「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

A metal compound film 812 is formed through pattern printing of solvent attained by dissolving an organic metal compound or inorganic metal compound including a catalyst metal, on the surface of an insulating base material 811 enabling chemical reformation through local dissolving or abrasion of the surface region with irradiation of energy ray.例文帳に追加

エネルギ線照射により表面領域を局所的に溶融あるいはアブレーションさせたり化学的改質が可能な絶縁性基材８１１の面上に、触媒金属を含有する有機金属化合物または無機金属化合物を溶かした溶剤をパターン印刷して金属化合物膜８１２を形成する。 - 特許庁

The wiring pattern 16 for connecting the flexible boards is formed via an applying step for applying an organic metal compound on the transparent substrate 12, a drying step for drying the organic metal compound applied in the applying step and a baking step for baking the organic metal compound dried in the drying step.例文帳に追加

そして、フレキシブル基板接続用配線パターン１６を、透明基板１２上に有機金属化合物を塗布する塗布工程、前記塗布工程で塗布された有機金属化合物を乾燥させる乾燥工程、及び前記乾燥工程で乾燥された有機金属化合物を焼成する焼成工程を経て形成した。 - 特許庁

The pattern forming material has at least a photosensitive layer formed using a photosensitive resin composition containing at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the polymerizable compound contains at least a compound having one or more urethane groups and one polymerizable group within a molecule.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を少なくとも含み、該重合性化合物が、分子中にウレタン基を１個以上と重合性基を１個有する化合物を少なくとも含有する感光性樹脂組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有するパターン形成材料である。 - 特許庁

A photomask 1 is manufactured by forming a transparent protective film 1c comprising quartz, an intermetallic compound of metal and silicon, or the like on a circuit pattern film 1b of a quartz substrate 1a, the protective film 1c having a film thickness equal to or larger than that of the circuit pattern film 1b, and removing a surface rugged pattern formed during forming the protective film by polishing.例文帳に追加

石英基板1aの回路パターン膜1b上に、石英もしくは金属とシリコンの金属間化合物等からなる透明な保護膜1cを回路パターン膜1bの膜厚以上の高さで成膜し、保護膜成膜時に形成される表面凹凸を研磨することにより除去してフォトマスク1を製造する。 - 特許庁

To provide inkjet ink for a metallic pattern formation which selects reduction qualifications of a copper ion complex and advances under the condition where a metal copper is desirably generated by adding antioxidant of a hydrazine system compound and can form a precise metallic film with a good resistance value, and to provide a metallic pattern forming method using the inkjet ink for the metallic pattern formation.例文帳に追加

銅イオン錯体の還元条件を選択し、ヒドラジン系化合物の酸化防止剤を添加することで、金属銅の生成が好ましい状態で進行し、緻密で抵抗値が良好な金属膜の形成が可能な金属パターン形成用インクジェットインクおよびそれを用いた金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The ink-jet ink is an ink used for a metal-pattern forming method to form a metal layer on a pattern by nonelectrolytic plating treatment after forming the pattern on a substrate, while discharging the ink by an ink-jet head, and the ink-jet ink contains a polymer compound having at least water, divalent palladium ions, and an acidic group.例文帳に追加

インクジェットヘッドによりインクを吐出して基板上にパターンを形成した後、無電解めっき処理により該パターン上に金属層を形成する金属パターン形成方法に用いるインクであって、少なくとも、水、二価のパラジウムイオン、酸性基を有する高分子化合物を含有することを特徴とするインクジェットインク。 - 特許庁

A plurality of through-holes are formed in a metal substrate 1b of plate shape, and the through-holes are filled with a filler 1d containing photochromic molecules composed of an azobenzene compound, thus forming a key pattern part having a key pattern comprising pattern parts with a plurality of filler parts 1d arranged at predetermined spaces.例文帳に追加

