「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

HIGH MOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

含窒素有機化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性組成物、化合物、化合物の製造方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND AND QUENCHER CONSISTING OF THE SAME COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー - 特許庁

ACETAL COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

アセタール化合物、その製造方法、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

NEW LACTONE-CONTAINING COMPOUND, HIGH POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION例文帳に追加

新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ—ン形成方法 - 特許庁

ORGANOMETALLIC COMPOUND FOR FORMING METAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING METAL PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

金属パターン形成用有機金属化合物及びそれを用いた金属パターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

COMPOUND, POLYMER, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER SILICONE COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PROCESS FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子シリコーン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST-PROTECTING MEMBRANE MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、レジスト保護膜材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および新規な化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および新規な化合物 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND COMPOUND例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁

SILICON-CONTAINING COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

珪素含有化合物、レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SUCH POLYMER COMPOUND, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

ESTER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, MACROMOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加

エステル化合物とその製造方法、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE CONTAINING COMPOUND, FLUORINE CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

INK COMPOSITE FOR FORMING PATTERN, PATTERN FORMING METHOD EMPLOYING THE COMPOUND AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

パターン形成用インキ組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive composition, a compound and a method for forming a pattern to obtain a pattern with few pattern collapses, reduced line edge roughness and having pattern profile.例文帳に追加

パターン倒れが少なく、ラインエッジラフネスを小さくでき、パターンプロファイルが優れた感光性組成物、化合物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、および酸発生剤 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