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compound patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 916件
The surface treating agent contains at least one compound having at least one structure in which adjacent carbon atoms on a benzene ring have a group expressed by X and a group expressed by -CH_2-OR_1 (X indicates univalent organic group, hydroxyl group, amino group or mercapto group. R_1 indicates a hydrogen atom or univalent organic group), and the pattern forming method uses the surface treating agent.例文帳に追加
ベンゼン環上の隣り合う炭素原子に、Ｘで表される基と−ＣＨ_２−ＯＲ_１で表される基とを有する構造（Ｘは１価の有機基、水酸基、アミノ基、メルカプト基を表す。Ｒ_1は、水素原子、または、１価の有機基を表す。）を少なくとも一つ有する化合物を含有することを特徴とする表面処理剤、及び、当該表面処理剤を用いたパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a positive radiation-sensitive resin composition which contains a compound good also in compatibility with other components, can optimally control radiation transmittance particularly as a chemically amplified positive resist effectively sensitive to far-ultraviolet radiation, in particular, can effectively suppress a linewidth change of a resist pattern due to a thickness variation of a resist film on a highly reflecting substrate, and excels also in depth of focus latitude.例文帳に追加
他の成分との相溶性も良好な化合物を含有し、特に遠紫外線に有効に感応する化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線透過率を最適にコントロールすることができると共に、特に、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能で、かつ焦点深度余裕にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
Alternatively, the pattern forming method includes a step of applying a photosensitive paste containing inorganic fine particles and organic components including a photosensitive compound as essential components, an exposing step, a developing step and a baking step, wherein a photosensitive paste whose regular transmittance with respect to 40 μm thickness at the exposure wavelength in the exposing step is ≥10% is used as the above photosensitive paste.例文帳に追加
もしくは、無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストの塗布工程、露光工程、現像工程、および、焼成工程を含み、感光性ペーストとして、前記露光工程の露光波長における厚さ４０μｍあたりの正規透過率が１０％以上である感光性ペーストを用いることを特徴とするパターン形成方法によって解決できる。 - 特許庁
The heat-sensitive lithographic printing plate with the imaging layer containing at least, a thermoplastic resin, a water-soluble polymer compound, a developer and a coupler, formed on a water-resistant support, is heated or irradiated with light to the image pattern.例文帳に追加
耐水性支持体上に少なくとも熱可塑性樹脂、水溶性高分子化合物、顕色剤及び発色剤を含有する画像形成層を有する感熱型平版印刷版を、画像様に加熱または光照射することにより画像部を形成した後、印刷開始前に下記（ｉ）及び（ｉｉ）の化合物を含有する版面処理液を付与した後に印刷を行うことを特徴とする感熱型平版印刷版の印刷方法。 - 特許庁
The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加
特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The pattern forming method includes a step of applying a photosensitive paste containing inorganic fine particles and organic components including a photosensitive compound as essential components, an exposing step, a developing step and a baking step, wherein a photosensitive paste whose total light transmittance with respect to 40 μm thickness at the exposure wavelength in the exposing step is ≥50% is used as the above photosensitive paste.例文帳に追加
無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストの塗布工程、露光工程、現像工程、および、焼成工程を含み、感光性ペーストとして、前記露光工程の露光波長における厚さ４０μｍあたりの全光線透過率が５０％以上である感光性ペーストを用いることを特徴とするパターン形成方法によって解決できる。 - 特許庁