平板状の金属基板１ｂに複数の透孔を形成し、この透孔内に、アゾベンゼン化合物からなるフォトクロミック分子を含む充填材１ｄが充填されて、複数の充填材部１ｄが所定間隔で配置されたパターン部からなる鍵パターンを有する鍵パターン部が形成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing the compound semiconductor device comprises the steps of acquiring a lower electrode resist pattern 21 of a T-shaped gate electrode, then forming a pattern shrink material 1 in thickness of 3,000 to 40,000 Å on the entire surface, diffusing an acid from the lower layer resist pattern 21 in the shrink material 1, and mixing and baking 7 to crosslink the shrink material 1.例文帳に追加

図１（ロ）に示すように、Ｔ型ゲート電極の下部電極部レジストパタン２１を得た後、パタンシュリンク材１を３０００〜４０００オングストロームの膜厚で全面に形成して、下層レジストパタン２１からの酸をパタンシュリンク材１に拡散させ、パタンシュリンク材１が架橋するミキシングベーク７を行う。 - 特許庁

To provide a new nonionic photosensitive compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator, a resist composition, and a method for forming resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound, to provide an acid generator consisting of the same, to provide a resist composition containing the acid generator, and to provide a method of resist pattern formation using the resist composition.例文帳に追加

新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A dot pattern is drawn by a compound light quantity using as reference the center in the main scanning direction, as a pair of the light emitting points different in the light quantity distribution.例文帳に追加

そこで、主走査方向の中央を基準として相反する光量分布となる発光点を対として合成光量によってドットパターンを描画する。 - 特許庁

To form the gate, source and drain electrodes of a compound semiconductor device without causing any of pattern defects by using a simple method and not using a lift-off method.例文帳に追加

リフトオフ法を用いずに、簡易な手法で化合物半導体装置のゲート電極、ソース電極、及びドレイン電極を各種パターンに欠陥を生ぜしめることなく形成する。 - 特許庁

To provide a polymer compound with a rapid alkali dissolution rate and excellent in pattern-forming properties, a photosensitive resin and a method for forming cured relief patterns.例文帳に追加

本発明の課題は、アルカリ溶解速度が速く、パターン形成性に優れた高分子化合物、感光性樹脂、及び硬化レリーフパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

The positive resist composition includes a compound (N) having a nitro group and an acid radical, and the pattern forming method using the positive resist composition is also provided.例文帳に追加

ニトロ基及び酸基を有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

Prepared is the printed body 100 formed by using and pattern-printing the dispersion solution wherein particulates of metal or a metal compound are dispersed on the nonconductive base.例文帳に追加

金属又は金属化合物の微粒子を分散させた分散液を用いて非導電性の基材にパターン印刷して作製した印刷物１００を予め準備する。 - 特許庁

To enhance the adhesion of the interface of a resin compound for manufacturing artificial marble with a pattern material by a simple method to enhance the strength of the product artificial marble.例文帳に追加

簡単な方法で、人造大理石製造用樹脂コンパウンドと柄材との界面の密着性を向上できて人造大理石の製品の強度を向上できる。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN USED FOR THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, COMPOUND USED FOR SYNTHESIS OF THE RESIN, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

Because the organic compound vapor reaches the mask board 25 through the aperture 24, an oblique component is eliminated and a sharp pattern of the organic thin film can be obtained.例文帳に追加

有機化合物蒸気がアパーチャ孔２４を通過してマスク板２５に到達するから、斜め成分が除去されてシャープなパターンの有機薄膜を得ることができる。 - 特許庁

The sensitivity of the pattern forming material is further enhanced by using a chain transfer compound having a plurality of mercapto groups as the substituents to chain transfer.例文帳に追加

前記連鎖移動可能な置換基として、メルカプト基を複数有する連鎖移動化合物を用いることによって、パターン形成材料の感度がさらに向上する。 - 特許庁

To provide a new lactone compound, to provide a lactone-containing monomer, to provide a polymer using the same, to provide a resist material, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

本発明は、新規なラクトン化合物、ラクトン含有単量体、それを用いた高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, RESIN FOR USE IN THE SAME, AND COMPOUND FOR SYNTHESIZING THE RESIN例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該樹脂を合成するための化合物 - 特許庁

The resist pattern thickening material contains at least a resin and a compound expressed by general formula (1), is a nonaqueous material and contains no acid-generator and no crosslinker.例文帳に追加

