「compound pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

In that case, a taste control part 120 controls the contact of the molecular compound of the taste generation part 110 with a taste cell on the basis of pattern information of the taste received from a taste information server 190 or the like by a taste reception part 140, or pattern information of the taste stored by a taste storage part 130.例文帳に追加

この場合、味制御部１２０は、味記憶部１３０が記憶した味のパターン情報や味受信部１４０が味情報サーバ１９０などから受信した味のパターン情報に基づいて、味覚細胞に対しての味発生部１１０が備える分子化合物の接触を制御する。 - 特許庁

A texture pattern is drawn on an unscoured woven or knit silk fabric with a mixed liquid obtained by mixing an epoxy compound with a fixing agent and the fabric is dried, heat-treated, washed and scoured to obtain a silk fabric having texture pattern formed on the fabric.例文帳に追加

織り上がった、あるいは、編み上がった未精練の絹生地に、エポキシ化合物に固着剤を混合した混合液を用いて地紋様を描き、乾燥、熱処理、洗浄後、精練を施すことにより、上記絹生地に地紋様を形成させた地紋様を有する絹生地及びその製造方法。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing (a) a resin having a specified repetition unit, (b) a compound generating an acid when irradiated with light, and (c) a crosslinking agent, and (d) a thermally acid generating agent, a pattern manufacturing method using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

（ａ）特定の繰り返し単位を含む樹脂、（ｂ）光照射により酸を発生する化合物、（ｃ）架橋剤、および（ｄ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for thermal flow excellent in controllability of resist pattern size in a thermal flow process using a resist composition for use in ArF excimer laser lithography or the like, a resist pattern forming method, a high molecular compound suitable for the method and a positive resist composition suitable for thermal flow.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れたサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、これに適した高分子化合物およびサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, a resist composition containing a polymer or compound containing at least a perfluoroalkylacetal as an acid decomposable group and an acid generator is applied on a substrate, exposed in a desired pattern and developed using supercritical carbon dioxide under ≤200 atm.例文帳に追加

酸分解性基としてパーフルオロアルキルアセタールを少なくとも含む重合体または化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物を基板上に塗布し、所望のパタン露光処理を施して、２００気圧以下の超臨界二酸化炭素を用いて現像を行なうパタン形成方法。 - 特許庁

The metal nanoparticle cluster ink containing colloid metal nanoparticles and a bifunctional compound, and a method of forming a conductive metal pattern through a heat treatment process after forming the metal nanoparticle pattern on a substrate using a die made of a PDMS polymer as a stamp are provided.例文帳に追加

コロイド金属ナノ粒子と二官能性化合物を含む金属ナノ粒子クラスターインクおよびＰＤＭＳ高分子で作製された型をスタンプとして使って金属ナノ粒子パターンを基板上に形成した後、熱処理過程を通じて伝導性金属パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

The nanocarbon material compound substrate includes the substrate, a three-dimensional structure line pattern including recessed parts and protruding parts formed on the substrate and the nanocarbon material formed on the surface of the substrate on which the three-dimensional structure line pattern is formed.例文帳に追加

本発明は、基板と、前記基板上に形成された凹部および凸部よりなる３次元構造ラインパターンと、前記３次元構造ラインパターンが形成された前記基板の表面に形成されたナノ炭素材料と、を備えることを特徴とするナノ炭素材料複合基板である。 - 特許庁

The method for forming a fine pattern for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect is carried out by using a fine pattern forming material which comprises a water-soluble resin, a water-soluble crosslinking agent and a solvent comprising water or a mixture solution of water and a water-soluble organic solvent, and using an amine compound-containing developing solution.例文帳に追加

水溶性樹脂、水溶性架橋剤、および、水または水と水溶性有機溶媒との混合液からなる溶媒を含有する微細パターン形成材料とアミン化合物含有現像液を用いて、架橋膜膜厚を抑えた、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a silicon compound thin film having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有するシリコン化合物薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

Besides, in the compound substrate 10a, a base layer 1a composed of a transparent resin and a metal film 6a formed with the pattern of openings 7 are laminated in the direction of the plane and integrally formed.例文帳に追加

また、複合基板１０ａは、透明樹脂から成る基層１ａと、開口部７のパターンが形成された金属膜６ａとが平面方向に積層されて一体に形成されたものである。 - 特許庁

To provide a structure where a conductive material that is used as a buried electrode and has a specific pattern shape is buried in a nitride-based compound semiconductor, and to manufacture a device such as an SIT.例文帳に追加

