「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The inkjet ink for the metallic pattern formation contains copper metal salt, complexing agent and the hydrazine system compound, characterized by containing a compound which has a reactivity with oxygen.例文帳に追加

銅金属塩、錯化剤およびヒドラジン系化合物を含有する金属パターン形成用インクジェットインクであって、酸素と反応性を有する化合物を含有することを特徴とする金属パターン形成用インクジェットインク。 - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a hydrophilic functional group within a molecule, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基と親水性官能基とを有する化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photoresist composition capable of forming a resist pattern having excellent characteristics, a compound providing such a photoresist composition, resin and resist pattern.例文帳に追加

優れた特性のレジストパターンを形成することができるフォトレジスト組成物とともに、このようなフォトレジスト組成物を提供する化合物及び樹脂並びにレジストパターン製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This thin film pattern generates a fluorescent pattern image by adjacently arranging a fluorescent light emitting part composed of a compound semiconductor emitting fluorescence by the photoluminescence action, and an non-fluorescent light emitting part of not emitting the fluorescence.例文帳に追加

この薄膜パターンは、フォトルミネッセンス作用によって蛍光を発する化合物半導体からなる蛍光発光部と、蛍光を発しない非蛍光発光部とを隣接して配置することにより、蛍光パターン像を発生する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a substrate with a metal pattern by which a substrate, having a micro metal pattern can also be easily mass-produced as designed while using a specific ultraviolet ray sensitive chemical compound.例文帳に追加

特定の感紫外線化合物を用いて設計どおりの微細金属パターンを有する基板を容易に大量生産も可能に得ることができる金属パターンを有する基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in lithographic characteristics and a pattern profile, a method for forming a resist pattern using the resist composition, a novel compound useful as an acid generator for the resist composition, and an acid generator.例文帳に追加

リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。 - 特許庁

To provide a new pattern forming method, by which a three-dimensional pattern with arbitrary size can be formed on a recording material having a recording layer including a diazonium salt compound, and the recording layer used for it.例文帳に追加

ジアゾニウム塩化合物を含有する記録層を有する記録材料に、三次元のパターンを任意の大きさで形成しうる新規なパターン形成方法、及びそれに用いる記録材料を提供すること。 - 特許庁

The composition for coating a photoresist pattern which contains water and a compound of formula (1) is coated on a previously formed photoresist pattern, thereby reducing a size of a contact hole or a blank space of the photoresist effectively.例文帳に追加

下記式（１）の化合物と水を含むフォトレジストパターンコーティング用組成物を既に形成されたフォトレジストパターン上にコーティングさせることにより、フォトレジストコンタクトホールや余白の大きさを効果的に縮小させる。 - 特許庁

The photosensitive resin composition is characterized in that it contains (a) a copolymer containing structural units of a radical polymerizable compound and an alicyclic epoxy-containing polymerizable unsaturated compound as essential components and (b) a quinonediazido-containing compound, and also the method of forming a pattern using the composition is provided.例文帳に追加

（ａ）ラジカル重合性化合物と脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の構造単位を必須成分として含む共重合体及び（ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。 - 特許庁

To provide an acid-unstable group effective for a fluorine-containing compound; a fluorine-containing compound, a fluorine-containing polymerizable monomer, and a fluorine-containing polymer compound, all of them having an acid-unstable group or groups with high transparency and etching resistance; a photoresist using them; and a pattern formation method.例文帳に追加

含フッ素化合物にとって効果的な酸不安定基を提供し、さらに酸不安定基自体に高い透明性、エッチング耐性を持たせた含フッ素化合物、重合性単量体、高分子化合物、又はそれらを用いたフォトレジスト及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To limit the volume of a pattern component material, which is removed in a forming process to an irreducible minimum, so as to reduce the load required for the recovery and reuse of the pattern component material to an irreducible minimum, when a metal or metal compound pattern which is used as an electrode, wiring or an insulating layer is formed.例文帳に追加