樹脂と下記一般式（１）で表される化合物とを少なくとも含み、非水系であり、かつ酸発生剤及び架橋剤を含まないレジストパターン厚肉化材料。 - 特許庁

To provide a compound capable of forming patterns having excellent pattern resolution and line edge roughness, and to provide a resist composition using the same.例文帳に追加

優れたパターンの解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化合物及びそれを用いたレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a colorful pattern coating film having a particular finishing appearance and suitable for forming a compound coating film excellent in durability over a long period of time.例文帳に追加

独特な仕上がり外観を有し、長期にわたる耐久性にも優れた複合塗膜を形成するのに適する多彩模様塗膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The crystal of compound A is one in which the characteristic diffraction peak at a diffraction angle 2θ(°) as measured by powder X-ray diffraction has a specified powder X-ray pattern.例文帳に追加

化合物Ａの結晶であって、粉末Ｘ線回折で測定した回折角２θ（°）の特徴的回折ピークが特定の粉末Ｘ線回折パターンを有する結晶。 - 特許庁

To provide a lactone compound useful for a resist composition which can suppress roughness of the surface generated in a resist pattern after etching or development, preferably after the both.例文帳に追加

エッチング後と現像後の一方、好ましくは両方において、レジストパターンに生じる表面荒れの発生を抑制できるレジスト組成物に有用なラクトン化合物を提供する。 - 特許庁

PHOSPHORUS-CONTAINING COMPOUND, RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME, PHOTOSENSITIVE FILM BY USING RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

リン含有化合物、このリン含有化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

This surface treatment agent for forming the resist pattern contains a compound having two nucleophilic functional groups or more in one molecule or its salt and solvent.例文帳に追加

一分子中に二個以上の求核性官能基を有する化合物、またはその塩と溶剤を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁

In a single image reconfiguration processing part 104, the compound eye image of the imaged blood vessel pattern is reconfigured into a single image by using parallax between the ommatidium images.例文帳に追加

単一画像再構成処理部１０４において、撮像された血管パターンの複眼像は、その個眼像間の視差を利用して単一画像に再構成される。 - 特許庁

This resist pattern 31 is irradiated with ultraviolet rays 13 from an excimer lamp or an excimer laser 12 in the existence of a fluorine compound having high etching tolerance.例文帳に追加

このフッ素樹脂レジストパターン３１に、高いエッチング耐性を有するフッ素化合物の存在下で、エキシマランプ又はエキシマレーザ１２から紫外光１３を照射する。 - 特許庁

To provide a new compound excellent in sensitivity and the degree of resolution in resist uses, and useful for maintaining a pattern form well, and a method for producing the same.例文帳に追加

レジスト用途において、感度、解像度に優れるとともに、パターン形状を良好に維持するのに有用な新規化合物、ならびに該化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive compound which has no pinhole or the like and has high adhesiveness with a substrate and can form a conductor pattern without forming etched curls.例文帳に追加

ピンホール等がなく緻密で基板との密着性も高く、エッチカールの問題のない導電体パターンを形成可能な感光性導電組成物を提供すること。 - 特許庁

By controlling the contact of the molecular compound of the taste generation part 110 with the taste cell, the electric pattern signal of the taste generated by the taste nerve is controlled.例文帳に追加

味覚細胞に対しての味発生部１１０が備える分子化合物の接触が制御することで、味覚神経が発生する味の電気パターン信号を制御する。 - 特許庁

To provide a resist composition which is excellent in storage stability and has good lithography properties, to provide a method for forming a resist pattern using the resist composition, and to provide a nitrogen-containing organic compound useful as a nitrogen-containing organic compound component contained in the resist composition.例文帳に追加

保存安定性に優れ、リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、およびレジスト組成物に含有される含窒素有機化合物成分として有用な含窒素有機化合物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which can provide good pattern shape and line-edge roughness in normal exposure (dry exposure), liquid immersion exposure and double exposure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound used in the photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