In an ink acceptable base material for forming a conductive pattern using a conductive ink, the ink acceptable base material has at least one base layer of (A) a base layer containing a compound having at least one kind of groups chosen from mercapto group, carboxyl group, carboxylic acid ester group, amino group, and epoxy group, and (B) a base layer consisting of a silane coupling agent.例文帳に追加
導電性インクを用いて導電性パターンを形成するためのインク受容基材において、該インク受容基材が、（Ａ）メルカプト基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、アミノ基及びエポキシ基から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物を含む下地層、（Ｂ）及びシランカップリング剤から成る下地層の少なくともいずれかの下地層を有することを特徴としたインク受容基材及び導電性パターン形成方法。 - 特許庁
A monolayer is formed on a substrate by bonding a silane compound having a hydrolyzable group and a carbon-containing group with liquid-repellent ends to the substrate, the top of the substrate is patternwise coated with an alkaline liquid by an ink jet process and the monolayer in the coated areas is removed by the hydrolytic action of the alkaline liquid to form a liquid-repellent monolayer pattern and a patterned lyophilic substrate surface.例文帳に追加
基板上に、加水分解性基と、撥液性末端を有する炭素含有基とを有するシラン化合物がこの基板に結合した単分子層を形成し、アルカリ性の液体をインクジェット法で基板上にパターン塗布し、この塗布した部分において前記単分子層を上記アルカリ性液体の加水分解作用により除去し、撥液性の単分子層と、パターン化された親液性の基板表面を形成する。 - 特許庁
To obtain a photosensitive polyimide precursor composition containing a low toxicity compound having an ethylenically unsaturated group, having superior photosensitive characteristics such as high sensitivity and high resolution and capable of good development with an aqueous alkali solution, to produce a pattern having superior heat and chemical resistances and to obtain electronic parts having enhanced reliability.例文帳に追加
本発明は、従来のものに比べ毒性の低いエチレン性不飽和基を有する化合物を含み、高感度、高解像度などの優れた感光特性を有する感光性ポリイミド前駆体組成物、及び該組成物はアルカリ水溶液で良好な現像が実現でき、優れた耐熱性、耐薬品性を示すパターンが製造可能なパターンの製造方法並びに前記のパターンを有することにより信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁
The decorative sheet 1 is constituted by laminating an ink layer 11 having a solid ink layer 3 and/or a pattern ink layer 4, an adhesive layer 5 and a transparent resin layer 6 on a base material 2 in this order and at least one of the ink layer 11 and the adhesive layer 5 is formed using an aqueous coating agent containing an aqueous compound having at least two carbodiimide groups in one molecule thereof.例文帳に追加
基材２上に、ベタインキ層３及び／又は絵柄インキ層４を有するインキ層１１、接着剤層５、及び透明樹脂層６をこの順番で積層した化粧シート１であって、前記インキ１１及び前記接着剤層５のうち少なくとも一方を、１分子中に２個以上のカルボジイミド基を持つ水性化合物を含有した水性塗工剤により形成することにより、上記課題を解決した。 - 特許庁
The production process of the artificial marble with a large-sized color pattern comprises heat curing a molding material containing a thermosetting resin, a filler, patterning materials and a curing agent, wherein the patterning materials having various color tones and shapes are previously inserted and fixed inside a mold for casting, and thereafter a resin compound for casting is injected/filled in the gap of the patterning materials and heat-cured.例文帳に追加
熱硬化性樹脂と充填材、柄材、硬化剤を含む成形材料を注型用金型内で加熱硬化させて人造大理石を製造するに当り、予め様々な色調と形状の柄材を注型用金型内に挟み込んで固定した後、柄材の隙間に注型用樹脂コンパウンドを注入・充填して加熱硬化させることにより、大柄の色柄模様を有する人造大理石を製造する。 - 特許庁
