| 例文 |
compound patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 916件
A compound film 17 formed by laying an adhesive layer 13, a metal foil 14, an adhesive layer 15 and a film body 16 is laid on the rib pattern 12 such that the adhesive layer 13 abuts against the rib pattern 12 and then the compound film 17 is bonded to the rib pattern 12.例文帳に追加
次に、接着剤層１３、金属箔１４、粘着剤層１５及びフィルム本体１６を積層してなる複合フィルム１７を、その接着剤層１３がリブパターン１２上に当接するようにしてリブパターン１２上に重ね合わせ、リブパターン１２に接着する。 - 特許庁
The pattern forming resist contains (a) a compound having an acid decomposable substituent, (b1) a compound which generates a strong acid when irradiated with light and (b2) a compound which generates a weak acid when irradiated with light.例文帳に追加
（ａ）酸により分解する置換基を有する化合物と、（ｂ１）光照射により強酸を発生する化合物と、（ｂ２）光照射により弱酸を発生する化合物とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor for the compound, an acid generator, a resist composition and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加
レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物の前駆体として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
When the head offset quantity of a compound magnetic head 2 is measured in a head offset measurement part 5, a stress pattern is written in a track being adjacent to a measurement pattern written by a measurement pattern writing part 51 by a stress pattern writing part 52, and magnetic stress is given to the measurement pattern.例文帳に追加
ヘッドオフセット計測部５において、複合型磁気ヘッド２のヘッドオフセット量を計測するときに、計測パターン書込み部５１で書込まれた計測パターンに隣接するトラックへ、ストレスパターン書込み部５２によりストレスパターンを書込み、計測パターンに磁気ストレスを与える。 - 特許庁
To provide a polymer compound capable of constituting a positive type resist pattern having excellent resolution and capable of favorably resolving a resist pattern even by using an acid generating agent having weak strength of an acid generated, a compound suitable for producing the polymer compound and a positive type resist composition containing the polymer compound and to provide a method for forming resist pattern by using the positive type resist composition.例文帳に追加
優れた解像性を有し、かつ発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polymer compound capable of forming a resisit pattern that has a high resolusion property and high photographic sensitivity, and whose collapse is protected, to provide a positive-type resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加
高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The surface treatment agent for forming a resist pattern contains a compound (A) having an epoxy skeleton or an oxetane skeleton and resin or oligomer (B) which is inactive to the compound (A) and the resist pattern.例文帳に追加
（Ａ）エポキシ骨格あるいはオキセタン骨格を有する化合物、及び（Ｂ）化合物（Ａ）及びレジストパターンに対して不活性な樹脂またはオリゴマー、を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁
The resist pattern thickening material contains resin, a compound selected among a cyclic compound represented by general formula (1), a compound having a carboxyl group-containing cyclic structure, and a compound containing an aromatic hydrocarbon structure and water.例文帳に追加
樹脂と、下記一般式（１）で表される環状化合物と、カルボキシル基を含む環状構造を有する化合物、及び、芳香族炭化水素構造を有する化合物のいずれかの化合物と、水と、を含むことを特徴とするレジストパターン厚肉化材料。 - 特許庁
A resin pattern, which is capable of absorbing a solution containing a metal component, is formed on a base, the resin pattern is dipped into a solution containing the metal component so as to absorb the solution, and the resin pattern is turned into a metal or metal compound pattern through a baking process.例文帳に追加
金属成分を含む溶液を吸収可能な樹脂パターンを基体上に形成し、該樹脂パターンを前記金属成分を含む溶液に浸漬して該溶液を吸収させ、焼成工程を経て金属または金属化合物パターンとする。 - 特許庁
METHOD FOR PREPARING FLUOROALCOHOL, FLUORINATED MONOMER, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
フッ素アルコール化合物の製造方法、含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
ORGANOSILOXANE POLYMERIC COMPOUND, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND SUBSTRATE PROTECTIVE FILM例文帳に追加
オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁
ALICYCLIC UNSATURATED COMPOUND, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFYING RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION例文帳に追加
脂環式不飽和化合物、重合体、化学増幅レジスト組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PALLADIUM POLYMER CHELATE COMPOUND, COATING LIQUID FOR ELECTROLESS PLATING AND FORMATION OF METAL MICRO-WIRING PATTERN例文帳に追加
感光性パラジウム高分子キレート化合物、無電解メッキ用塗布液、および金属微細線パターンの形成方法 - 特許庁
LACTONE COMPOUND, LACTONE-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
ラクトン化合物、ラクトン含有単量体、高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
