「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

Disclosed is the negative type resist composition containing (A) an alkali-soluble resin, (B) a cross-linking agent cross-linking the alkali-soluble resin through reaction of an acid, (C) a compound advancing cross-linking reaction by irradiation with an active light beam or radiation, and (D) a compound having a cation polymerizable group; and the pattern forming method.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 - 特許庁

The polarized light separating element is constituted such that a rugged pattern 2 constituting the diffraction grating is formed on the surface of a base material 1 made of material having light transmissivity in the usage wavelength range and at least two or more surfaces of protruded parts 3 of the rugged pattern 2 are covered with a film 4 made of material comprising a metal or a metal compound.例文帳に追加

使用波長範囲において光透過性を有する材料より成る基材１の表面に、回折格子を構成する凹凸パターン２が設けられ、この凹凸パターン２の凸部３の少なくとも２つ以上の面が、金属或いは金属化合物より成る材料膜４で被覆されて成る構成とする。 - 特許庁

To provide a polymeric compound appropriate for a base resin of a positive resist material having a high resolution exceeding a conventional positive resist material, an excellent pattern shape after exposure, and further exhibiting excellent etching resistance, particularly of a chemically amplified positive resist material, a positive resist material and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the color filter whose thickness-direction retardation has the relationship of (red pixels)≤(green pixels)≤(blue pixels), the red pixels are produced by forming a pattern with a red colored composition containing an organic compound having an epoxy group as a retardation adjuster and hardening the pattern, and the red pixels have a negative retardation.例文帳に追加

厚み方向位相差が赤色画素≦緑色画素≦青色画素の関係を有するカラーフィルタにおいて、前記赤色画素が、リタデーション調整剤として、エポキシ基を有する有機化合物を含有する赤色着色組成物にてパターン形成し硬膜してなる赤色画素であるとともに、負のリタデーションを持つ赤色画素である。 - 特許庁

A pattern is formed on a place to become the non-image line part on the base material by a photosensitive resist and a film of a fluorine-containing silane based compound is formed on the remaining surface of the base material as the image line part and the surface of the base material which is appeared by removing the photosensitive resist pattern is defined as the non-image line part.例文帳に追加

基材上の非画線部となる箇所に感光性レジストでパターンを形成し、残る基材表面に含フッ素シラン系化合物の膜を形成して画線部とし、感光性レジストパターンを除去することで現れる基材表面を非画線部とする剥離印刷用刷版の製造方法。 - 特許庁

To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern sidewall after developing.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した（メタ）アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method for conductive pattern sheet, a base layer including a metal oxide, a binder and a compound containing a mercapt group or a carboxyl group is provided on a base material, then ink containing metal having a pattern shape is provided over the base layer and then a metal film is formed over formed metal catalytic nuclei.例文帳に追加

基材上に金属酸化物、バインダー、メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物を含有する下地層を設け、該下地層上に金属を含むインクをパターン状に付与し、形成された金属触媒核上に金属皮膜を形成させることを特徴とする導電性パターンシートの作製方法。 - 特許庁

In the electrically conductive pattern forming method, an electrically conductive layer is formed using a photosensitive composition containing (A) electrically conductive particles, (B) an alkali-soluble resin, (C) a compound containing an ethylenically unsaturated group and (D) a photopolymerization initiator and the electrically conductive layer is exposed and developed to form a pattern.例文帳に追加

（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を用いて導電層を形成し、当該導電層を露光処理し、当該導電層を現像処理してパターンを形成する導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern side wall after developing.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した（メタ）アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing (a) a polyimide resin having a specified repetition unit, (b) a compound generating a sulfonic acid when irradiated with light, and (c) a crosslinking agent having an alkoxymethyl or acyloxymethyl group on a nitrogen atom, a pattern manufacturing method using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

（ａ）特定の繰り返し単位を含むポリイミド樹脂、（ｂ）光照射によりスルホン酸を発生する化合物、及び（ｃ）アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を窒素原子上に有する架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition short in minimum developing time and forming a resist film breakable by a shock of spray or the like and especially excellent in adhesion and resolution and to provide a photosensitive element using this, and manufactures of a resist pattern and the printed circuit board having this pattern by incorporating a specified photopolymerizable compound and specified compounds.例文帳に追加

最少現像時間が短かく、レジスト硬化膜がスプレー等の衝撃により割れ、さらに密着性及び解像度が特に優れた感光性樹脂組成物及びそれを使用した感光性エレメント、及びレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンを有するプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming material has at least a photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, and a degree of swelling of a pattern formed by exposing and developing the photosensitive layer in a developer is ≤30%.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像することにより形成されるパターンの現像液による膨潤度が、３０％以下であることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

The pattern forming method using the photosensitive composition and the compound in the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により特定の一般式で表される有機酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物。 - 特許庁

