法により半導体デバイスを製造する場合に、レジスト残りを生じず、かつ断面形状に優れるレジストパターンを与えることができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The photosensitive resin composition is mainly composed of a polyimide precursor having a benzoxazole skeleton and a phenolic hydroxyl group, a vinyl ether compound and a photoacid generator, can be developed with an aqueous alkali solution, and has positive pattern forming capability.例文帳に追加

ベンゾオキサゾール骨格とフェノール性水酸基を有するポリイミド前躯体、ビニルエーテル化合物、光酸発生剤とを主成分とするアルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有する感光性樹脂。 - 特許庁

The contour information calculation means 131 to 134 calculate information for receiving image data to estimate a contour of a pattern as a continuous quantity with positive and negative directions with respect to the surrounding pixels pixel for each pixel.例文帳に追加

輪郭情報算出手段131〜134は、画像データを入力として絵柄の輪郭を推測するための情報を、画素ごとにその周囲の画素に対して正負の方向を持った連続量として算出する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used for microphotofabrication using far UV rays, in particular ArF excimer laser light and which eliminates problems of line edge roughness and pattern collapse.例文帳に追加

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、ラインエッジラフネス、パターン倒れの問題が解消されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

When three ICs are connected to a common pixel area, the conductor pattern for the middle IC is arranged such that the slope of the leftmost fan-out segment is positive and the slope of the rightmost segment is negative.例文帳に追加

三枚のＩＣが共通の画素領域に接続される時、一番左のファンアウト区間の傾きはプラスで、一番右のファンアウト区間の傾きはマイナスであるように、真ん中のＩＣの導線パターンを配置する。 - 特許庁

To provide a positive type silicone-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region with ArF or KrF as a light source in the production of a semiconductor device, having high resolving power and giving a resist pattern excellent in density dependency and margin for exposure particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコーン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

A voltage component for setting the harmonic components, included in the induced voltage in advance to a positive torque, is superposed on the application voltage of the motor 4 for operating the motor 4, and a waveform pattern (voltage (PWM) pattern) corresponding to the application voltage, when the operation efficiency is optimum, is obtained and stored in a ROM 10.例文帳に追加

予め誘起電圧に含まれる高調波成分を正トルクとするような電圧成分をモータ４の印加電圧に重畳してモータ４を運転し、この運転の最も効率のよいときの印加電圧に相当する波形パターン（電圧（ＰＷＭ）パターン）を求めてＲＯＭ１０に記憶している。 - 特許庁

A bright and dark display pattern, where bright display pixels and dark display pixels are alternately arrayed in horizontal and vertical directions by each pixel and a polarity pattern, where positive-polarity pixels and negative-polarity pixels are alternately arrayed in the horizontal and the vertical direction by every other pixel are combined to drive the liquid crystal display device.例文帳に追加

水平方向及び垂直方向に明表示画素と暗表示画素とが１画素毎に交互に配列する明暗表示パターンと、水平方向及び垂直方向に正極性画素と負極性画素とが２画素毎に交互に配列する極性パターンとを組み合わせて液晶表示装置を駆動する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is a photosensitive composition used in a process of producing a semiconductor of IC or the like, in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process, and which is excellent in line edge roughness, resolution and pattern profile, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、ラインエッジラフネス、解像力、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In an LED light source device, an LED chip having positive and negative electrodes formed on the same plane thereof is mounted on a flexible substrate having a wiring pattern so that the electrodes face the wiring pattern, and a light-transmissible substrate having smaller flexibility than the flexible substrate is provided on the LED chip.例文帳に追加

配線パターンを有する可撓性基板上に、同一面に正負の電極が形成されたＬＥＤチップが、前記電極が前記配線パターンに対向するように載置されており、前記ＬＥＤチップ上に前記可撓性基板よりも可撓性の小さい透光性基板を備えるＬＥＤ光源装置。 - 特許庁

When a Web browser 440 performs access to designated URL, whether URI as access destination is matched with a preliminarily stored pattern is determined (S1303), and when the determination result is positive, the information of a service provider 450 corresponding to the matched pattern is stored in the header part of HTTP request data, and transmitted (S1307).例文帳に追加

Ｗｅｂブラウザ４４０が指定されたＵＲＩにアクセスする際に、当該アクセス先となるＵＲＩが予め記憶されているパターンと一致するか否かを判定し（Ｓ１３０３）、一致する場合には、一致したパターンに対応するサービスプロバイダ４５０の情報をＨＴＴＰ要求データのヘッダ部分に格納して送信する（Ｓ１３０７）。 - 特許庁

