「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

On the oriented film, the liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound is applied and is maintained at a temperature exhibiting a liquid crystal phase, and the liquid-crystalline component is aligned in the alignment directions which are different from each other in accordance with the directions of the slow axes 71a, 71b in each region corresponding to the multiple pattern regions.例文帳に追加

配向膜上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し液晶相を示す温度に保持して、複数のパターン領域に対応する領域毎に、液晶性成分を互いに異なる配向方向７１ａ，７１ｂに配列させる。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, the sensitivity of the photosensitive layer is ≤20 mJ/cm^2, and the shortest developing time when the photosensitive layer is developed after exposure is 15-50 s.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が２０ｍＪ／ｃｍ^２以下、露光後に現像する際の最短現像時間が１５〜５０秒間である。 - 特許庁

The composition for forming a color pattern contains (A) a pigment, (B) a dispersion resin having an acid value of 20 to 300 mg/g and a weight average molecular weight of 3,000 to 100,000, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, and (E) an organic solvent, and satisfies the following condition.例文帳に追加

（Ａ）顔料、（Ｂ）酸価２０〜３００ｍｇ／ｇ、重量平均分子量３，０００〜１００，０００である分散樹脂、（Ｃ）光重合性化合物、（Ｄ）光重合開始剤、及び（Ｅ）有機溶剤を含有し、下記の条件を満たすことを特徴とする着色パターン形成用組成物。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shield material in which a failure such as disconnection, the poor shape, low adhesiveness of a pattern due to poor transfer of a conductive compound is not generated, and which prevents scattering of light by a prism effect at the foot where a primer layer inclines to reduce a haze value.例文帳に追加

導電性組成物の転写不良に基づくパターンの断線、形状不良、低密着性等の不具合が生じない電磁波シールド材であって、プライマー層の傾斜した麓部でのプリズム効果による光の散乱を防いで、ヘイズ値を低減させることができる電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the artifical marble by the cast molding of a resin compound 1 prepared by mixing a pattern material 3 with a resin composition 2 containing a thermosetting resin and a filler, the viscosity of the resin composition 2 at 30°C at the time of injection is 500,000-2,000,000 poise.例文帳に追加

熱硬化性樹脂、及び、充填材を含有する樹脂組成物２に柄材３を混合した樹脂コンパウンド１を注型成形する人造大理石の製造方法において、上記樹脂組成物２は、３０℃での粘度が５０万ポイズ〜２００万ポイズのものを注入する。 - 特許庁

As for particularly a dihydrochloride hydrate of the compound, a pharmaceutical comprising the crystal exhibiting main peaks at spacings of 17, 7.1, 4.9, 4.3, 3.9 and 3.5 Å in a powder X-ray diffraction pattern obtained by exposure to Kα radiation of copper as the active ingredient is preferable.例文帳に追加

特に、該化合物の二塩酸塩水和物では、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折図において、面間隔が１７、７．１、４．９、４．３、３．９、および、３．５オングストロームに主要なピークを示す結晶を有効成分として含有する医薬が好ましい。 - 特許庁

When a pattern of recesses and projections for information recording is formed by irradiating a specified region (2) on the surface of the thin film of a polymer compound containing an azobenzene structure with addressing light (1), a region (4) including the specified region (2) and larger than that is simultaneously irradiated with bias light (3).例文帳に追加

アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜表面の特定領域（２）に書き込み光（１）を照射して情報記録用凹凸パターンを形成させるに当り、前記特定領域（２）を含むより広い領域（４）にバイアス光（３）を同時に照射する。 - 特許庁

With such an arrangement, interconnect lines on both boards are interconnected while minimizing the wiring distance, and the flexible board 10 is bonded stably to the circuit board 1 in its wiring pattern region, resulting in a highly reliable thin compound circuit board.例文帳に追加

この構成によって、双方の基板上の配線同士を最短の配線距離で相互接続できるとともに、フレキシブル基板１０がその配線パターン領域で回路基板１に結合できるため安定した固定ができ、薄型で高信頼性の複合回路基板を実現できる。 - 特許庁

The pattern forming method using the photosensitive composition and the compound in the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加