This method for forming fluorescent pattern in a barrier plate of a plasma display panel, comprises forming a reflective layer (A) containing inorganic compound (a) selected from alumina, titanium oxide, yttrium oxide, magnesium oxide, calcium oxide, tantalum oxide, silicon oxide, barium oxide and recovered phosphors, and a layer (B), including the phosphor are successively in the barrier plate, and executing exposure, development and baking.例文帳に追加
プラズマディスプレイパネルの隔壁内に蛍光体パターンを形成するに当たり、該隔壁内に、アルミナ、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化タンタル、酸化ケイ素、酸化バリウム、回収蛍光体より選ばれる無機化合物（ａ）を含んでなる反射層（Ａ）、及びその上に蛍光体含有層（Ｂ）を設けてなる層を形成させた後、露光、現像、焼成を行う蛍光体パターンの形成方法。 - 特許庁
In a method for manufacturing an unsaturated polyester resin- molded product molded by laminating plural sheet molding compounds in which an unsaturated polyester resin composition containing an unsaturated polyester resin, a polymerizable monomer, a low shrink material, a curing agent and a thickener is impregnated into a fiber base material, the method for manufacturing the unsaturated polyester resin-molded product is made to contain a pattern material of the sheet molding compound only corresponding to the surface.例文帳に追加
不飽和ポリエステル樹脂、重合性単量体、低収縮材、硬化剤及び増粘剤を含有する不飽和ポリエステル樹脂組成物を繊維基材に含浸させたシートモールデイングコンパウンドを複数枚積層して成形することにより不飽和ポリエステル樹脂成形品を製造する方法において、表面に対応するシートモールデイングコンパウンドにのみ模様材を含有させることを特徴とする不飽和ポリエステル樹脂成形品の製造方法。 - 特許庁
A process of transcribing decorative patterns on textile by applying transcription material layered on a flexible base sheet, consisting of dyes, pigments, film-forming polymers, …a catalyst activated by the heat emitted from cross bonding reactions in which the catalyst comprises: a base of a mono-basic organic compound having pKa of less than 3.50 in water at 20oC and A base of a monobasic organic compound having pKa of over 3.75 in water at 20oC. Characterized in that layered transcription material is pressed against the textile while being heated, flexible base sheet except the layer attached to the textile is removed, and the textile is heated at higher temperature to fix the transcribed pattern. 例文帳に追加
織物生地の装飾加工法及び転写材料染料又は顔料、フィルム形成性重合体、交叉結合反応用の熱によって活性化されうる触媒よりなる転写層を可撓性基材シート上に有する転写材料であって、該触媒が、20℃の水溶液中で3.50以下のpKaをもつ有機塩基との塩、及び20℃の水溶液中で3.75以上のpKaをもつ有機塩基との塩よりなる転写材料の転写層を加熱しながら織物生地に押し付け、織物生地に付着した層を残して可撓性基材シートを除去し、次いで織物生地を高温に加熱して転写を固定することを特徴とする織物生地の装飾加工方法。 - 特許庁
The gel coat layer 10 is further formed on the patterning layer 9 to prevent the flow of the pattern before the resin compound 12 is injected into the casting mold to fill the mold.例文帳に追加
熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合した樹脂組成物１２を得て、これを注型用金型に注入して成形硬化させて人造大理石成形品を製造する方法において、予め、金型面に透明ゲルコート層８を形成し、該透明ゲルコート層８の上に柄付けして柄付け層９を形成し、更にその上にゲルコート層１０を形成して柄付けした柄が流れるのを防止した後、樹脂組成物１２を注型用金型内に注入充填する。 - 特許庁
The powder X-ray diffraction pattern of the biimidazole compound shows a diffraction peak at least in each region from 9.0° to 9.2°, from 11.0° to 11.2° and from 21.2° to 21.4° of 2θ angle by Cu-Kα characteristic X-ray diffraction.例文帳に追加
（Ａ）バインダー樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）着色材料および（Ｅ）溶剤を含有し、光重合開始剤として少なくともビイミダゾール化合物を含む着色感光性樹脂組成物において、ビイミダゾール化合物の（１）粉末Ｘ線回折パターンがＣｕ−Ｋα特性Ｘ線回折の２θ角度で少なくとも９．０°〜９．２°の範囲、１１．０°〜１１．２°の範囲および２１．２°〜２１．４°の範囲にそれぞれ回折ピークを有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。 - 特許庁
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