FLUORINE-CONTAINING POLYMERIZABLE MONOMER, FLUORINE-CONTAINING MACROMOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
含フッ素重合性単量体、含フッ素高分子化合物、これを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
An amorphous film composed of a low molecular compound is stably formed, and the transcription of a nano pattern is possible.例文帳に追加
本発明によれば、低分子化合物からなるアモルファス膜を安定に形成し、ナノパタンの転写が可能である。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND IN PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物 - 特許庁
NEW COMPOUND, ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION, RESIST LAYER LAMINATE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
新規な化合物、酸発生剤、化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THIS PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND USED IN THIS PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いる化合物 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND USED FOR THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CHEMICAL COMPOUND USED IN IT, PATTERN FORMING METHOD USING THIS PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern of a good shape with reduced LWR by superior sensitivity, a high molecular compound that can be used as a base material of the positive resist composition, a compound that can be used for synthesizing a structural unit of the high molecular compound, and a resist pattern forming method.例文帳に追加
優れた感度で、ＬＷＲの小さい、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の構成単位の合成に利用できる化合物、及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A refractive index pattern is formed by irradiating the composition with radiation through a pattern mask and subjecting the composition to heat treatment to polymerize the polymerizable compound (A) and to confine the fugitive compound (D) with crosslinking in the exposed area and to decompose the fugitive compound (D) in the unexposed area.例文帳に追加
この組成物にパターンマスクを介して放射線を照射した後、加熱処理して露光部の重合性化合物（Ｂ）を重合せしめ逃散性化合物（Ｄ）を架橋により閉じ込め且つ未露光部の逃散性化合物（Ｄ）を分解させることにより屈折率パターンを形成することができる。 - 特許庁
To provide a method for forming an electrically conductive pattern where an electrically conductive pattern with high resolution and high precision can be easily and efficiently obtained on the surface of a solid by a simple system using a graft polymer pattern with a compound exhibiting strong oil repellency/water repellency such as a fluorine compound.例文帳に追加
固体表面に、フッ素化合物などの強撥油・撥水性を示す化合物を用いたグラフトポリマーパターンを用いて、簡便な方式により、容易に、かつ、効率よく高解像度で、高精度の導電性パターンを得ることができる導電性パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a compound usable as a resist composition, a positive type resist composition containing the compound and to provide a method for forming a resist pattern using the positive type resist composition.例文帳に追加
レジスト組成物用として利用可能な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING SOLID COMPOUND FILM CONTAINING Si-O-Si BOND, MODIFICATION METHOD OF SOLID COMPOUND FILM INTO SILICON OXIDE, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND LITHOGRAPHIC RESIST例文帳に追加
Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物膜の形成方法、固体化合物膜の酸化ケイ素への改質方法、パターン形成方法及びリソグラフイー用レジスト - 特許庁
To provide a new polymeric compound usable for lithographic application and a resist composition containing the polymeric compound and to provide a method for formation of a resist pattern.例文帳に追加
リソグラフィー用途に使用可能な新規高分子化合物、及びこの高分子化合物を含有するレジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A photosensitive composition comprising a chemical compound of a specific structure, a pattern forming method using the photosensitive composition, and a chemical compound of a specific structure constituting the photosensitive composition are disclosed.例文帳に追加
特定構造の化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける特定構造の化合物。 - 特許庁
To make a thin film of a solid compound containing a Si-O-Si bond and to form a fine pattern in a thin film of the solid compound containing the Si-O-Si bond.例文帳に追加
Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物の薄膜化を図り、並びに薄膜化したＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物の微細パターン形成を行う。 - 特許庁
An Ni master 12 having a fine uneven pattern on a surface includes a release layer 14 containing a fluorine compound on the surface along the uneven pattern.例文帳に追加
微細な凹凸パターンを表面に有するＮｉ原盤１２において、凹凸パターンに沿って上記表面に、フッ素化合物を含有した離型層１４を備える。 - 特許庁
The surface treatment agent for forming the pattern contains a specific compound having an amino group and an aromatic ring, and the pattern forming method uses the surface treatment agent.例文帳に追加
