「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern forming material has at least a photosensitive layer on a substrate, wherein the photosensitive layer contains a copolymer comprising at least one of structural units derived from monomers represented by formulae (1) and (2) and a structural unit derived from an ethylenically unsaturated monomer having a polyoxyalkylene group; a binder; a polymerizable compound; and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有し、感光層が、下記構造式（１）及び（２）で表されるモノマーに由来する構造単位の少なくともいずれかと、ポリオキシアルキレン基を有するエチレン性不飽和モノマーに由来する構造単位とを有する共重合体、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含む。 - 特許庁

The polyimide precursor composition, for example, for forming a polyimide pattern on a substrate comprises (a) a polyimide acid, (b) a thermal base generator which is a neutral compound which generates a secondary amine undergoing thermal decomposition when heated at a temperature of ≤200°C and (c) a solvent.例文帳に追加

本発明の一態様におけるポリイミド前駆体組成物は、基体上にポリイミドのパターンを形成するためのポリイミド前駆体組成物であって、（ａ）ポリアミド酸、（ｂ）２００℃以下の温度で加熱することにより熱分解を起こして２級アミンが発生する中性化合物である熱塩基発生剤、（ｃ）溶媒を含有する。 - 特許庁

The uneven pattern forming device 2 is provided with a thermal head 17 for locally heating a heat-sensitive recording sheet 10, and a fixing device 22 which radiates a near-ultraviolet-ray blue light of 320 to 450 nm at the light emission peak absorbed in a diazonium salt compound contained in the yellow heat-sensitive color developing layer 31 of the heat-sensitive recording sheet 10.例文帳に追加

凹凸パターン形成装置２は、感熱記録紙１０を局所的に加熱するサーマルヘッド１７と、感熱記録紙１０のイエロー感熱発色層３１に含有されるジアゾニウム塩化合物が吸収する発光ピークが３２０〜４５０ｎｍの近紫外の青色光を照射する定着器２２とを備える。 - 特許庁

To provide a metal polishing fluid which can realize the polishing speed of tantalum, tantalum alloy or other tantalum compound used as a barrier conductor layer material faster than the polishing speed of a wiring metal film, and can form the flush pattern of the metal film with high reliability, and to provide a board polishing method using the fluid.例文帳に追加

バリア層導体として用いられるタンタルやタンタル合金及び窒化タンタルやその他のタンタル化合物の研磨速度が配線金属膜よりも大きく、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液及びそれを用いた基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing agent for CMP capable of suppressing occurrence of dishing, thinning, and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound, or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and to provide a method for polishing a substrate by using the agent.例文帳に追加

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。 - 特許庁

An organic molecule film 12 is used on the surface of a substrate 11 to form lyophilic and liquid-repellent parts in a specific pattern, at the same time, liquid containing an organic silicon compound is selectively applied to the lyophilic part, and an application film is converted into a silicon film by heat treatment and/or light treatment, thus forming a silicon film 16 at the lyophilic part only.例文帳に追加

基板１１表面に有機分子膜１２を用いて、親液部と撥液部とを所定のパターンに形成するとともに、有機ケイ素化合物を含有した液体を親液部に選択的に塗布し、熱処理および／または光処理によって塗布膜をシリコン膜に変換することにより、親液部のみにシリコン膜１６を形成する。 - 特許庁

The composite optical filter has the electromagnetic wave-shielding properties and the near-infrared light-absorbing properties, and the composite optical filter includes, sequentially on a transparent base material 1: a conductor pattern layer 2; an ultraviolet-curing resin layer containing composite tungsten oxide compound particles 5, or a thermoplastic resin layer 3 that is thermally fused and is cooled and solidified; and a functional member 4.例文帳に追加

透明基材１上に、導電体パターン層２、複合酸化タングステン化合物微粒子５を含む紫外線硬化樹脂層又は加熱溶融・冷却固化した熱可塑性樹脂層３、及び機能性部材４がこの順に積層されてなる、電磁波遮蔽性能と近赤外線吸収性能とを有する複合光学フィルタである。 - 特許庁