（Ａ）特定のトリフェニルスルホニウム構造を有する繰り返し単位(a0)と、ラクトン構造及びシアノ基を有する繰り返し単位(a1)とを有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition for a thermal flow pattern forming system contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a resin or a mixture which is decomposed by the action of the acid to increase it solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂又は混合物、を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To obtain positive type and negative type radiation sensitive resin compositions each sensitive to not only short-wavelength radiation such as far UV but also ordinary UV, having high sensitivity and high resolution, capable of forming a rectangular resist pattern and excellent in shelf stability even in the presence of a basic compound.例文帳に追加

遠紫外線の如き短波長放射線のみならず、通常の紫外線にも感応し、高感度、高解像度で、矩形のレジストパターンを形成することができ、かつ塩基性化合物の存在下でも保存安定性に優れたポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The chemically embossed foamed decorative material is obtained by at least applying a pattern to the surface of a molded article, which comprises a foamable resin composition containing a halogen-free resin, a foaming agent and a metal compound foaming accelerator but not a liquid component, by ink containing a foaming inhibitor.例文帳に追加

非ハロゲン樹脂、発泡剤および金属化合物発泡促進剤を含有し、かつ液状成分は含有しない発泡性樹脂組成物からなる成形品の表面に、発泡抑制剤含有インキで少なくとも部分的に模様を付与し、加熱発泡したケミカルエンボス発泡装飾材。 - 特許庁

Addition of a resol resin of 1-4 pts.wt. to the polyimide compound can provide the polyimide composition that can form a prescribed pattern in a good state by alkali development using the aqueous alkali solution, has plating resistance, and provides the flexible wiring board.例文帳に追加

このポリイミド化合物に１重量部から４重量部のレゾール樹脂を添加させることで、アルカリ水溶液によるアルカリ現像によって良好に所定のパターンが形成できると共に、耐めっき性が付与されたポリイミド組成物及びフレキシブル配線板を提供することができる。 - 特許庁

A surface material composed of the molding compound (BMC or SMC) for decoration is piled on a back material composed of a fiber reinforced thermosetting resin molding product (BMC or SMC of general purpose) not containing the pattern material for decoration and thermally compression molded in a mold to give a decorative molding product.例文帳に追加

また、この加飾用ＢＭＣ又はＳＭＣからなる表面材と加飾用柄材を含有しない繊維補強熱硬化性樹脂成形材料（汎用のＢＭＣ又はＳＭＣ）からなる裏側材とを重ね、これを金型内で熱圧成形することにより加飾成形品を得る。 - 特許庁

To provide a chip type LC compound element capable of suppressing variations in the inductance value of a coil part and in the capacitance value of a capacitor part due to contraction of a conductor pattern and as a result having a controllable variations in the characteristics and a high reliability.例文帳に追加

本発明は、導体パターンが収縮してコイル部のインダクタンス値とコンデンサ部の静電容量値がばらつくのを抑制することができ、これにより、特性のばらつきの抑制が図れる信頼性の高いチップ型ＬＣ複合素子を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A compound containing a resin (A) and a substance (B) having a refractive index different from that of the resin (A) is controlled in an extrusion molding process so that a gap part is partially present in the volume of a screw compression part to leave a laminated pattern at every screw pitch in the extruded molded object.例文帳に追加

樹脂（Ａ）と、これと屈折率の異なる物質（Ｂ）を含むコンパウンドを押出成形する工程において、スクリュー圧縮部容積内に部分的に空隙部が存在するように制御し、押出される成形体にスクリューピッチ毎の積層模様が残るようにする。 - 特許庁

The safety net for the falling of concrete has a rhombic mesh pattern and is produced by using a polyamide multifilament fiber having a single fiber fineness of 1.5-100 dtex and a strength of 4.5-10 cN/dtex and containing 0.1-10 wt.% triazine compound as at least a part of the constituent material of the net.例文帳に追加

単糸繊度１．５〜１００ｄｔｅｘ、強度４．５〜１０ｃＮ／ｄｔｅｘのマルチフィラメントであって、トリアジン系化合物を０．１〜１０重量％含有するポリアミド繊維を構成素材の少なくとも一部に用いてなり、網目の形状が菱目であるコンクリート落下防止ネット。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a chemically amplifying resist having excellent sensitivity even at a low PEB (post exposure baking) temperature, highly balanced lithographic performances such as LWR (line width roughness) and DOF (depth of focus), and sufficient etching durability, and to provide a pattern forming method, a polymer and a compound of the composition.例文帳に追加

ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。 - 特許庁

The conjugated cyclic compound is caused to photopolymerize by the pulsed laser light L at the irradiation position P of the material S to react while controlling the irradiation position P thereby to form the reaction product containing the conductive conjugated polymer in the predetermined pattern.例文帳に追加