To make it possible to prepare inexpensively and in a short period of time on a target compound color screen density setting technique relevant to the controlling of the color tone of the pattern of a printing machine and to control to a desired color tone with an IRGB densitometer.例文帳に追加

印刷機の絵柄色調制御に関連する目標混色網濃度設定技術に関し、低コストで短時間に準備をできてＩＲＧＢ濃度計を用いて好みの色調に制御できるようにする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in lithography characteristics such as resolution and an MEF (Mask Error Factor), to provide a resist pattern forming method using the positive resist composition, and a high molecular compound useful for the positive resist composition.例文帳に追加

解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

A resist pattern shape improver comprising a steroid compound is incorporated into a positive type chemical amplification resist by 0.5-8 pts.wt. based on 100 pts.wt. resin for a resist in the positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

ポジ型化学増幅レジストに、ステロイド系化合物からなるレジストパターンの形状改善剤をポジ型化学増幅レジスト中のレジスト用樹脂１００重量部に対して０．５乃至８重量部含有させる。 - 特許庁

To provide a polishing compound in which reliable embedded pattern of a metal film can be formed efficiently by fully decreasing etching rate while maintaining high CMP speed, and to provide a polishing method therefor.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を維持しつつ、エッチング速度を十分に低下させることにより、信頼性の高い金属膜の埋込みパターンを効率よく形成することができる、ＣＭＰ用研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

Therein, by using a plastic mold and a visible light curable resin to which a polymerizable compound having a specified weight-average molecular weight or less is mixed, a more convenient manufacturing process of the pattern of the metallic film is constituted.例文帳に追加

この際、プラスチックモールドと特定の重量平均分子量以下である重合性化合物を配合した可視光硬化性樹脂を使用することにより、より簡便な金属膜のパターンの製造プロセスが提供される。 - 特許庁

To provide a new oxime ester compound functionable as a highly sensitive radical polymerization initiator, and to provide a curable composition using the same, and to provide a negative-type resist including the composition, and to provide a method for forming an image pattern using the resist.例文帳に追加

高感度なラジカル重合開始剤として機能しうる新規オキシムエステル化合物及びそれを用いた硬化性組成物、及びそれを含むネガ型レジスト及びそれを用いた画像パターン形成方法の提供。 - 特許庁

Therefore, only the exposed part or the unexposed part can be chemically etched by selecting kinds of chemicals, and a fine pattern of the solid compound film containing the Si-O-Si bond or of a silicon oxide film can be formed.例文帳に追加

したがって、化学薬品の種類を選択することにより、露光部あるいは未露光部のみを化学エッチングでき、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物膜あるいは酸化ケイ素膜の微細パターンが形成できる。 - 特許庁

An ultrafine pattern is formed by adding a copolymer of a compound having at least one or more copolymerizable carbon-carbon double bonds, and containing a repeating unit represented by formula (1) to a photoresist composition.例文帳に追加

少なくとも１以上の共重合可能な炭素−炭素の二重結合を有し、下記式（１）で示される反復単位を含む化合物の共重合体をフォトレジスト組成物に添加して超微細パターンを形成する。 - 特許庁

The compound containing the phenol substituent expressed by formula 1 constitutes a resist composition together with a photo acid generator, and provides the resist composition excellent in sensitivity, resolution and line edge roughness while capable of drawing a super fine pattern.例文帳に追加

式１で表されるフェノール置換基を含む化合物は、光酸発生剤と共にレジスト組成物を構成し、超微細パターンの描画が可能でありながらも、感度、解像度、およびラインエッジラフネスに優れたレジスト組成物。 - 特許庁

The material for forming a pattern includes (A) a photosensitive resin composition layer containing a novolac phenol resin and a 1,2-quinone diazide compound and (B) a light-shielding layer having an optical density of at least 4.0 per 1 μm film thickness.例文帳に追加

（Ａ）ノボラック型フェノール樹脂と、１，２−キノンジアジド化合物と、を含有する感光性樹脂組成物層、及び（Ｂ）膜厚１μｍあたりの光学密度が４．０以上である遮光層を含むパターン形成用材料。 - 特許庁

The water-soluble resin composition for forming a fine pattern comprises a water-soluble vinyl resin, a compound having at least two amino groups in the molecule, a solvent, and as required, an additive such as a surfactant.例文帳に追加

本発明の微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物は、水溶性ビニル樹脂、分子内に少なくとも２個のアミノ基を有する化合物、溶剤および必要に応じ界面活性剤などの添加剤からなる。 - 特許庁

After a resist film 102 containing a hygroscopic compound is formed, the resist film 102 is selectively irradiated with exposure light 104 for pattern exposure while water 103 is supplied onto the resist film 102.例文帳に追加