The printed wiring board is formed by drawing a pattern on a substrate using an ink for forming the printed wiring board containing a copper acetate (II), an alcoholic series compound having an amino group in molecule, such as, for example, a 2-diethylamono ethanol or a 2-(2-aminoethoxy)ethanol at least, reducing at least the part of the copper acetate (II) into copper by heating.例文帳に追加

酢酸銅（II）と、分子内にアミノ基を有するアルコール系化合物、例えば２−ジエチルアミノエタノール又は２−（２−アミノエトキシ）エタノールと、を少なくとも含有するプリント配線基板形成用インクを用いて、基板上にパターンを描画し、加熱しによって酢酸銅（II）の少なくとも一部を銅に還元して、プリント配線基板を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a positive-type photosensitive resin composition capable of obtaining a high-sensitivity, high-resolution pattern, having low linear expansion coefficient and giving uniform film thickness because of the superior dispersibility of an alkali soluble resin, a photosensitive diazo quinone compound and an inorganic oxide colloid solution to each other, and to provide a semiconductor device and a display device.例文帳に追加

高感度で高解像度のパターンを得ることができ、低線膨張係数を有し、アルカリ可溶性樹脂と感光性ジアゾキノン化合物と無機酸化物のコロイド溶液との分散性に優れるため膜厚が均一なポジ型感光性樹脂組成物の製造方法並びに半導体装置及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

The composition of a matter for forming a conductive film composed of an aqueous photosensitive resin element an aqueous metal organic compound element, which can form an electrically conductive film by being calcined, and an aqueous solvent element are coated on a substrate, and after exposure and development based on the required conductive film pattern are performed, the substrate is calcined to form the required conductive film.例文帳に追加

水溶性の感光性樹脂成分と、焼成することにより導電性膜を形成可能な水溶性金属有機化合物成分と、水系溶媒成分とからなる導電性膜形成用組成物を基板上に塗布し、必要な導電性膜パターンに基づく露光および現像を施した後焼成して、必要な導電性膜を形成する。 - 特許庁

To provide a polishing medium for CMP capable of suppressing the occurrence of dishing, thinning and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and a method for polishing a substrate by using the same.例文帳に追加

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。 - 特許庁

A first layer 2 infiltrated with a water-soluble-silicate inorganic compound is formed in a surface layer 1 of a concrete structure; a second layer 3 made of an aqueous color coating serving as a pattern coat is formed on the surface of the first layer 2; and additionally, a third layer 4 made of a diamond-catalytic glass coating serving as a top coat is formed on the surface of the second layer 3.例文帳に追加

コンクリート構造物の表層１に水溶性シリケート無機化合物を浸透させた第１層２を形成して、該第１層２の表面にパタンコートとなる水性カラー塗料よりなる第２層３を形成したうえ、さらに、該第２層３の表面にトップコートとなるダイヤ触媒ガラス皮膜よりなる第３層４を形成する。 - 特許庁

The RHx compound (R represents one metal element in rare earth elements, H is hydrogen and (x) is 2 or around 2) has an FCC (face-centered cubic) structure and a crystalline structure showing high diffraction intensity on the (311) plane than the diffraction intensity on the (111) plane by X-ray diffraction pattern analysis.例文帳に追加

本発明のＲＨｘ（Ｒは希土類元素のうちのいずれか一の金属元素。Ｈは水素元素。ｘは２又はその近傍。）化合物は、ＦＣＣ構造を有し、かつ、Ｘ線回折パターン結果において（１１１）面の回折強度よりも（３１１）面の回折強度のほうが大きい結晶構造を有することを特徴とするものである。 - 特許庁

There is provided with positive radiation-sensitive composition contains (a) a compound, having a carboxyl group protected with an acid releasing group and (b) an acid generating agent, which generates an acid when irradiated with radiation, and the acid releasable group has ≥3 aromatic rings, and a method for producing a resist pattern using the composition.例文帳に追加

ａ）カルボキシル基を酸脱離基で保護した化合物およびｂ）放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、ａ）の酸脱離基が芳香環を３つ以上有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。 - 特許庁

A resist film 102 is formed on a substrate 101, and then the resist film 102 is selectively irradiated with an exposure light while a liquid 104 containing nano-particles (HfO_2) made of an inorganic oxide and an alycyclic compound (1,3-adamandinol) having an alkali-soluble group is disposed on the formed resist film 102, thereby executing pattern exposure.例文帳に追加