電極、配線または絶縁層として用いられる金属または金属化合物パターンを形成するに際し、工程途中で除去されるパターン構成材料を最小限に抑制し、パターン構成材料の回収再利用にかかる負荷を最小限に止めることができるようにする。 - 特許庁

The composition for removing the photoresist pattern capable of improving the removal reliability on the photoresist pattern contains aminoethoxyethanol, a polyalkylene-oxide composition, a glycol ether compound and an aprotic polarity solvent containing nitrogen as the remainder, by minimizing the residual quantity of the photoresist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンの残留量を最少化させることによって、フォトレジストパターンの除去信頼性を向上されることができるフォトレジストパターン除去用組成物は、アミノエトキシエタノール、ポリアルキレンオキサイド化合物、グリコールエテール化合物、及び残部として含窒素非プロトン性極性溶媒を含む。 - 特許庁

In a step for producing a photomask, a light shielding body pattern is directly formed using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbing compound.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程で、特定の光吸収化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて遮光体パターンを直接形成する。 - 特許庁

The compound preferably has an X-ray refraction pattern in which the ratio of peaks on its (003) plane and (104) plane, I(003)/I(104) is 0.4-0.9.例文帳に追加

該化合物は、そのＸ線回折パターンにおける（００３）面と（１０４）面とのピーク比であるＩ（００３）／Ｉ（１０４）が０．４〜０．９であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive pattern of an electrode, wiring, etc. without imparting a damage to the surface of a compound semiconductor layer as much as possible.例文帳に追加

化合物半導体層の表面にできるだけ損傷を与えることなく、電極や配線等の導電パターン形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an acid generator comprising a new compound, a resist composition containing the acid generator, and to provide a method for forming a resist pattern that uses the resist composition.例文帳に追加

新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The resist pattern thickening material has resin, a crosslinking agent and a compound having a cyclic structure, or resin having a cyclic structure at a part and a crosslinking agent.例文帳に追加

樹脂と架橋剤と含環状構造化合物とを含む又は環状構造を一部に有してなる樹脂と架橋剤とを含むレジストパターン厚肉化材料。 - 特許庁

To provide a resist composition which provides a pattern having satisfactory resolution and line edge roughness, and to provide a compound and a resin attaining the resist composition.例文帳に追加

得られるパターンの解像度及びラインエッジラフネスが良好なレジスト組成物、これを実現する化合物及び樹脂を提供することを目的とする。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN SYNTHESIS OF THE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

A wave-guide pattern 12 comprising metal or a metal compound is formed on a substrate 11 having a photoelectric effect by a vapor deposition method or the like.例文帳に追加

電気光学効果を有する基板１１上に、金属あるいは金属化合物からなる導波路パターン１２を蒸着法などで形成する。 - 特許庁

To provide a compound for preparing a chemically amplified positive photoresist composition to give patterns having high resolution and good pattern profile.例文帳に追加

優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。 - 特許庁

By bringing the molecular compound of the taste generation part 110 into contact with a taste nerve, the electric pattern signal of the taste is transmitted to a brain.例文帳に追加

味覚神経に対して味発生部１１０が備える分子化合物を接触させることにより、味の電気パターン信号を脳へ伝達する。 - 特許庁

The growth layer is made of a nitride based compound semiconductor which more easily grows on side walls of the lower layer than on a surface of the upper layer of the lamination pattern.例文帳に追加

成長層は、積層パターンの上層の表面上よりも下層の側面上に成長しやすいナイトライド系化合物半導体からなる。 - 特許庁

POLYHYDROXYURETHANE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

ポリヒドロキシウレタン化合物及びその製造方法、並びに、硬化性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

The obtained product shows XRD pattern characteristic of the hydrotalcite-like compound and has good ion-exchange performance, especially with nitrate ion.例文帳に追加

得られた生成物は、ハイドロタルサイト様化合物に特有のＸＲＤパターンを示すと共に、特に硝酸イオンとの間で優れたイオン交換性能を発揮する。 - 特許庁

The resist pattern is formed by using the liquid for a liquid immersion exposure process containing a phosphor compound having a specific molecular structure at a wavelength range of 200 nm or smaller.例文帳に追加

