「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern material 4 is added to the resin compound 3 for manufacturing the artificial marble and the resulting composition is molded to manufacture the artificial marble.例文帳に追加

人造大理石製造用樹脂コンパウンド３に柄材４を入れて成形する人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND USED FOR THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

Therefore, preferably, the reflection prevention film pattern 125 is formed of an organic substance containing a hydrocarbon-based compound.例文帳に追加

このために、反射防止膜パターン１２５はハイドロカーボン系化合物を含む有機物質で形成することが望ましい。 - 特許庁

NEW N-SULFONYLOXYDICARBOXYIMIDE COMPOUND, PHOTO ACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

新規Ｎ−スルホニルオキシジカルボキシイミド化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND USED FOR THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND USED IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING ALICYCLIC UNSATURATED COMPOUND, POLYMER THEREOF, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

フッ素含有脂環式不飽和化合物、重合体、化学増幅レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEW N-SULFONYLOXYDICARBOXIMIDE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

新規Ｎ−スルホニルオキシジカルボキシイミド化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a new compound to be included in a resist composition giving a pattern having excellent line edge roughness.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物に含まれる新規化合物を提供する。 - 特許庁

A pachinko machine 1 generates a ready-to-win state by displaying compound picture patterns stopped and displayed on picture pattern display areas 122a-122c while dividing them and by displaying ordinary picture patterns divided from the compound picture patterns on the other picture pattern display areas while stopping them.例文帳に追加

パチンコ機１は、図柄表示領域１２２ａ〜１２２ｃに停止表示された複合図柄が分裂表示され、複合図柄から分裂した通常図柄が他の図柄表示領域に停止表示されることによって、リーチを発生させる。 - 特許庁

In this wire formation method, a pattern surface of a stamper 13 used for an imprint method is covered with a barrier film formation compound 14, and a decomposition/transfer process of the barrier film formation compound 14 is performed while pressing the pattern surface of the stamper 13 against a resin film 12 applied onto a substrate 11.例文帳に追加

インプリント法に用いるスタンパ１３のパターン面をバリア膜形成化合物１４で被覆し、スタンパ１３のパターン面を、基板１１上に塗布された樹脂膜１２に押し当てつつ、バリア膜形成化合物１４の分解・転写処理を行う。 - 特許庁

This thermal transfer sheet using a titanium-based material is obtained by forming a pattern of proper form of a compound formulated with a titanium-based compound in a thermoplastic organic binder on a surface of a heat resistant sheet 11 as an activator layer 12 of a dotted pattern having an optional space.例文帳に追加

チタン系素材熱転写シートは、耐熱性シートの一面に対して、熱可塑性有機バインダにチタン系素材を配合した成分による適宜形状の模様が、任意間隔で点在する散点状模様の活物質層として形成される。 - 特許庁

To provide: a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition; a compound useful as a monomer of the polymeric compound; a positive resist composition including the polymeric compound; and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition, a compound useful as a monomer of the polymeric compound, a positive resist composition including the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel polymer compound available as a base component of a positive resist composition; a compound useful as a monomer of the polymer compound; a positive resist composition including the polymer compound; and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that forms a resist pattern of favorable shape that exhibits excellent resolution and reduced line width roughness (LWR), a polymeric compound that can be used as a base component of the positive resist composition, a compound that can be used in synthesizing the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

解像性に優れ、ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の合成に利用できる化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a polymeric compound which is excellent in solubility in an organic solvent and exhibits good lithography characteristics, a positive resist composition using the polymeric compound, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

有機溶剤への溶解性に優れ、良好なリソグラフィー特性を示す高分子化合物、当該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound enabling utilization for a resist composition and a positive resist composition containing the compound and to provide a method for forming a resist pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用としての利用が可能な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The resist pattern improving material contains at least any one of a compound represented by general formula (1) and a compound represented by general formula (2), and water.例文帳に追加

下記一般式（１）で表される化合物、及び下記一般式（２）で表される化合物の少なくともいずれかと、水とを少なくとも含有するレジストパターン改善化材料である。 - 特許庁

To provide a polymeric compound useful for a positive resist composition, a positive resist composition including the polymeric compound, and a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The surface mirror pattern of compound eyes is formed on the surface of the objective body to prevent reflection of light by pressing the surface of compound eyes of arthropods to the surface of the objective body.例文帳に追加

節足動物の複眼の表面を、光の反射を防止すべき物体の表面に押しつけることにより、物体の表面に複眼の表面の鏡像の形状を形成する。 - 特許庁

The clear coating film containing the silicone compound or the polyfluorocarbon chain-containing compound is formed by spray coating or flexographic printing so as to have a pattern using coating properties.例文帳に追加