そして、被反応物Ｓの照射位置Ｐにおいて、パルスレーザ光Ｌによって共役環状化合物を光重合反応させるとともに、照射位置Ｐを制御することにより、電気伝導性の共役高分子を含む反応生成物を所定のパターンで形成する。 - 特許庁

The pattern forming material has at least a photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the binder has an I/O value of 0.300-0.650 and an acid number of 130-250 mgKOH/g.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３００〜０．６５０であり、かつ、酸価１３０〜２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

The graft polymer pattern forming method includes: (a) a step of forming a photocurable resin composition layer on a substrate; (b) a step of forming a photoreactive layer containing a compound having a polymerizable double bond on the photocurable resin composition layer; and (c) a step of patternwise exposing the photoreactive layer to produce a graft polymer in the exposed area, whereby a graft polymer pattern is formed.例文帳に追加

（ａ）基材上に光硬化性樹脂組成物層を形成する工程、（ｂ）該光硬化性樹脂組成物層上に、重合性の二重結合を有する化合物を含有する光反応性層を形成する工程、及び、（ｃ）該光反応性層をパターン状に露光して、露光した領域にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーパターンを形成する工程を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。 - 特許庁

In the lens sheet in which a light shielding pattern is arranged on a lens substrate having a lens array, the light shielding pattern is formed using a resin layer comprising a photosensitive resin composition containing at least (a) a heat adhesive binder comprising an organic polymer, (b) a compound having at least one or more radical-polymerizable ethylenic double bonds and (c) three or more photopolymerization initiators.例文帳に追加

レンズアレイを有するレンズ基板に遮光パターンが設けられたレンズシートにおいて、前記遮光パターンが、少なくとも、（ａ）有機重合体からなる熱粘着性の結合剤、（ｂ）ラジカル重合性を有するエチレン性二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物、（ｃ）３種類以上の光重合開始剤、を含む感光性樹脂組成物からなる樹脂層を用いて形成されているものとする。 - 特許庁

The solvent or solvent composition for pattern printing of an organic electroluminescence device is a solvent composition which is used when an element pattern constituting the organic electroluminescence device is formed by a printing method, and contains a compound in which one of two terminal alkyl groups of a dipropylene glycol dialkyl ether is a methyl group and the other is a 4 or 5C straight chain or branched chain alkyl group.例文帳に追加

本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスのパターン印刷用溶剤又は溶剤組成物は、有機エレクトロルミネッセンスデバイスを構成する素子パターンを印刷法により形成する際に使用する溶剤組成物であって、プロピレングリコールジアルキルエーテルの２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数４又は炭素数５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基である化合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、ＬＥＲにも優れ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sensitive composition by which roughness is reduced and outgas is suppressed, a compound used for the sensitive composition, and a pattern forming method using the composition, while the sensitive composition is used for a semiconductor manufacturing process of an IC or the like, manufacture of a liquid crystal, a thermal head or the like, and other fabrication processes, and a pattern forming method using the sensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラフネスが低減し、アウトガスが抑制された感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After a wiring layer 4 having a prescribed pattern is formed by dry-etching a metallic film or a semiconductor film formed on a semiconductor substrate, or after forming an insulating layer on the semiconductor substrate on which the wiring layer 4 is formed, followed by a dry-etching of the insulating layer to a prescribed pattern, cleaning is performed with a cleaning agent including a fluorine compound, an organic solvent, and water.例文帳に追加

半導体基板上の金属膜又は半導体膜をドライエッチングし、所定のパターンを有する配線層４を形成した後、あるいは、配線層４が形成された半導体基板上に絶縁層を形成し、これを所定のパターンにドライエッチングした後、フッ素化合物、有機溶剤及び水を含有し、フッ素化合物の含有量が０．００１〜０．２重量％である洗浄剤により洗浄処理する。 - 特許庁

The switch patterns 14, 18 are formed by laminating a melt-bonded circuit board formed by heating a paste containing a metal or metal compound at 140-250°C to mutually melt-bond the metal particles existing in the paste or metal particles or metal particles deposited from the metal compound on a resin-containing circuit pattern composed of a resin-containing conductive paste containing a conductive powder dispersed in a resin binder.例文帳に追加