吸湿性化合物を含むレジスト膜１０２を形成した後、該レジスト膜１０２の上に水１０３を供給した状態で、レジスト膜１０２に対して露光光１０４を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

To increase information density when information recording is performed by irradiating a thin film of polymer compound including azobenzene structure with light and forming an unevenness pattern on the surface.例文帳に追加

発明は、アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に光照射して、表面に凹凸パターンを形成させて情報記録を行う際に、情報密度を増大させることを目的としてなされたものである。 - 特許庁

A composition for pretreatment of electroless plating containing palladium acetate and ammonia or an ammonia compound as the main components is used for pretreatment for forming a metal pattern on a layer of polysilane or a substrate by electroless plating.例文帳に追加

酢酸パラジウムとアンモニア又はアンモニア化合物を主成分として含む無電解めっき前処理用組成物を、ポリシランの層または基体へ無電解めっきにより金属パターンを形成する前処理に用いる。 - 特許庁

To provide a grain-patterned sheet molding compound to be used for forming a grain-patterned molded product of high mechanical strengths with good surface smoothness and a grain pattern of sophisticated feeling( deep feeling ).例文帳に追加

表面平滑性に優れ、なおかつ高級感（深み感）のある石目模様を有する機械的強度の高い石目模様付成形品を形成するために用いられる石目模様付シート・モールディング・コンパウンドを提供する。 - 特許庁

To obtain the subject new compound which is readily decomposed with an acid, is not dissolved in a basic aqueous solution and improves etching resistance and pattern profile of resist comprising a conventional carboxylic acid derivative as a main component and an additive.例文帳に追加

従来のカルボキシ酸誘導体を主成分及び添加剤として含むレジストの耐エッチング性とパターンプロファイルを向上させるための新規なカルボキシ酸誘導体及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a new compound useful for chemical amplification-type image-forming materials, and to provide a chemical amplification-type positive- type resist composition having high sensitivity and high resolution power and improved in pattern edge roughness.例文帳に追加

化学増幅型画像形成材料に有用な新規な化合物を提供すること、及び高感度、高解像力を有し、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

For example, if the orientation of the upper face S_15 of the compound semiconductor layer 15 is set as the (110) plane and a side on which a pattern is formed is set as the [1-11] orientation, the etching rate in side etching is nearly 1/√2 times that in the depth direction.例文帳に追加

たとえば、化合物半導体層１５の上面Ｓ_15の面方位を（１１０）面とし、パターンを形成する辺を［１−１１］方向とすることで、サイドエッチングのエッチングレートは深さ方向の１／√２倍程度になる。 - 特許庁

The photosensitive resin composition is mainly composed of a polyimide precursor having a benzoxazole skeleton and a phenolic hydroxyl group, a vinyl ether compound and a photoacid generator, can be developed with an aqueous alkali solution, and has positive pattern forming capability.例文帳に追加

ベンゾオキサゾール骨格とフェノール性水酸基を有するポリイミド前躯体、ビニルエーテル化合物、光酸発生剤とを主成分とするアルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有する感光性樹脂。 - 特許庁

An organometallic film 12 is formed on the substrate 11 by applying a liquid organometallic compound containing metal elements, such as nickel (Ni), iron (Fe), cobalt (Co), so as to be uniform or so as to form a required pattern.例文帳に追加

基板１１上に、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）およびコバルト（Ｃｏ）などの金属元素を含む液体状有機金属化合物を均一または所望のパターンを成すように塗布することにより有機金属膜１２を形成する。 - 特許庁

The resist composition for an electron beam, X-ray or EUV contains a specific triarylsulfonium compound, having benzenesulfonic acid anions having specific substituents, and the pattern-forming method using the composition is also provided.例文帳に追加

特定置換基を有するベンゼンスルホン酸アニオンを有する特定のトリアリールスルホニウム化合物を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

This catalyst for producing the polyester comprises a solid titanium compound obtained by dehydrating and drying a titanium hydroxide and having ≤50% crystallinity calculated from an X-ray diffraction pattern within the range of 18-35° 2θ (angle of diffraction).例文帳に追加

チタン水酸化物を脱水乾燥することにより得られ、２θ（回折角度）が１８°〜３５°の範囲にあるＸ線回折パターンから算出した結晶化度が５０％以下である固体状チタン化合物からなる。 - 特許庁

To realize a structure that a conductive material which can be utilized as a buried electrode and has a specified pattern configuration is buried in a nitride compound semiconductor material, and to make it possible to manufac ture a device, such as an SIT.例文帳に追加

窒化物系化合物半導体において埋め込み電極として利用可能な特定のパターン形状の導電性材料を埋め込んだ構造を実現し、ＳＩＴ等のデバイスを作製可能にする。 - 特許庁

By using conductive paste containing metal nanoparticles or metallic compound nanoparticles which can form a bulk metallization layer by applying energy, a prescribed circuit pattern is printed by using a printing method.例文帳に追加