基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、続いて、形成したレジスト膜１０１の上に、無機酸化物からなるナノ粒子（ＨｆＯ_２）とアルカリ可溶性基を有する脂環式化合物（1,3−アダマンタンジオール）とを含む液体１０４を配した状態で、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁

The resin composition for forming a fine pattern contains a resin containing a hydroxyl group, a crosslinking component, and an alcohol-based solvent containing alcohol and water by 10 wt.% or less of the whole solvent, wherein the resin composition contains a compound having two or more epoxy groups in the molecule as the crosslinking component.例文帳に追加

水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、アルコール及び全溶媒に対して１０重量％以下の水を含むアルコール系溶媒と、を含有する微細パターン形成用樹脂組成物であって、前記架橋成分として、その分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物を含有する微細パターン形成用樹脂組成物。 - 特許庁

Further, an optical waveguide comprising a substrate plate 1 and a cladding layer 2 formed on the substrate plate 1, and formed with a core part 3 having a prescribed pattern and transmitting light signals, in the cladding layer 2 is provided with that at least one of the cladding layer 2 and core part 3 is formed by a resin composition containing the above trisoxetane ether compound.例文帳に追加

さらに、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記トリスオキセタンエーテル化合物を含有する樹脂組成物によって形成されている。 - 特許庁

A color filter 10 is manufactured by using a colored pattern containing any one of a diketopyrrolopyrrole pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment, a triarylmethane dye and an azo dye, a protective film formed of a radiation-sensitive resin composition containing an alkali-soluble resin and a compound expressed by the formula (1) or the formula (2), and a spacer.例文帳に追加

ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式（１）または下式（２）の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜とスペーサとを用いてカラーフィルタ１０を製造する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.例文帳に追加

放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting device using nitride based III-V compound semiconductors, which has longer operating life by making the crystallinity of a optical wave guide to be good, and particularly, in a semiconductor laser, has a high symmetry of light intensity distribution in a far field pattern and a reduced aspect ratio of a radiation angle, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

光導波層の結晶性を良好とすることができることにより長寿命で、しかも特に半導体レーザでは遠視野像における光強度分布の対称性が高く、放射角のアスペクト比の低減を図ることができる、窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体を用いた半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing the electromagnetic wave shielding material sequentially performs a pattern exposure, a development processing, a physical development and/or a deposition treatment to the original plate for the electromagnetic wave shielding material having layers which contain on a support at least the silver halide particles, a crosslinking binder resin, and a water-soluble compound which is not crosslinked with the crosslinking binder resin.例文帳に追加

支持体上に、少なくともハロゲン化銀粒子と、架橋性バインダー樹脂、及び前記架橋性バインダー樹脂に架橋していない水溶性化合物、を含有する層を有する電磁波遮蔽材料用原版に、パターン露光、現像処理、物理現像及び／又はメッキ処理、を順次行うことを特徴とする電磁波遮蔽材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin eliminating difficulty of a conventional technique, used for fine pattern formation in semiconductor production, and enhancing resist sensitivity more than in conventional products, wherein an effect of reduction of a foreign matter or the like after development is expected, and also to provide a novel dithiol compound which is used suitably for production of the positive photosensitive resin.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりもレジスト感度を高めることができると共に、現像後の異物の低減等の効果が期待されるポジ型感光性樹脂、及び、このポジ型感光性樹脂の製造に極めて好適に用いることができる新規ジチオール化合物を提供する。 - 特許庁

To obtain an FRP molding in which a desired pattern etc., are formed on the surface, and the intermediate layer is molded by a conventional SMC (sheet molding compound) and to provide a method for producing an excellent FRP molding in which resins of the surface layer and the inner surface (intermediate) layer are prevented from mixing to be brought on the surface by altering the SMC composing both layers.例文帳に追加

表面に所望の模様等を付し、中間層を従来のＳＭＣによるＦＲＰ成形品を得ることを目的とするものであり、表面層と内面（中間）層とを構成するＳＭＣを変えることにより、両層の樹脂が混じり合って表面に出てきてしまうということもないという優れた特徴を有するものである。 - 特許庁