スイッチパターン１４，１８は導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に、金属又は金属化合物を含有するペーストを１４０℃〜２５０℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層して形成される。 - 特許庁

The power semiconductor module includes a semiconductor element which has an Ni layer formed on an electrode surface, a metallic conductor pattern, and solder joining the semiconductor element and semiconductor pattern together, wherein the solder consists of Sn and 3 to 10 wt.% Cu, and an inter-metal compound formed near an interface between the semiconductor element and solder is 6 to 50 μm thick.例文帳に追加

本発明のパワー半導体モジュールは、電極表面にＮｉ層が形成された半導体素子と金属製導体パターンと前記半導体素子と前記導体パターンを接合したはんだとを備え、前記はんだの組成比がＳｎ−３ｗｔ％Ｃｕ〜Ｓｎ−１０ｗｔ％Ｃｕであり、前記半導体素子とはんだとの界面付近に形成された金属間化合物の厚さが、６μｍ〜５０μｍであることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 特許庁

To provide a new copolymer suitable for a coating film-forming polymer for obtaining a resist pattern which is high in adherence to a substrate and little in pattern collapse in forming ultrafine patterns in manufacturing semiconductors while solving problems in the conventional technologies, a method of manufacturing the copolymer, and a new thiol compound useful as a chain transfer agent in manufacturing these copolymers suitable for coating film-forming polymers.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁

The positive photosensitive composition for the method for forming a thermal flow pattern contains (a) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation and (b) resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

A mask blank has a thin film for forming a pattern on a light transmitting substrate, wherein the thin film comprises an upper layer made of a material containing Cr and oxygen and a lower layer made of a material that contains Ta or its compound and can be etched by a dry etching process that uses a fluorine-based gas.例文帳に追加

透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクにおいて、薄膜は、Ｃｒと酸素を含む材料で形成されている上層と、Ｔａまたはその化合物を含み、且つ、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成されている下層とからなる。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes: a step of coating a semiconductor substrate, having a wiring pattern formed, with an oxide film; a step of covering the oxide film with the film to be etched made of a conductive material; and a step of patterning the film to be etched through plasma etching while giving selectivity to the oxide film by adding a compound containing no carbon and containing sulfur.例文帳に追加

配線パターンが形成された半導体基板上に酸化膜を被覆する工程と、酸化膜上に導電材料の被エッチング膜を被覆する工程と、炭素を含まず硫黄を含む化合物を添加して、被エッチング膜を酸化膜に対して選択性を持たせつつプラズマエッチングしてパターニングする工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the forming die includes steps of: making the forming die (51) of a single crystal material and forming a transfer pattern (29) by etching on the surface (20A) of the forming die (51); and converting the proximity (22A) of the surface including the surface (20A) into a hardened layer (22) comprising a compound of the element constituting the single material.例文帳に追加

また、成形型（５１）を単結晶材で形成し、成形型（５１）の表面（２０Ａ）にエッチングで転写形状（２９）を形成する工程と、表面（２０Ａ）を含むその近傍（２２Ａ）を単結晶材を構成する元素の化合物からなる硬化層部（２２）にする工程とを有する成形型の製造方法とした。 - 特許庁

The tissue structure has the structural characteristic in which the crystal structure substantially exclusive of a graphite structure does not substantially exist, the diffraction lines belonging to the metal Si and Si compound by the pattern analysis using an X-ray diffraction method are not detected and the granular structure is not identifiable by the observation of a transmission type electronmicroscope(TEM).例文帳に追加

その組織構造は、実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM) の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁

The pattern forming material has a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and a sensitizer, and the sensitizer contains at least two sensitizers each having the absorption maximum at a wavelength of 340-500 nm.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び増感剤を含んでなり、該増感剤は、極大吸収波長が３４０〜５００ｎｍである増感剤を少なくとも２種含むことを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

The color filter is manufactured by using a colored pattern containing any one of diketopyrrolopyrrole pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment, a triarylmethane dye and an azo dye, and a spacer formed of a radiation-sensitive resin composition containing an alkali-soluble resin and a compound expressed by the formula 1 or the formula 2.例文帳に追加

ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式１または下式２の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサとを用いてカラーフィルタを製造する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition containing a photosensitive resin, a polymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator with good compatibility with one another, giving a homogeneous solution, excellent in shelf stability, developable with water and giving a strong photo-cured body having good adhesiveness to a substrate and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