本発明によれば、エネルギーを付与することによってバルク金属層を形成可能な金属ナノ粒子又は金属化合物ナノ粒子を含む導電性ペーストを使用し、印刷法によって所定の回路パターンを印刷する。 - 特許庁

The producing method comprises at least steps of forming a primary electrode, forming a photocatalyst layer on the primary electrode, forming a organic photodecomposition layer on the photocatalyst layer, performing pattern exposure to the photodecomposition layer to form a pattern, applying organic EL compound layer forming solution on the exposed section and making it to harden, form at least one of organic EL compound layer, and forming a secondary electrode on the organic EL compound layer.例文帳に追加

第１電極を形成する工程と、前記第１電極上に光触媒層を形成する工程と、前記光触媒層上に光分解有機層を形成する工程と、前記光分解有機層にパターン露光を行い、パターン形成を行う工程と、前記露光部に、有機ＥＬ化合物層形成液を付着させて硬化させることにより、有機ＥＬ化合物層の少なくとも１層を形成する工程と、前記有機ＥＬ化合物層上に第２電極を形成する工程から少なくともなる有機ＥＬ素子の製造方法。 - 特許庁

The OVD transfer foil is characterized in that an OVD layer is made by forming a fine uneven pattern by the cured material of a photocurable resin with an epoxy acrylate resin synthesized by reacting methacrylate compound having a carboxyl group in the molecule or a methacrylate compound having a hydroxyl group in the molecule with a glycidyl type epoxy compound having at least one or more hydroxyl groups in the molecule as the main component.例文帳に追加

ＯＶＤ層が、分子中にカルボキシル基を有するメタクリル酸化合物もしくは分子中に水酸基を有するメタクリレート化合物と、分子中に少なくとも水酸基を１つ以上有するグリシジル型エポキシ化合物とを反応させて合成したエポキシアクリレート樹脂を主成分とした光硬化性樹脂の硬化物により微細凹凸パターンを形成してなることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。 - 特許庁

The method includes the steps of (a) forming a thin film on a substrate by coating it with an organometallic compound, (b) removing the film of the organometallic compound of the unexposed part with solvent, after decomposing the organometallic compound by exposure with masks to induce difference in solubility between exposed and unexposed parts and (c) forming a metal or metal oxide pattern reducing or oxidizing the exposed part.例文帳に追加

（ａ）有機金属化合物を基板上にコートして薄膜を形成する段階と、（ｂ）マスクを用いた露光によって前記有機金属化合物を分解させて露光部と非露光部との溶解度差を誘発させた後、溶媒を用いて前記非露光部の有機金属化合物薄膜を除去する段階と、（ｃ）前記露光部を還元または酸化処理して金属または金属酸化物パターンを形成する段階とを含む。 - 特許庁

The pattern form has a substrate and a property changing layer which is formed on the substrate, contains at least a photocatalyst, fine metal compound particles and a property imparting agent, and undergoes a change in property upon irradiation with energy, wherein the property changing layer has a property changing pattern in which the property of the property changing layer is changed into a pattern-like form.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒、金属化合物微粒子、および特性付与剤を含有し、かつエネルギー照射により特性が変化する特性変化層とを有し、前記特性変化層は前記特性変化層の特性がパターン状に変化した特性変化パターンを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet ink excellent in satellite resistance obtained by adjusting the amount of a static electric charge by adding an ionic liquid to the inkjet ink dissolving an organic semiconductor compound, and a method for producing an electroconductive pattern by using the same.例文帳に追加

有機半導体化合物が溶解したインクジェットインクに、イオン性液体を加えることにより、帯電量を調節し、サテライト耐性に優れたインクジェットインクとそれを用いた導電性パターン作製方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive film for permanent pattern formation has a support, a cushion layer and a photosensitive layer in this order, wherein the photosensitive layer comprises a photosensitive composition containing (A) a binder, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator and (D) an extender.例文帳に追加

永久パターン形成用感光性フィルムが、支持体と、クッション層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなる。 - 特許庁

To provide a resist composition having high sensitivity, with which a resist pattern with high resolution can be prepared and a semiconductor device having a high integration degree can be manufactured with high productivity, and to provide a compound that can be used for the composition.例文帳に追加

高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。 - 特許庁

In the compound, an aryl group is multiply substituted with suitable electron-donating groups such that a light-emitting pattern of a molecule results in a very high luminescent count, thus providing for a sensitive and precise assay for haptens, analytes, polynucleotides and the like.例文帳に追加

該化合物は、分子の発光パターンが極めて高い発光計数をもたらすようにアリール基が適当な電子供与基で多重置換されており、そのためハプテン、分析物、ポリヌクレオチド等の高感度で正確なアッセイが可能となる。 - 特許庁