「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION PROCESS例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

AMINE COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

アミン化合物、化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, ANTIREFLECTION FILM MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、反射防止膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER, AND COMPOUND例文帳に追加

フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMERIZABLE COMPOUND, ITS PREPARATION PROCESS, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ケイ素含有重合性化合物、その製造方法、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, PATTERN FORMATION METHOD AND NEW TETRAHYDROFURAN COMPOUND WITH ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料、パターン形成方法、及び新規テトラヒドロフラン化合物とその製造方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING CYCLIC COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND AND RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素環状化合物、含フッ素高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合性化合物、高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NOVEL EPOXY COMPOUND HAVING ALICYCLIC STRUCTURE, POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

脂環構造を有する新規エポキシ化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID-FORMING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

SILICONE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOE FORMING PATTERN例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁

COMPOUND, DISSOLUTION INHIBITOR, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁

HIGH MOLECULAR COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND HIGH-MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

HIGH MOLECULAR COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

HIGH-MOLECULAR COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, HIGH MOLECULAR COMPOUND AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

SILOXANE COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

シロキサン化合物、これを含むフォトレジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING HIGH POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁

PHOTOACTIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光活性化合物及び感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