「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

A resin pattern that can absorb a liquid solution including a metal component is formed on a substrate, the resin pattern is immersed into the solution including the metal component to absorb the solution, and a calcination step is taken to make it a metal or metal compound pattern.例文帳に追加

金属成分を含む溶液を吸収可能な樹脂パターンを基体上に形成し、該樹脂パターンを前記金属成分を含む溶液に浸漬して該溶液を吸収させ、焼成工程を経て金属または金属化合物パターンとする。 - 特許庁

The fine structure has base materials (10, 12) with recess and projection, an extremely thin film pattern (18) consisting of organic compound with amino group or thiol group on a recessed part of the base material, and a layer pattern (20) based on the extremely thin film pattern.例文帳に追加

凹凸を有する基材（１０、１２）と、該基材の凹部上にアミノ基又はチオール基を有する有機化合物からなる極薄膜パターン（１８）と、該極薄膜パターンに基づいた層パターン（２０）を有することを特徴とする微細構造体。 - 特許庁

The paper label is so constituted that: a pattern formation layer (13) is formed on the surface of impregnated paper composed of a paper base material (11) impregnated with a polyisocyanate compound (12).例文帳に追加

紙基材（１１）にポリイソシアネート化合物（１２）を含浸させた含浸紙の表面に、絵柄形成層（１３）が設けられている。 - 特許庁

By applying the amorphous multi-elements compound to the semiconductor pattern, driving characteristics of the thin film transistor are improved.例文帳に追加

非結晶質の多元系化合物を半導体パターンに適用することによって薄膜トランジスタの駆動特性を向上させることができる。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物 - 特許庁

To compound the picture of an object having a curved surface with a two-dimensional background picture in a natural pattern state by a simple operation.例文帳に追加

２次元の背景画像に曲面を有する対象物の画像を簡単な操作で自然な柄の状態に合成できるようにする。 - 特許庁

MONOMER, HIGH POLYMER COMPOUND FOR RESIST, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

単量体、レジスト用高分子化合物、感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク、並びに、高分子化合物 - 特許庁

More preferably, the compound has an X-ray powder diffraction pattern comprising peaks, in terms of 2θ, at about 13.7° and about 14.9°.例文帳に追加

この化合物は、より好ましくは、２θに関して、約１３．７°および約１４．９°にピークを含むＸ線粉末回折パターンを有する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METAL OR METALLIC COMPOUND PATTERN, ELECTRON EMITTER AND ELECTRON SOURCE USING THE SAME, AND PRODUCTION METHOD FOR IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

金属または金属化合物パターンの形成方法、それを用いた電子放出素子、電子源および画像形成装置の製造方法 - 特許庁

POLYMER MEMBRANE FOR HARD MASK COMPOSED OF TETRAHEDRAL CARBON COMPOUND AND ITS PRODUCING METHOD, AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING IT例文帳に追加

四面体炭素化合物からなるハードマスク用のポリマー膜及びその製造方法、並びにそれを利用した微細パターンの形成方法 - 特許庁

A rectangular gate electrode 3 is subjected to pattern formation on a GaAs substrate 1 that is a compound semiconductor substrate with a channel layer 2.例文帳に追加

チャネル層２を有する化合物半導体基板であるＧａＡｓ基板１上に矩形状のゲート電極３をパターン形成する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a new sulfonium compound as a compound decomposable by the irradiation with active light or radiation to generate an acid, and the pattern-forming method uses the photosensitive composition.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、新規なスルフォニウム化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for a resist composition, the acid generator comprising the compound, the resist composition containing the acid generator and a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a new compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator consisting of the compound, a resist composition containing the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用で新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for a resist composition, an acid generator made of the compound, a resist composition including the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a polymer compound enabling the curing reaction and pattern formation in the form of a thin film, etc., by heat, light or the presence of a polymerization initiator and provide a monomer for the polymer compound.例文帳に追加

薄膜などに成形した後に熱や光、または重合開始剤の存在によって硬化反応やパターン形成が可能な高分子化合物及びその原料となるモノマーを提供する。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator comprising the compound, a resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for resist composition, an acid generator made from the compound, a resist composition including the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The stimulus-sensitive composition which contains a compound (A) of a specific structure which generates an acid or a radical under an external stimulus and the pattern forming method uses the same composition, and the compound (A) of the specific structure are presented.例文帳に追加

外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する特定構造の化合物（Ａ）を含有する感刺激性組成物及びそれを用いたパターン形成方法、及び特定構造の化合物（Ａ）。 - 特許庁

To provide a resist composition and a resist pattern forming method superior in lithography characteristics and capable of forming a resist pattern of excellent shape, and to provide a nitrogen-containing polymer compound useful for the resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できる、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに当該レジスト組成物用として有用な含窒素高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a new pattern forming method, by which a three-dimensional pattern with an arbitrary size can be formed on a recording material having a recording layer including a diazonium salt compound, and a recording material employing the same.例文帳に追加

ジアゾニウム塩化合物を含有する記録層を有する記録材料に、三次元のパターンを任意の大きさで形成しうる新規なパターン形成方法、及びそれに用いる記録材料を提供する。 - 特許庁

A selective photo Bi-OCD process is further disclosed whereby the top surface of the substrate is at least partly covered with an insulating pattern such that the deposition of the metallic compound takes place selectively in the openings of the pattern.例文帳に追加