シリコーン化合物やポリフルオロカーボン鎖含有化合物を含有するクリア塗膜は、スプレー塗装またはフレキソ印刷によって塗料性状を利用しパターン模様化させて形成する。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a component of a positive resist composition, a monomer thereof, a positive resist composition including the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の成分として有用な新規な高分子化合物、そのモノマー、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a polymeric compound useful for a positive resist composition, a positive resist composition including the polymeric compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a new high molecular compound as a substrate component of a resist composition, a monomer thereof, a resist composition containing the high molecular compound, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として新規な高分子化合物、そのモノマー、及び当該高分子化合物を含有するレジスト組成物とそれを用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an organic compound synthesizing apparatus and a substrate for organic compound synthesis capable of coping easily with a pattern change, and having a chemical substance in a spot having excellent uniformity.例文帳に追加

パターン変更に容易に対応可能であるとともに，スポット内の化学物質の均一性に優れる有機化合物合成装置および有機化合物合成用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid-generating agent for a resist composition, an acid-generating agent consisting of the compound, a resist composition containing the acid-generating agent and a method for producing a resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition used for fine pattern formation such as a semiconductor production, etc. and having higher sensitivity than those of conventional ones and improved with pattern collapse, a polymer compound used for the positive type photosensitive composition, a method for producing the polymer compound and a method for forming the pattern by using the positive type photosensitive composition.例文帳に追加

半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも、高感度で、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, the curing speed of either one of the gel coat layer 8 and the pattern layer 9 is controlled at the time of injection of the resin compound to change the formed pattern.例文帳に追加

上記樹脂組成物注入時にゲルコート層８単独又は柄付け模様層９単独でその硬化速度をコントロールすることにより、上記形成した柄付け模様を変化させる。 - 特許庁

To provide a resist composition which is excellent in resolution and has good lithography properties and a good pattern profile and a method for forming a resist pattern and a polymer compound useful as the resist composition.例文帳に追加

解像性に優れ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

To make the deterioration of the shape of a resist pattern reducible even when an antireflection film comprising an organic compound and having a large thickness is dry-etched with the resist pattern as a mask.例文帳に追加

有機化合物からなり大きい膜厚を有する反射防止膜に対してレジストパターンをマスクにしてドライエッチングを行なっても、レジストパターンの形状劣化を低減できるようにする。 - 特許庁

By a liquid phase deposition method (LPD), a dielectric film is not deposited on a resist pattern but selectively deposited on a gallium nitride compound semiconductor layer on which no resist pattern is formed.例文帳に追加

液相堆積法（ＬＰＤ）により、誘電体膜を、レジストパターン上には堆積させず、レジストパターンが形成されていない窒化ガリウム系化合物半導体層上に選択的に堆積させる。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME COMPOSITION, AND COMPOUND USED IN THE SAME COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁

The transistor Q1 and the laminated compound parts are mounted on the substrate and required circuit wirings are conducted by the conductive pattern.例文帳に追加

トランジスタＱ１、及び、積層複合部品５は基板１５に搭載され、導体パターンにより、所要の回路結線が行われている。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE HIGH MOLECULAR COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND PRODUCTION OF CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

感光性高分子化合物，感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法および陰極線管の製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁

A printed substrate 100, which is formed by printing a pattern on a non-conductive substrate using a metal-compound solution, is prepared beforehand.例文帳に追加

金属化合物溶液を用いて非導電性の基材にパターン印刷して生成した印刷物１００を予め準備する。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND CONTAINING SULFONIUM SALT, RESIST MATERIAL, PATTERN FORMING METHOD, SULFONIUM SALT MONOMER, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

スルホニウム塩を含む高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法、並びにスルホニウム塩単量体及びその製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁

SETTING METHOD AND DEVICE OF TARGET COMPOUND COLOR SCREEN DENSITY OF PRINTING MACHINE AND CONTROLLING METHOD AND DEVICE OF COLOR TONE OF PATTERN OF PRINTING MACHINE例文帳に追加

印刷機の目標混色網濃度設定方法及び装置並びに印刷機の絵柄色調制御方法及び装置 - 特許庁

PHOSPHORUS-CONTAINING COMPOUND, RESIN COMPOSITION BY USING THE SAME, METHOD FOR FORMING PHOTO SENSITIVE FILM AND RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

リン含有化合物及びこれを用いた樹脂組成物、並びに、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

A white-base thin sheet 3 having fine concave and convex 2 on the surface is formed by a resin compound 1 for manufacturing pattern materials.例文帳に追加

柄材製造用樹脂コンパウンド１を用いて表面に微細凹凸２を有する白色系の薄板シート３を形成する。 - 特許庁

The resist composition for forming a fine pattern includes an oxime sulfonic acid compound expressed by general formula (1).例文帳に追加

下記一般式（１）で表されるオキシムスルホン酸化合物を含有することを特徴とする微細パターン形成用レジスト組成物。 - 特許庁

The cleaning liquid contains acetic acid, inorganic acid, a fluorine compound, and deionized water, and the method for forming a metallic pattern uses the same.例文帳に追加

酢酸、無機酸、フッ素化合物、及び純水を含む洗浄液及びこれを用いた金属パターンの形成方法である。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND FOR USE IN POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