感光性樹脂、重合性不飽和化合物および光重合開始剤それぞれの相溶性が良く、溶液は均質系であり、保存安定性に優れ、水現像が可能であり、強固で基材への接着性が良好な光硬化物が得られる感光性組成物ならびにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

There are provided a polysiloxane composition including (A) a polysiloxane, and (B) a compound having a nitrogen-containing heterocyclic structure and at least one selected from a polar group and an ester group, and a method for forming a pattern using a resist underlayer film obtained from a polysiloxane composition having an acid diffusion-controlling agent.例文帳に追加

（Ａ）ポリシロキサン、並びに（Ｂ）窒素含有複素環構造と、極性基及びエステル基から選ばれる少なくとも一種とを有する化合物を含むことを特徴とするポリシロキサン組成物と、酸拡散制御剤を有するポリシロキサン組成物から得られるレジスト下層膜を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming material having at least a photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains at least (A) a binder, (B) a polymerizable compound and (C) a photopolymerization initiator, the binder (A) is stable in a low alkaline developer of pH 8-11 and is decomposed in a high alkaline stripping solution of pH 12-14.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、少なくとも（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含むパターン形成材料において、バインダー（Ａ）が、ｐＨ８〜１１の弱アルカリ現像液中では安定で、ｐＨ１２〜１４の強アルカリ剥離液中で分解するパターン形成材料。 - 特許庁

This inkjet ink used for forming a pattern image by ejecting it from an inkjet-recording device equipped with a pressure-impressing means and an electric field-impressing means is characterized by containing the organic semiconductor compound, an organic solvent having a specific permittivity of 10 or less and at least one selected from specific 5 kinds of ionic liquids.例文帳に追加

圧力印加手段と電界印加手段とを備えたインクジェット記録装置により吐出してパターン像を形成するのに用いるインクジェットインクであって、有機半導体化合物、比誘電率が１０以下の有機溶媒、特定の５種のイオン性液体から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とするインクジェットインク。 - 特許庁

In the information display medium having a recording layer containing a photochromic compound on at least part of a substrate and used as a display medium for confidential information, before recording the confidential information in the medium, a pattern of an arbitrary shape is recorded or erased in the recording layer.例文帳に追加

基板上の少なくとも一部にフォトクロミック化合物を含んだ記録層を有し、機密情報の表示媒体として用いる情報表示媒体であって、前記機密情報が前記媒体に記録される以前に、任意形状のパターンが記録層に記録・消去されていることを特徴とする機密情報表示媒体。 - 特許庁

This transfer material is manufactured by forming sequentially at least a releasing layer 2 comprising an organic/inorganic composite containing an organic polymer comprising a vinylic resin as a main material and a metal-based compound, a pattern layer 4 comprising an acrylic resin and/or a vinylic resin as a main material, and an adhesive layer 5 on a substrate sheet 1 having releasability.例文帳に追加

離型性を有する基体シート１の上に、主材質がビニル系樹脂からなる有機高分子と金属系化合物を含有する有機無機複合体からなる剥離層２と、主材質がアクリル系樹脂および／またはビニル系樹脂からなる図柄層４と接着層５とが少なくとも順次形成される。 - 特許庁

The photosensitive film used for forming a permanent pattern comprises a support, a cushion layer, a barrier layer capable of suppressing transfer of substances, and a photosensitive layer, in this order, wherein the photosensitive layer is formed of a photosensitive composition which comprises (A) a binder, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator and (D) a filler.例文帳に追加

支持体と、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなり、永久パターンの形成に用いられる感光性フィルムである。 - 特許庁

Since an intermetallic compound is not produced between tin on the surface and the basic copper due to presence of the underlying film, tin whisker of the film carrier, or the like, can be prevented effectively and since the underlying film and the fine pattern are heated, whisker preventive function is enhanced through removal of strain from the underlying layer and annealing of copper base.例文帳に追加

下地皮膜の介在で表面のスズと素地の銅との間で金属間化合物が生成しないため、フィルムキャリア等のスズホイスカーを有効に防止できるうえ、下地皮膜と微細パターンを加熱するため、下地層の歪みの除去と銅素地の焼なまし作用により、ホイスカー防止機能がより増進される。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a resin having a repeat unit represented by general formula (I) and a repeat unit represented by general formula (II), and (B) a compound which generates an acid by irradiating with an active ray or radiation, and the pattern forming method using the positive photosensitive composition is also provided.例文帳に追加

（Ａ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