To provide a resist composition giving a pattern having a smooth good surface free from foreign matter and rectangular good profile and also having a large focal depth in the case of an isolated pattern in lithography using a short-wavelength light source for exposure which enables ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、表面がスムーズで異物がない良好な表面を有し、かつ、矩形で良好なプロファイルを有するパターンが得られ、また、孤立パターンについて広い焦点深度を有するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type silicon-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source and having high resolving power in the production of semiconductor device and giving a resist pattern excellent in density dependency particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm and in margin for exposure.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The color filter is manufactured by forming a positive photoresist pattern 8 in the desired region on a substrate 1 comprising a coloring part 4 formed on a transparent substrate 2, forming a through hole 10 by exposing the pattern and forming the spacer 13 by filing a curable resin composition 12 in the through hole 10 from an inkjet head 11 and curing it.例文帳に追加

透明基板２上に着色部４を形成した基材１上の所望の領域に、ポジ型フォトレジストパターン８を形成し、パターン露光してスルーホール１０を形成し、該スルーホール１０にインクジェットヘッド１１より硬化型樹脂組成物１２を充填して硬化させ、スペーサー１３を形成する。 - 特許庁

This manufacturing method uses the photomask 7 which has a pattern A for diffuse reflection area formation formed inside and a transparent pattern B formed outside and the exposure is carried out after the surface of the substrate 1 is coated with the positive photoresist with which a light-absorbing material having light absorptivity in a sensitive wavelength range is mixed.例文帳に追加

この製造方法では、内側に拡散反射領域形成用パターンＡが外側に透明パターンＢが形成されたフォトマスク７を用い、基板１の表面上に感光波長域に対して吸光性を有する吸光性材料が混入したポジ型のフォトレジストを塗布してから露光を行う。 - 特許庁

The respective individual control parts 13-1-13n have a discrimination circuit 21 discriminating whether the fed voltage is positive or negative, and the guide signs corresponding to the individual control parts are controlled to be driven so as to light the guide signs 1-n by a lighting pattern and a display pattern according to the discriminated signals from the discrimination circuit 21.例文帳に追加

各個別制御部１３−１〜１３−ｎは、給電された電圧が正負いずれであるかを識別する識別回路２１を有し、識別回路２１からの識別信号に応じた点灯パターン及び表示パターンで誘導標１〜ｎが点灯するように、当該個別制御部に対応する誘導標を駆動制御する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to a far ultraviolet ray in which bridging for forming a developing defect or particularly line pattern and a trench pattern is reduced so as to perform a subject in a technique for improving an original performance of a microphotofabrication used for a far ultraviolet ray or particularly an ArF excimer laser beam.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、現像欠陥、特にラインパターン及びトレンチパターン形成におけるブリッジングを低減した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive acting resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes of manufacturing a VLSI and a high-capacity microchip and has excellent line edge roughness and further a positive acting resist composition which has superior resolving power, defocusing latitude, and an exposure margin in contact-hole pattern formation.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin eliminating difficulty of a conventional technique, used for fine pattern formation in semiconductor production, and enhancing resist sensitivity more than in conventional products, wherein an effect of reduction of a foreign matter or the like after development is expected, and also to provide a novel dithiol compound which is used suitably for production of the positive photosensitive resin.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりもレジスト感度を高めることができると共に、現像後の異物の低減等の効果が期待されるポジ型感光性樹脂、及び、このポジ型感光性樹脂の製造に極めて好適に用いることができる新規ジチオール化合物を提供する。 - 特許庁

Of the fluorescent display tube with a positive electrode layer pattern-formed by the photolithography method, the positive electrode layer is a calcined body of granular conductive metal powder and frit glass powder, with an average particle size of the former and the latter of 1 to 30 μm, each, and the former being granular aluminum metal powder.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によりパターン形成される陽極層を有する蛍光表示管であって、陽極層は粒状導電性金属粉末とフリットガラス粉末との焼成体であり、粒状導電性金属粉末とフリットガラス粉末の平均粒子径がそれぞれ１〜３０μｍであり、粒状導電性金属粉末が粒状アルミニウム金属粉末である。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied on the substrate and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order and the quantity of light in the second exposure is 0.3 to 15 times the quantity of light in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、基板上に塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．３〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method in which the positive type photosensitive resin composition is successively subjected to application, 1st exposure, development, 2nd exposure and heating, the quantity of light in the 2nd exposure is 2-15 times that in the 1st exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To suppress pattern peeling in the periphery of materials to be exposed even at the time of exposing the whole face of the materials to be exposed by using a positive photoresist.例文帳に追加

ポジ型フォトレジストを使用して被露光材を全面露光する場合も、被露光材の周辺でのパターン剥がれが抑制でき、これに伴うダストの問題等を解消したパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains two kinds of resins each of which has a repeating unit selected from among general formulas (1) to (6) and has solubility in an alkali developing solution increased by action of an acid, and the pattern forming method is also provided.例文帳に追加

下記一般式（１）〜（６）から選ばれる繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を２種類含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive resist composition effective to achieve the diminution of defects necessary for comprehensive quality control, excellent in sensitivity and resolution, causing no unevenness in coating and giving a good resist pattern shape.例文帳に追加

