| 例文 |
appliabilityを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 4件
When the mixture is further mixed with a proper quantity of porous fine sand if necessary, the appliability and hygroscopicity are enhanced.例文帳に追加
必要に応じ多孔質細砂を適量混合することで塗布性と吸湿性を向上できる。 - 特許庁
To provide a resist material having good appliability, suppressing the generation of micro-bubbles in a solution and less liable to cause various defects that cause the lowering of yield in a device process and to provide a pattern forming method.例文帳に追加
塗布性が良好で、溶液でのマイクロバブルの発生を抑え、しかもデバイス工程での歩留まり低下を引き起こす各種欠陥の発生が少ない、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To enhance performance and to solve technical problem in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies characteristics such as sensitivity, resolution, resist shape, development defects and appliability in the use of electron beams or X-rays.例文帳に追加
電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能の向上及び技術課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度、解像度、レジスト形状、現像欠陥、及び塗布性の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁
To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies characteristics such as sensitivity and resolution in the use of electron beams or X-rays, resist shape, development defects, appliability and solubility in a solvent.例文帳に追加
電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状、現像欠陥、塗布性及び溶剤溶解性の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
| 例文 |
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