On one face of the anode 10 having an active material layer 2 containing an element with the high forming ability of a lithium compound, a resist pattern with a number of open holes 12c is formed, and then, portions exposed through the open holes 12c are removed by etching to form a number of through-holes 5 on the active material layer 2 extended in a thickness direction.例文帳に追加

リチウム化合物の形成能の高い元素を含む活物質層２を有する負極１０の一面に、多数の開孔部１２ｃを有するレジストパターンを形成し、次いで開孔部１２ｃを通じて露出している部位をエッチングにより除去して活物質層２にその厚さ方向へ延びる貫通孔５を多数形成する。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, and is characterized in that the photosensitive layer contains a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and a coloring dye, and that the coloring dye as a 0.5 mass% methylethylketone solution shows ≤0.3 MPa filter pressure through a filter having a 0.45 μm pore diameter.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び着色染料を含み、かつ、該着色染料０．５質量％のメチルエチルケトン溶解液の孔径０．４５μｍフィルターでの濾過圧が、０．３ＭＰａ以下の着色染料であることことを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

A hole transport/injection layer or a light-emitting hole transport layer, with a high heat resistance having crosslinking group, having a pattern formed by mask exposure, can be effectively formed by using a hole transporting condensate with a high Tg formed by addition condensation of aromatic tertiary amine having a triarylamine structure and a carbonyl compound like aldehyde.例文帳に追加

トリアリールアミン構造を有する芳香族第三級アミンとアルデヒド等のカルボニル化合物との付加縮合により生成されるＴｇの高い正孔輸送性縮合物を用いると、耐熱性が高く、架橋基を有することもでき、マスク露光によるパターン形成した正孔輸送注入層や正孔輸送発光層を形成するのに効果がある。 - 特許庁

In the processing method, a photosensitive resin composition comprising a polybenzoxazole precursor and a photosensitive diazoquinone compound is applied, prebaked, exposed and developed to form a pattern, curing is carried out at a temperature higher than the prebaking temperature and lower than the final curing temperature, and after etching, the photosensitive resin composition is finally cured.例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール前駆体と感光性ジアゾキノン化合物からなる感光性樹脂組成物を塗布、プリベーク、露光、現像し、パターンを作成した後、プリベーク温度より高い温度、ただし、最終硬化温度より低い温度にて硬化を行い、その後、エッチングし、感光性樹脂組成物を最終硬化する感光性樹脂組成物の加工方法である。 - 特許庁

After a circuit pattern is formed, a laminated body 10 in which a palladium appears is dipped in a palladium inactivating treatment liquid where 1 V% ammonium liquid as a dissolving agent is dissolved by 1 wt.% sulfide compound, so that palladium ions on the surface of an insulation layer are inactivated and their catalytic function is lost.例文帳に追加

回路パターンを形成後パラジウム２０が現れた積層体１０を、溶解化剤としての１Ｖ％アンモニア水に硫化化合物を１重量％溶解したパラジウム不活性化処理液に浸漬することによって、絶縁層１８の表面のパラジウムイオン２０が不活性化されて触媒としての機能を失うことになる（図２の工程Ａ）。 - 特許庁

To obtain both a polymer compound useful as a base resin for a positive type resist material and the positive type resist material containing the polymer compound, having excellent uniformity in fine processing, high sensitivity/high resolution, excellent pattern shape, excellent heat resistance film remaining properties, adhesivity to a substrate and storage stability.例文帳に追加

下記構造式（１）で示される繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１，０００〜３０，０００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子の一部が１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル基で置換され、かつ残りの水酸基の一部の水素原子が−ＣＲ^１Ｒ^２ＯＲ^３で示される酸不安定基により置換及び／又は−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−Ｒ^６−Ｏ−ＣＲ^７Ｒ^８−で示される架橋基により分子内又は分子間で架橋されていることを特徴とする高分子化合物。 - 特許庁

In the optical waveguide, which includes a substrate 1, a cladding layer 2 formed on the substrate 1, and a core 3 formed in a predetermined pattern in the cladding layer 2 for transmission of an optical signal, at least one of the cladding layer 2 and the core 3 is formed of the resin composition for the optical waveguide, including a special epoxy compound [(A) component] and a photoacid generator [(B) component].例文帳に追加