200nm以下の波長範囲において、特定の分子構造を有するリン化合物を含有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To obtain a photoactive compound having a high sensitivity even to a short wavelength light source and useful for forming a pattern in a high resolution in a photoresist use.例文帳に追加

レジスト用途において、短波長の光源に対しても高感度であり、高解像度でパターンを形成するのに有用な光活性化合物を得る。 - 特許庁

In the photomask manufacturing process, a light shading body pattern is directly made using the photopolymer composition containing a chemical compound which absorbs the specific light.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程で、特定の光吸収化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて遮光体パタンを直接形成する。 - 特許庁

A base pattern is formed by using a base pattern forming material for absorbing an electrode/wiring material which is a aqueous solution containing a water-soluble metal compound comprising a water-soluble photosensitive resin component, rhodium, bismuth, ruthenium, vanadium, chromium, tin, copper or silicon, and an electrode and wiring are formed by absorbing an organic metal compound into the base pattern and by sintering the same.例文帳に追加

水溶性の感光性樹脂成分と、ロジウム、ビスマス、ルテニウム、バナジウム、クロム、錫、鉛またはケイ素を含む水溶性の金属化合物とを含有する水系溶液である電極・配線材料吸収用下地パターン形成材料を用いて下地パターンを形成し、該下地パターンに有機金属化合物を吸収させてから焼成することで電極・配線を形成する。 - 特許庁

The substrate for the display device with the spacers, having a compound base containing an organic material and an inorganic material having the pattern spacers formed in a pattern form on the compound base, is characterized in that the hardness of the pattern spacers is lower than the hardness of the inorganic material contained in the composite material.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、有機材料および無機材料を含有する複合基材と、前記複合基材上にパターン状に形成されたパターンスペーサとを有するスペーサ付表示用基板であって、前記パターンスペーサの硬度が、前記複合基材に含有される前記無機材料の硬度より低いことを特徴とするスペーサ付表示装置用基板を提供する。 - 特許庁

This aqueous multi-color pattern paint is obtained by dispersing colored paint particles (I) of at least two colors in a dispersant, and comprises at least two types of viscosity moderators selected from the group consisting of an inorganic compound, a cellulose derivative-based compound, a polyether-based compound and a polyacrylic acid-based compound.例文帳に追加

少なくとも２色の着色塗料粒子（Ｉ）が分散媒体中に分散してなる水性多彩模様塗料において、無機系化合物、繊維素誘導体系化合物、ポリエーテル系化合物及びポリアクリル酸系化合物よりなる群から選ばれる少なくとも２種の粘性調整剤を含むことを特徴とする水性多彩模様塗料。 - 特許庁

To provide a dry etching method with which no undercut occurs and a working shape difference hardly occurs between an isolate pattern and a congestion pattern, in the step of selectively removing a chemical compound semiconductor layer containing neither Al nor In and laminated on a chemical compound semiconductor layer containing either Al or In.例文帳に追加

ＡｌもしくはＩｎを含む化合物半導体層の上に積層されたＡｌもしくはＩｎを含まない化合物半導体層を選択的に除去する工程において、アンダーカットが生じず、且つ、孤立パターン部と密集パターン部における加工形状差の生じにくい、ドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a conductive pattern sheet is characterized in that a layer containing a photocatalytically-active material is formed on the base material; a solution containing a metal compound is arranged on the layer; and a metal pattern used as wiring is formed by subjecting the metal in the metal compound to photoreduction by an exposure process.例文帳に追加

基材上に光触媒活性材料を含有する層を設け、該層に金属化合物を含む溶液を配置し、露光工程によって該金属化合物中の金属を光還元することで配線となる金属パターンを形成することを特徴とする導電性パターンシートの作製方法。 - 特許庁