窒化物系化合物半導体において埋め込み電極として利用可能な特定のパターン形状の導電性材料を埋め込んだ構造を実現し、ＳＩＴ等のデバイスを作製可能にする。 - 特許庁

To provide a resist composition suitable for liquid immersion lithography, a resist pattern forming method using the resist composition, and a fluorine-containing polymer compound useful as an additive used in the resist composition.例文帳に追加

液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a sulfonium salt which can be used as a resist material in the photolithography using high energy rays as a light source, a polymer compound, a resist material, and a pattern-forming method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel resist composition, a resist pattern forming method using the resist composition, a novel compound useful as a component for the positive resist composition, particularly as an acid generator, and an acid generator.例文帳に追加

新規なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用の成分、特に酸発生剤として有用な新規な化合物および酸発生剤を提供する。 - 特許庁

A common mode filter is realized which is adaptive to an integrated circuit technology by using a structure that utilizes a flat conductor pattern, for constituting a D-CRLH (dual type right hand/left hand compound) differential transmission line.例文帳に追加

Ｄ−ＣＲＬＨ（デュアル型右手／左手複合）差動伝送線路を構成するために、平面導体パターンを利用した構造により、集積回路技術に適合したコモンモードフィルタを実現する。 - 特許庁

The cleaning liquid composition used for post treatment cleaning of the pattern etching of the insulation film contains at least one kind of fluorine compound, glyoxylic acid, at least one kind of organic acidic salt, and water.例文帳に追加

絶縁膜のパターンエッチングの後処理洗浄に用いられる洗浄液組成物であって、少なくとも１種のフッ素化合物と、グリオキシル酸と、少なくとも１種の有機酸塩と、水とを含有する。 - 特許庁

A base crystalline layer 12 is formed on the surface of a substrate 11 by growing crystals of a nitride-based III-V compound and a first mask pattern 13 is formed on the surface of the layer 12.例文帳に追加

基体１１の表面に窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物の結晶を成長させて下地結晶層１２を形成し、下地結晶層１２の表面に第１のマスクパターン１３を形成する。 - 特許庁

To provide a compound used for photosensitive compositions which have high resolution and improved edge roughness and can be developed with alkali, to provide a photosensitive composition using the same, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a compound substrate which is affixed with a piezoelectric substrate and a support substrate to each other via an organic adhesive layer, and a formation method which allows the formation of a desired metal pattern with high accuracy by using lift-off processing.例文帳に追加

圧電基板と支持基板とを有機接着層を介して貼り合わせた複合基板と、リフトオフ加工を用いて精度よく所望の金属パターンを形成できるようにする形成方法を提供する。 - 特許庁

A lamination pattern including a lower layer made of a nitride based group III-V compound semiconductor and an upper layer made of another material is formed in a partial region on a surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の表面の一部の領域上に、ナイトライド系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体からなる下層及び他の材料からなる上層を含む積層パターンが形成されている。 - 特許庁

The adhesive contains the compound, and the substrate has a metallic thin film pattern having a line width of 0.01-10 μm and useful as a wire grid polarization plate, a diffraction grating, a metal-wired substrate for electronic device, etc.例文帳に追加

接着剤は、該化合物を含み、基板は、０．０１μｍ〜１０μｍの線幅の金属薄膜パターンを有し、ワイヤーグリッド偏光板、回折格子、電子デバイス用金属配線基板等に有用である。 - 特許庁

To provide a polishing compound for chemical mechanical polishing (CMP), with which a high-reliability metal film embedding pattern can be formed efficiently, by obtaining a high CMP speed, while maintaining a low etching speed.例文帳に追加

低いエッチング速度を維持しつつ、高いＣＭＰ速度を得ることにより、信頼性の高い金属膜の埋込みパターンを効率よく形成することができるＣＭＰ用研磨剤を提供する。 - 特許庁

To increase the forming speed of recesses and projections when information is recorded by irradiating a thin film of a polymer compound containing an azobenzene structure with light to form a pattern of recesses and projections on the surface.例文帳に追加

アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に光照射して、表面に凹凸パターンを形成させて情報記録を行う際に、凹凸の形成速度を高速化することを目的とする。 - 特許庁