アミノ基および芳香族環を有する特定の化合物を含有するパターン形成用表面処理剤、及び、当該表面処理剤を用いたパターン形成方法。 - 特許庁
For the organic thin film transistor, after forming a pattern area A including a siloxane compound, the organic semiconductor thin film is formed in an area in contact with the pattern area A.例文帳に追加
シロキサン化合物を含むパターン領域Ａを形成後、該パターン領域Ａに接する領域に有機半導体薄膜を形成したことを特徴とする有機薄膜トランジスタ。 - 特許庁
The artificial marble is manufacturing by molding a resin compound for manufacturing the artificial marble prepared by compounding a flaky pattern material 1a and an almost spherical pattern material 1b.例文帳に追加
薄片状の柄材１ａと略球状の柄材１ｂとベース樹脂とを混合した人造大理石製造用樹脂コンパウンドを成形して人造大理石を製造する。 - 特許庁
To shorten a process and to uniform a provided pattern, in a method for manufacturing a conductive member pattern by making a solution containing a metal compound absorbed in a resin film.例文帳に追加
樹脂膜に金属化合物を含む溶液を吸収させて導電性部材パターンを製造する方法において、工程の短縮化及び得られるパターンの均一化を図る。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition, a pattern formation method, a polymer and a compound which are excellent in pattern formation property, MEEF performance and etching resistance.例文帳に追加
パターン形成性、ＭＥＥＦ性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。 - 特許庁
To provide a high molecular compound used in a resist composition, to provide a compound useful as a monomer for the high molecular compound; to provide a resist composition having good lithography properties; and to provide a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加
レジスト組成物に利用できる高分子化合物、該高分子化合物のモノマーに有用な化合物、リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor of the compound and a method of producing the same, an acid generator, a resist composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加
レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物の前駆体として有用な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING POLYMERIC COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
To provide a positive resist composition having superior lithographic characteristics and suppressing film reduction during pattern formation, a polymer compound useful as a base component of the positive resist composition, a compound which is useful as a monomer, as well as, a method for forming a pattern.例文帳に追加
リソグラフィー特性に優れ、パターン形成時の膜減りが抑制されたポジ型レジスト組成物、ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、モノマーとして有用な化合物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A first nitride-based III group compound semiconductor layer 31 is etched to form islands in a spotty pattern, a stripe pattern, or a lattice pattern to form steps, wherein the bottom parts are so formed as to expose the substrate by removing a part of the substrate.例文帳に追加
第１のIII族窒化物系化合物半導体層３１を点状、ストライプ状又は格子状等の島状態にエッチングして段差を設け、底部は、基板の一部をも削っす露出するよう形成する。 - 特許庁
The composition for microfabrication of a resist pattern is used in a resist pattern forming method including steps of applying a composition for microfabrication of a resist pattern on a resist pattern formed by using a radiation-sensitive resin composition, and baking, followed by cleaning to microfabricate the resist pattern, and the composition contains an acidic low-molecular weight compound and a solvent that does not dissolve the resist pattern.例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物を用いて形成したレジストパターン上に、レジストパターン微細化組成物を塗布し、ベーク後、洗浄してレジストパターンを微細化する工程、を含むレジストパターン形成方法で用いられる、酸性低分子化合物と、レジストパターンを溶解しない溶媒と、を含有するレジストパターン微細化組成物を提供する。 - 特許庁
To provide new high molecular compound useful as a base material component of positive resist composition, compound useful as a monomer of this high molecular compound, positive resist composition containing the high molecular compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A pretreatment composition, including a basic compound can be also applied prior to the application of the composition for fine pattern formation.例文帳に追加
微細パターン形成用組成物の塗布の前に塩基性化合物を含む前処理組成物を塗布することもできる。 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING RESIN, RESIN USING THE SAME, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND USED FOR THE SAME例文帳に追加
樹脂の製造方法、それを用いた樹脂、ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法、それに用いられる化合物 - 特許庁
SILICON COMPOUND HAVING CYCLIC STRUCTURE CONTAINING FLUORINE AND SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
含フッ素環状構造を有するケイ素化合物及びシリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁
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