総合的な品質管理上必要なディフェクト低減を実現するのに有効で、しかも感度、解像度が優れ、塗布むらの発生がなく、良好なレジストパターン形状を与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In a photolithographic process when storage electrodes are formed, overexposure is made to light by using a positive type resist and a reticle having an inversion pattern where light transmitting regions outside patterns to be actually formed are made void patterns 1.例文帳に追加

蓄積電極形成時のフォトリソグラフィー工程において、ポジ型レジストを用い、実際に形成するパターンの外方の光透過領域が白抜きパターン１となった反転パターンを有するレチクルを使用して、オーバー露光を行う。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having sufficiently high sensitivity and resolving power in the production of a semiconductor device and in the formation of a contact hole pattern, less liable to produce particles in a resist solution and excellent in dependency on density.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a calixarene-based compound useful as a raw material of a substrate component contained in a radiation-sensitive composition which can form a chemistry amplification type positive resist film which can form a stabilized and highly precise fine pattern.例文帳に追加

高精度な微細パターンを安定して形成することができる化学増幅型のポジ型レジスト膜を形成可能な感放射線性組成物に含有される基材成分の原料として有用なカリックスアレーン系化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method capable of improving the sensitivity without deteriorating the resolution in lithography of a resist film with an ArF excimer laser, an F_2 excimer laser, an EUV, an electron beam, and the like.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。 - 特許庁

The pattern forming method in which the positive resist composition is used contains two kinds of resins containing specific repetitive units with alicylic groups, and (B) compound generating an acid upon being irradiated with active rays or radiation rays.例文帳に追加

脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which has excellent photosensitive characteristic, can be developed with an aqueous alkali solution, ensures sufficiently small shrinkage upon curing, and forms a resist pattern having excellent adhesion and thermal shock resistance.例文帳に追加

優れた感光特性を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、硬化に伴う収縮が十分に小さく、且つ、形成されるレジストパターンが優れた密着性及び耐熱衝撃性を有するポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

By exposure, magenta particles 24 are electrified into positive charges and move in the direction to the second substrate 18 so that the magenta particles 22 appear with white insulating particles 26 as the background along the exposure pattern based on the image data.例文帳に追加

露光によりマゼンタ色の粒子２４はプラスに帯電し、第２の基板１８の方向に移動するので、画像データに基いた露光パターンに沿って、マゼンタ色の粒子２２が、白色絶縁性粒子２６を背景として現れる。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film suitable for use in the production of a connecting terminal, etc., having a high film retention in development, and excellent in resolution, and a method for producing a thick film resist pattern.例文帳に追加

接続端子などの製造に好適に用いることができ、かつ現像時の残膜率が高く、解像性に優れた厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in resolution, developability, heat resistance, pattern shape, margin for exposure and focus latitude, having good balance of these characteristics and suitable for use as a positive type resist.例文帳に追加

本発明は、解像度、現像性、耐熱性、パターン形状、露光マージン及びフォーカス許容性の各特性に優れるとともに、これらの特性のバランスが良く、ポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an undercoating resin composition which counteracts the effects of the surface of a mask blank and imparts a rectangular cross-sectional shape to a pattern of a positive type chemical amplification type pbotosensitive resin composition and a method for producing a resist image.例文帳に追加

マスクブランクスの表面の影響を打ち消し、ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物のパターンの断面形状を矩形に現出させることができるアンダーコート樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, the application, 1st exposure, development, 2nd exposure and heating of the positive type photosensitive resin composition are successively carried out and the quantity of light in the 2nd exposure is 2-15 times that in the 1st exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition providing a cured film cured at a low temperature, the cured film which is by no means inferior to a film cured at a high temperature and exhibits excellent chemical resistance against various kinds of organic solvents, and to provide a production method of a pattern, and electronic components.例文帳に追加

低温硬化後の硬化膜が、高温で硬化したものと遜色なく、種々の有機溶媒に対して優れた薬品耐性を示すポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

When the differential accumulated value becomes a negative value, on the other hand, an instruction is applied from the multiplex control part 8 to the MUX 4, and a flag pattern is repeatedly inserted until the differential accumulated value returns to a positive value.例文帳に追加

一方差分集計値が負の値になった場合には、多重化制御部８から多重部（ＭＵＸ）４に指示を与えてフラグ・パターンを差分集計値が正の値に復帰するまで繰り返し挿入させるようにしたものである。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in this order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

A pattern to be the liquid flow path to be formed on a substrate 2011 with a heater is formed by a positive photosensitive material in a two-layered structure of upper and lower layers, with the lower layer used for forming the liquid flow path after being thermally crosslinked.例文帳に追加

ヒーターを形成した基板２０１１上に形成する液流路となる型パターンを、下層及び上層の２層構造にポジ型感光性材料から形成し、下層については熱架橋化してから液流路の形成に用いる。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern, deposits no insoluble matter in the preparation of a resist solution or after storage, is excellent in dependency on density and can reduce a sensitivity change after storage.例文帳に追加

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order, and it is characterized in that the quantity of light in the second exposure is 2-15 times that in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