基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路において、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方を、特殊なエポキシ化合物〔（Ａ）成分〕および光酸発生剤〔（Ｂ）成分〕を含有する光導波路用樹脂組成物で形成する。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁

This invention relates to the printed wiring board which has the insulating protective film formed of the siloxane-based resin composition on the substrate including the insulating base, adhesive and wiring pattern, the siloxane-based resin composition containing 0.5 to 10 parts by mass of a compound having one or more hindered phenol groups in a molecule for 100 parts by mass of a resin component.例文帳に追加

絶縁基材、接着剤、及び配線パターンを含んでなる基板に、シロキサン系樹脂組成物からなる絶縁保護膜を形成したプリント配線板において、前記シロキサン系樹脂組成物が、樹脂成分１００質量部に対して、分子中にヒンダードフェノール基を１個以上有する化合物を０．５〜１０質量部含んで構成されプリント配線板に関する。 - 特許庁

To provide a positive type resist material which has an extremely high alkaline dissolution-rate contrast before and after exposure, a high resolution, a high sensitivity, and good roughness (LWR) after exposure, and further which suppresses acid diffusion rate, in particular, a positive type resist material using a high molecular compound suitable as a base resin of a chemical amplification positive type resist material, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、高感度で、露光後のラフネス（ＬＷＲ）が良好であり、その上特に酸拡散速度を抑制できるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound having excellent transparency in exposition at ≤300 nm wavelength, especially ≤160 nm wavelength, e.g. exposition by using F_2 laser as a light source, also excellent in etching resistance in dry etching and useful as a base resin of a resist material excellent in developing characteristics, a resist material, and a method for forming a pattern by using the same.例文帳に追加

波長３００ｎｍ以下、特に波長１６０ｎｍ以下での露光、例えばＦ_２レーザーを光源とする露光において、優れた透明性を有し、かつドライエッチングに対するエッチング耐性に優れ、かつ現像特性に優れたレジスト材料のベース樹脂として有用な新規高分子化合物並びにレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The halftone phase shift mask 100 having a transparent region 23 and a semitransparent region 24 comprising a phase shift pattern 21a is obtained by pattering a halftone phase shift mask blank 10 prepared by forming a semitransparent layer 21 comprising a metal silicide compound thin film containing zirconium, metal except for zirconium, and silicon, on a transparent substrate 11 consisting of a quartz glass substrate or the like.例文帳に追加

石英ガラス基板等からなる透明基板１１上にジルコニウムと、ジルコニウム以外の金属と、シリコンとを含んだ金属シリサイド化合物薄膜からなる半透明膜層２１を形成したハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス１０をパターニング処理して、透明領域２３と位相シフトパターン２１ａとからなる半透明領域２４とを有するハーフトーン型位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device, a resist film is formed on a substrate whose surface has steps and has a sticking or penetrated organic removing liquid using the chemically amplified photoresist composition to which a basic compound has been added by 1-100 mmol per 100 g base resin and a resist pattern is formed by exposing a prescribed region of the resist film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、表面に段差を有するとともに有機剥離液が付着若しくは染み込んだ基板上に、ベース樹脂１００ｇ当たり塩基性化合物を１〜１００ｍｍｏｌ添加した化学増幅型フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を成膜し、前記レジスト膜の所定の領域を露光することによってレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A); a resin that increases its solubility in an alkaline developer by the action of an acid having a repeating unit including a specific norbornane lactone structure and a repeating unit including a specific alicyclic hydrocarbon structure; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with an actinic ray or radiation, and a pattern forming method using it is provided.例文帳に追加

特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The artificial marble is manufactured by preforming the gel coat layer 8 on the surface of a casting mold and forming the pattern layer 9 on the gel coat layer 8, and subsequently injecting a resin compound, obtained by compounding additives such as a filler, a patterning material, an internal release agent, a hardener and the like with a thermosetting resin, into the casting mold to mold and cure the same.例文帳に追加

予め注型用金型面にゲルコート層８を形成すると共に、該ゲルコート層８の上に柄付け模様付けした柄付け模様層９を形成し、その後、熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合して得られた樹脂組成物を注型用金型に注入して成形硬化させて得られる人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