Since the sensitivity pattern suggests a new mechanism of action, the compound is a new type of an anticancer agent, and particularly a compound useful as a therapeutic agent for an IGF-1 dependent cancer such as breast cancer, large bowel cancer, and brain tumor.例文帳に追加

更に該化合物はその感受性パターンより新規作用機序をもつことが示唆されることから、新しいタイプの抗癌剤、殊に乳癌、大腸癌並びに脳腫瘍等のIGF-1依存性癌の治療剤として有用な化合物である。 - 特許庁

To provide a novel compound useful as an acid generator for resist composition, the acid generator formed of the compound, the resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new polymer compound which can be used as a substrate component for a positive resist composition, to provide a positive resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern, using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A first liquid containing a metallic compound and a second liquid containing a substance for reducing the metallic compound are mixed and are supplied to a substrate, thus forming a metallic pattern on the substrate.例文帳に追加

本発明は、金属化合物を含む第１の液体と、前記金属化合物を還元する物質を含む第２の液体と、を互いに混ざり合うように前記基体に供給することで、前記基体に金属パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a new method for producing such an alkaline earth thioaluminate-based fluorescent compound that only the diffraction pattern of a perfect alkaline earth thioaluminate compound is detected and no other substances' diffraction patterns are recognized in the X-ray diffractometry.例文帳に追加

Ｘ線回折分析において完全なアルカリ土類チオアルミネート化合物の回折パターンのみ検出され、他の物質の回折パターンが認められないアルカリ土類チオアルミネート系蛍光体化合物の新規な製造法を提供する。 - 特許庁

The composition for pattern formation contains a compound having a functional group capable of causing chain transfer and a functional group whose pKa is 8-14 within a molecule, a binder, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子内に連鎖移動可能な官能基とｐＫａが８〜１４の範囲にある官能基とを有する化合物、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤を含むことを特徴とするパターン形成用組成物である。 - 特許庁

The multifunctional acrylic compound has a siloxane group, the photosensitive resin composition containing it is excellent in adhesion of a pattern, and loss of a small pattern can be inhibited in a development process.例文帳に追加

本発明で使用される多官能アクリル化合物は、シロキサン基を含むものであって、それを含む感光性樹脂組成物はパターンの接着力に優れており、現像工程中に小型のパターンの遺失を防止することができる。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing a polyimide resin having an acid-dissociative group, a compound of generating sulfonic acid by irradiation of light, and a crosslinking agent, a manufacturing method for the pattern using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

酸解離性基を有するポリイミド樹脂、光照射によりスルホン酸を発生する化合物、および架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which does not produce scums during formation of a resist pattern and showing proper matching with a substrate, to provide a polymer compound which is to be used as a base material for the positive resist composition, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターン形成時においてスカムが発生せず、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

After a wiring pattern 32 is formed, an Al wiring pattern 32 and an oxide film 31 on a silicon board 30 are treated with resist peeling liquid consisting of organic solvent, water and fluorine compound before the formation of O3-TEOS-NSG film 33.例文帳に追加

配線パターン３２の形成後、Ｏ_3 −ＴＥＯＳ−ＮＳＧ膜３３の形成前に、有機溶剤、水およびフッ素系化合物で成るレジスト剥離液でシリコン基板３０上のＡｌ配線パターン３２及び酸化膜３１を処理する。 - 特許庁

Since the seed layer formed of a phosphorus compound is subjected to fluorination treatment, the pattern dimension of the original plate is not changed, a pattern is faithfully transferred and the imprinting mold having a permanent mold release function is manufactured.例文帳に追加

また、リン化合物で形成されたシード層をフッ化処理するため、原盤のパターン寸法が変化することがなく、忠実にパターンを転写し、かつ恒久性のある離型機能を有するインプリント用モールドを製造することが出来る。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, which uses a low molecular material as a base component and can form a high-resolution resist pattern, and a method for resist pattern formation, a compound suitable for the positive resist composition, and a dissolution inhibitor.例文帳に追加

基材成分として低分子材料を用いた、高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用として好適な化合物および溶解抑制剤を提供する。 - 特許庁