「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a new polymer compound and a resist composition and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

新規な高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

METAL OR METAL COMPOUND PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

金属または金属化合物パターンの製造方法および金属または金属化合物パターン - 特許庁

PHOTO ACID GENERATING AGENT COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光酸発生剤化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, AND PATTERN FORMING METHOD USING STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感刺激性組成物、化合物及び感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCING PROCESS例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 - 特許庁

METHYLENEDIOXOLANE COMPOUND, ACTINIC RAY COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

メチレンジオキソラン化合物、それを用いた活性エネルギー線組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

MONOMER HAVING NAPHTHALENE RING, POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

ナフタレン環を有する単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, IMMERSION EXPOSURE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

含フッ素化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

THERMOPLASTIC COMPOUND RESIN COMPOSITION AND GRAIN TONE PATTERN RESIN COMPOSITION OBTAINED BY MOLDING THE SAME例文帳に追加

熱可塑性複合樹脂組成物および、これを成形してなる木目調樹脂成形品 - 特許庁

SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, AND COMPOUND INSPECTION METHOD OF PATTERN BY USING IT例文帳に追加

走査型電子顕微鏡、および走査型電子顕微鏡を用いたパターンの複合検査方法 - 特許庁

FLUORINE CONTAINING SILICONE COMPOUND, SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

含フッ素ケイ素化合物、シリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

CARBOXY GROUP-HAVING LACTONE COMPOUND, POLYMER, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

カルボキシル基を有するラクトン化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PROCESSING BOARD例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及び基板の加工方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD, POLYMER AND COMPOUND OF THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

HIGH MOLECULAR COMPOUND AND POSITIVE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE STIMULUS-SENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

HIGH MOLECULAR COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE RESIST MATERIAL例文帳に追加

高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING FLUORINE-CONTAINING COMPOUND LAYER LAMINATED FILM AND SUBSTRATE WITH SURFACE LIQUID REPELLING PATTERN例文帳に追加

含フッ素化合物層積層フィルム及び表面撥液性パターン付き基板の製造方法 - 特許庁

CHEMICAL COMPOUND FOR PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光酸発生剤用化合物及びそれを用いたレジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁

MULTIOXYGEN-CONTAINING COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

多酸素含有化合物、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN AND POLYMERIZABLE COMPOUND, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、樹脂および重合性化合物、それを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加

環式化合物、フォトレジスト組成物、およびフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、それに用いる化合物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN FORMING METHOD AND ACID DECOMPOSABLE KETOESTER COMPOUND例文帳に追加

ポジ型化学増幅レジスト材料、パターン形成方法及び酸分解性ケトエステル化合物 - 特許庁

The first molding compound is formed from a patterned molding compound and the second molding compound comprises a pattern-free molding compound low in flow resistance energy as compared with the first molding compound and positioned on the rib side.例文帳に追加

前記第１の成形材料が柄入り成形材料で形成され、前記第２の成形材料が柄無し成形材料で第１の成形材料より流動抵抗エネルギーが小さくかつリブ側に位置することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a novel fluorine-containing compound that suppresses occurrence of defects in resist pattern formation, and a polymer compound comprising the fluorine-containing compound as a monomer unit thereof.例文帳に追加

レジストパターン形成におけるディフェクトの発生を抑制できる、新規な含フッ素化合物、および該含フッ素化合物をモノマー単位とする高分子化合物を提供する。 - 特許庁

The surface treatment agent for forming a resist pattern contains a compound having two or more aziridinyl groups and polymer or oligomer inactive to the compound and the resist pattern.例文帳に追加

二つ以上のアジリジニル基を有する化合物、及び該化合物とレジストパターンに対して不活性なポリマーまたはオリゴマーを含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND AND POSITIVE RESIST COMPOSITION USING THE HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物 - 特許庁

The cyclic compound has a specific structure and the radiation-sensitive composition includes the compound, and the resist pattern-forming method uses the composition.例文帳に追加

特定構造を有する環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

A metallic compound solution 13 is stuck to a surface of a base substrate 14 to fix a metallic compound pattern 16 to the surface of the base substrate 14, and then, a reducing agent 17 is used to reduce the metallic compound pattern 16 to produce a solid metallic pattern 18.例文帳に追加

金属化合物溶液１３を基体１４の表面に付着させることにより金属化合物のパターン１６を基体１４表面に固定し、次に還元剤１７を用いて金属化合物パターン１６を還元することにより、固体金属のパターン１８を生成する。 - 特許庁

Then it is decided whether a candidate word is a compound word and when the candidate word is a compound word, a meter automatic generation portion 37 estimates variation of each meter pattern of the candidate word to estimate a meter pattern of the compound word.例文帳に追加

次に、候補単語が複合語であるか否かを判定し、候補単語が複合語である場合、韻律自動生成部３７において候補単語の各韻律パターンの変化を推定して複合語の韻律パターンを推定する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND RESIN USABLE THEREFOR, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物、それに用いる化合物および樹脂、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

HIGH-POLYMER COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

高分子化合物、これを用いた感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

含フッ素高分子化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

A pattern forming method forms a resist film 102 containing the quencher of a basic compound, on a substrate 101.例文帳に追加

基板１０１の上に、塩基性化合物であるクェンチャーを含むレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁

An organic compound film 2 of a wiring pattern is formed on an interlayer insulating film (a).例文帳に追加

層間絶縁膜１上に形成すべき配線のパターンの有機化合物膜２を形成する（ａ）。 - 特許庁

NEW (METH)ACRYLATE COMPOUND HAVING LACTONE STRUCTURE, POLYMER, PHOTORESIST MATERIAL, AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加

ラクトン構造を有する新規（メタ）アクリレート化合物、重合体、フォトレジスト材料、及びパターン形成法 - 特許庁

OXOALKYL GROUP-CONTAINING SULFONIUM SALT COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

オキソアルキル基を有するスルホニウム塩化合物、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND ACID GENERATOR COMPRISING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに化合物及びそれからなる酸発生剤 - 特許庁