更に、基板の表面が少なくとも部分的に絶縁性パターンで覆われ、金属化合物の析出がパターンの開口部中で選択的に起きる選択光Ｂｉ−ＯＣＤプロセスが開示されている。 - 特許庁

To provide a resist composition for forming a resist pattern excellent in resolution and a profile, to provide a resist pattern forming method using the resist composition, and to provide a compound suitable for the resist composition.例文帳に追加

解像性および形状に優れたレジストパターンを形成できるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該レジスト組成物用として好適な化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition and a resist pattern forming method superior in lithography characteristics and capable of forming a resist pattern of excellent shape, and to provide a high molecular compound suitable for the resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物の提供。 - 特許庁

This method for producing the oxidized compound comprises a process of oxidizing an organic compound by reacting the organic compound with an oxidizing agent in the presence of a titanosilicate (I) obtained by making contact of a titanosilicate (II) having the following X-ray diffraction pattern with a structure-regulating agent, or its silylated compound.例文帳に追加

下記Ｘ線回折パターンを有するチタノシリケート（ＩＩ）と構造規定剤とを接触させることにより得られるチタノシリケート（Ｉ）又はそのシリル化物の存在下に、有機化合物と酸化剤とを反応させることにより、前記有機化合物を酸化させる工程を含む酸化化合物の製造方法の提供。 - 特許庁

When UV excitation light is applied to a sample 151, a resist pattern 23 formed by the resist of emulsion that is an organic compound generates fluorescence, while the mesh of a stainless wire 21 that is the lower layer of the resist pattern 23 is an inorganic compound and does not generate any fluorescence.例文帳に追加

ＵＶ励起光が標本１５１に照射された場合、有機化合物である感光乳剤のレジストにより形成されるレジストパターン２３は蛍光を発生する一方、レジストパターン２３の下層であるステンレスのワイヤ２１のメッシュは、無機化合物であり蛍光を発生しない。 - 特許庁

A pattern-coating material 5, for use in a process of etching a pattern 3B formed on a substrate 1 with use of the pattern as a mask 4, contains a metal compound which can generate hydroxyl groups through hydrolysis.例文帳に追加

基板１の上に形成されたパターン３Ｂをマスク４としてエッチングをするプロセスに用いられるパターン被覆材料５であって、加水分解により水酸基を生成し得る金属化合物を含有することを特徴とするパターン被覆材料を用いてパターンを被覆する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition containing a new compound suitable for use as an acid generator for a resist composition, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

HYDROPHILIC GROUP-CONTAINING ORGANOSILOXANE-BASED POLYMER COMPOUND, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION AND COATING FILM FOR SUBSTRATE PROTECTION例文帳に追加

親水性基を有するオルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁

The colored curable composition includes a colorant, inorganic particles, and a curable compound and is used for pattern formation by a dry etching method.例文帳に追加

着色剤、無機粒子、及び硬化性化合物を含み、ドライエッチング法によるパターン形成に用いられる着色硬化性組成物である。 - 特許庁

The metal pattern forming composition includes a conductive metal or a conductive metal compound, and a carboxylic acid-amine salt.例文帳に追加

本発明によれば、導電性金属または導電性金属化合物、カルボン酸−アミン塩を含む金属パターン形成用組成物が提供される。 - 特許庁

To compound the picture of an object having a complicated curved surface with a two-dimensional background picture in a natural pattern state by a simple operation.例文帳に追加

２次元の背景画像に複雑な曲面を有する対象物の画像を簡単な操作で自然な柄の状態に合成できるようにする。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE RESIST COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN SYNTHESIS OF THE RESIN AND PATTERN-FORMING METHOD WITH THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジスト組成物、該レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a nanocarbon material compound substrate in which a nanocarbon material is arranged with a pattern on a substrate.例文帳に追加

本発明は、ナノ炭素材料が基板上にパターン配列されて形成されたナノ炭素材料複合基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a new polymer compound and a positive type resist composition and to provide a method for forming a resist pattern using the positive type resist composition.例文帳に追加

新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This allows, in the compound substrate 10, a desired metal pattern to be formed on a surface of the piezoelectric substrate by lift-off processing using photolithography.例文帳に追加

これにより、この複合基板１０では、フォトリソグラフィを用いたリフトオフ加工により所望の金属パターンが圧電基板の表面に形成される。 - 特許庁

To suppress formation of an Sn-rich AuSn compound on an interface when an Au bump electrode and a wiring pattern are joined together using Sn solder.例文帳に追加

Ａｕバンプ電極と配線パターンをＳｎはんだで接合する際に、界面にＳｎリッチがＡｕＳｎ化合物が形成されるのを抑制する。 - 特許庁

To obtain a new polymer compound and a positive-type resist composition and to provide a method for forming a resist pattern using the positive-type resist composition.例文帳に追加

新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound useful as a base component of a positive resist composition, to provide a positive resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a specific sulfonium compound as a compound which decomposes upon irradiation with actinic rays or radiation to generate an acid, and the pattern-forming method that uses the photosensitive composition is also provided.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、特定のスルホニウム化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The resist composition contains a compound which generates a specific alkane sulfonic acid by irradiation with active rays or radiation and a specified basic compound, and the method for forming a pattern is carried out, using the resist composition.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び特定の塩基性化合物を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator composed of the compound, a resist composition containing the acid generator and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