This human body-covering material for health enhancement is obtained by forming a proper pattern of an ingredient obtained by compounding a titanium-based compound in a thermoplastic organic binder on a skin-contacting surface of a base material sheet 10 as an activator layer 12 in a dotted pattern at an optional space.例文帳に追加

健康増進用人体被覆材は、基布の皮膚接触面に対して、有機バインダにチタン系素材を配合した成分による適宜形状の模様が任意間隔で点在する散点状模様の活物質層として形成される。 - 特許庁

Further incorporation of (d) a photoacid generator enables the formation of a positive-type or negative-type pattern or incorporation of (e) a compound having an unsaturated bond and (f) a photoinitiator enables the formation of a negative-type pattern.例文帳に追加

さらに（ｄ）光酸発生剤を含有させることにより、ポジ型またはネガ型のパターン形成が可能となり、あるいは（ｅ）不飽和結合を有する化合物と（ｆ）光重合開始剤を含有させることで、ネガ型のパターン形成が可能となる。 - 特許庁

This pattern forming method is employed for forming bump-like matters in an exposed region of the recording material having the recording layer including the diazonium salt compound on a support through a pattern-wise irradiation with laser light or with a light-emitting diode.例文帳に追加

支持体上にジアゾニウム塩化合物を含有する記録層を有する記録材料に、レーザー光又は発光ダイオードによりパターン状に光照射を行い、露光領域に突起形状物を形成させることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which ensures a good pattern profile and good line edge roughness in normal exposure (dry exposure) and immersion exposure, a pattern forming method using the positive photosensitive composition, and to provide a compound used for the positive photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To prevent a fluorine compound from depositing on a sidewall of an insulation film mask in etching the insulation film mask by a gas which includes fluorine in a process for etching a microwiring pattern with the insulation film mask pattern represented by oxide film and the like.例文帳に追加

酸化膜などに代表される絶縁膜マスクパターンによって微細配線パターンをエッチングする工程において、絶縁膜マスクをフッ素を含むガスでエッチングするとき、絶縁膜マスクの側壁等にフッ素化合物が堆積するのを防止する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device which can improve pattern dependence, when forming an insulation film through reaction between ozone and organic silicon compound, while removing resist residue and reaction product after wiring pattern formation.例文帳に追加

配線パターン形成後のレジスト残渣や反応生成物を除去しながら、オゾンと有機シリコン化合物との反応により絶縁膜を形成する際のパターン依存性を改善することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having high transparency to exposure light, especially light of ≤300 nm wavelength, capable of obtaining a resist pattern of excellent section rectangularity, and having high storage stability; a low-molecular compound and high-molecular compound for obtaining the photoresist composition; and a resist pattern forming method using the photoresist composition.例文帳に追加

露光光、特に３００ｎｍ以下の波長光に対する透明性が高く、かつ断面矩形状の良好なレジストパターンを得ることができ、保存安定性の高いホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物を得るための低分子化合物および高分子化合物、ならびに該ホトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains a chain transfer compound having at least two substituents capable of chain transfer per molecule, a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and a polymerization inhibitor, wherein the polymerizable compound contains a compound having three or more polymerizable groups per molecule.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、分子中に連鎖移動可能な置換基を少なくとも２つ有する連鎖移動化合物、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を含み、該重合性化合物が、分子中に重合性基を３つ以上有する化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

The hydrophilic/hydrophobic pattern is obtained by bringing a composition containing a hydrophobic compound having an optically active group into contact with a support having a surface where hydrophilic graft chains are present, adding imagewise energy to the composition, fixing the hydrophobic compound.例文帳に追加

親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親／疎水性パターンを得ることを特徴とする。 - 特許庁

In the TAB tape for semiconductor device, the inner lead 6 and a wiring pattern 5 are formed by patterning a conductor foil 11 by a wet-etching process using an etchant to which an inhibitor constituted of an organic compound or an inorganic compound is added.例文帳に追加

本発明の半導体装置用ＴＡＢテープでは、インナーリード６および配線パターン５が、有機化合物または無機化合物からなるインヒビタを添加したエッチャントを用いたウェットエッチングプロセスによって導体箔１１をパターン加工することにより形成されている。 - 特許庁