The resist material containing the nitrogen-containing organic compound provides high resolution and satisfactory mask coverage dependency, is useful in microfabrication using an electron beam or far-ultraviolet radiation, and is suitable for use as a fine pattern forming material for VLSI production.例文帳に追加

（Ｒ^1は両端で結合する窒素原子と共に含窒素へテロ脂肪族環又は含窒素ヘテロ芳香族環を形成する炭素数２〜２０の２価の置換基を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はハロゲン原子を含んでもよい。Ｒ^2は炭素数２〜１０のカルボニル基を含んでもよいアルキレン基。Ｒ^3は炭素数２２〜５０の水酸基、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はシアノ基を含んでもよいアルキル基又はアシル基。） - 特許庁

The induction heating cooker 1 is provided with the top plate 2 formed of crystallized glass with a pattern 7 formed on an upper surface, and an induction heating means 3 beneath the top plate 2, and is further provided with a transparent antifouling layer 6 mainly containing a fluorine compound only on a part positioned on an upper surface side of the top plate 2 and above the induction heating means 3.例文帳に追加

絵柄７が上面に形成された結晶化ガラスからなるトッププレ−ト２と、前記トッププレ−ト２下方に誘導加熱手段３とを備え、前記トッププレ−ト２の上面側であって前記誘導加熱手段３の上方部に位置する部分のみにフッ素系化合物を主成分とする透明な防汚層６を設けた誘導加熱調理器１とする。 - 特許庁

The pattern forming method using the photosensitive composition and the compound in the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂及び（Ａ’）特定の一般式で表されるトリフェニルスルホニウム構造を有する繰り返し単位(a0)を有する樹脂を含有し、且つ、樹脂（Ａ）及び／又は樹脂（Ａ’）が、ラクトン構造及びシアノ基を有する繰り返し単位(a1)を有する樹脂である感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物。 - 特許庁

Further, an optical waveguide comprising a substrate plate 1 and a cladding layer 2 formed on the substrate plate 1, and formed with a core part 3 having a prescribed pattern and transmitting light signals, in the cladding layer 2 is provided with that at least one of the cladding layer 2 and core part 3 is formed by a resin composition containing the tetrakis-oxetane ether compound having the fluorene structure.例文帳に追加

さらに、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記フルオレン構造を有するテトラキスオキセタンエーテル化合物を含有する樹脂組成物によって形成されている。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) resin containing a specified cyclic structure in the principal chain, having ≤5% content of a monomer corresponding to repeating structural units constituting the resin based on the total pattern area by GPC and having velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の環構造を主鎖に有し、樹脂を構成する繰り返し構造単位に対応する単量体の含有量がＧＰＣの全パターン面積の５％以下である酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物が提供される。 - 特許庁

This nickel electrode for the alkaline storage battery includes a positive electrode containing a positive electrode active material mainly composed of nickel hydroxide, and a compound including at least one of elements among erbium(Er), thulium(Tm), ytterbium(Yb) and ruthenium(Lu), having a diffraction peak with d=88 nm, d=84 nm and d=76 nm in the X-ray diffraction pattern by Kα line of Co.例文帳に追加

正極を水酸化ニッケルを主成分とする正極活物質と、ＣｏのＫα線によるＸ線回折図において、ｄ＝８８ｎｍ、ｄ＝８４ｎｍおよびｄ＝７６ｎｍに回折ピークを有するエルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）およびルテチウム（Ｌｕ）の中少なくとも一種の元素を含む化合物を含有することを特徴とするアルカリ蓄電池用ニッケル電極とする。 - 特許庁

The photosensitive coating liquid for transparent conductive film formation with indium acetylacetone and an organic tin compound dissolved in a solvent, and then with photosensitive resin with a pyrolytic property and combustibility and a diluted liquid added, is coated on a substrate, dried, exposed, and developed to form fine patterns, which are baked at a temperature of 400°C or more to form a transparent conductive pattern film.例文帳に追加

アセチルアセトンインジウムと有機錫化合物を溶剤に溶解させた後、熱分解性又は燃焼性を有する感光性樹脂と希釈液を加えた透明導電膜形成用感光性塗布液を用い、この塗布液を基材上に塗布、乾燥し、露光、現像を行って微細なパターンを形成し、４００℃以上の温度で焼成して透明導電パターン膜を形成する。 - 特許庁