A method of forming the pattern includes a step of forming a resist film 102 on a substrate 101 and a step of exposing the surface of the formed resist film 102 with an aqueous solution 103 containing an acid compound having a hydrophilic group, such as, for example, an acetic acid.例文帳に追加

基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成されたレジスト膜１０２の表面を、親水基を有する酸性化合物例えば酢酸を含む水溶液１０３にさらす。 - 特許庁

In this method, the resist to which the photofading compound has been added is applied on a substrate to be processed, and the resist is irradiated with the excimer laser light and exposed, and developed, in accordance with normal procedure to form a resist pattern.例文帳に追加

本発明のプロセスは、光退色性化合物を添加したレジストを被処理基板に塗布し、エキシマレーザー光を照射して露光し、定法に従って現像して、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a photo-alignment film excellent in photo-alignment of a lyotropic liquid-crystalline dichroic compound, to provide a manufacturing method of the photo-alignment film, and to provide a manufacturing method of a micro-pattern polarizing element using the photo-alignment film.例文帳に追加

リオトロピック液晶性二色性色素化合物の配向性に優れた光配向膜とその製造方法並びにこれを用いたマイクロパターン偏光素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The reversible image display medium (1) is used which has two or more kinds of photochromic compound groups, having different absorption wavelength bands in a coloring state, formed on a white base substrate in regular array pattern.例文帳に追加

発色状態における吸収波長帯が異なる２種類以上のフォトクロミック化合物群を白色の支持基板上に規則的な配列パターンで形成した可逆画像表示媒体（１）を用いる。 - 特許庁

The pigment dispersion composition containing the processed pigment has a satisfactory dispersion state, and is used together with an ethylenic unsaturated compound and a photopolymerization initiator as a colored pattern forming composition.例文帳に追加

該加工顔料を含有する顔料分散組成物は良好な分散状態を有し、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤と共に着色パターン形成性組成物として用いられる。 - 特許庁

The liquid for the liquid immersion lithography process containing a crown compound is used, so that the excellent resist-pattern is formed in the liquid immersion lithography process with the use of the UV light of not more than 200 nm.例文帳に追加

クラウン化合物を含有してなる液浸露光プロセス用液体を使用することにより、200nm以下の紫外光を用いた液浸露光プロセスにおいて、良好なレジストパターンを形成できる。 - 特許庁

The tire 10, having a wide footprint with a substantially square shape, a distinct tread pattern 11, and a new tread compound, exhibits not only excellent hydroplaning-phenomenon resistance but also good QGL wet traction.例文帳に追加

タイヤ１０は広幅の実質的に方形のフットプリント、明確なトレッドパターン１１、および新しいトレッドコンパウンドを有し、優れたハイドロプレーニング現象特性の他に良好なＱＧＬウェットトラクションを示す。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a compound having a tricyano carbonium group which generates a specified organic acid by irradiation with actinic rays or radiation, and the pattern forming method is carried out by using the above photosensitive composition.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定の有機酸を発生するトリシアノカルボニウム基を持つ化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The composition for forming an electroless plating pattern contains metal compound particles 101 modified with an organic substance 103 on the surface and carrying catalyst metal fine particles 105 on the surface.例文帳に追加

表面を有機物１０３で修飾されるとともに、前記表面１０３に触媒金属微粒子１０５を担持した金属化合物粒子１０１を含む無電解メッキパターン形成用組成物。 - 特許庁

The circuit board comprises an insulation film 2 of a metal compound silicon nitride and an aluminum wiring pattern 3 formed on the surface of a magnesium alloy-made and arbitrary three-dimensional-structured metal base 1.例文帳に追加

マグネシウム合金からなる任意の３次元構造の金属ベース１の表面に、金属化合物たるチッ化ケイ素の絶縁皮膜２とアルミニウム配線パターン３とが形成された金属製回路基板とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a hydroxyacid compound having a reduced metal impurity content and capable of providing a good resist pattern by performing ring opening of a lactone ring using an organic alkali.例文帳に追加

ラクトン環の開環を有機アルカリを用いることによって行ない、金属不純物の含有量を少なくするとともに、良好なレジストパターンを得ることができるヒドロキシ酸化合物の製造法を提供する。 - 特許庁

The region corresponding to the pattern of this metal compound film 812 is irradiated with the energy ray 813 such as electron ray, to obtain a metal catalyst film 814 through precipitation of the catalyst metal in the irradiated region.例文帳に追加

この金属化合物膜８１２のパターンに対応する領域に電子線などのエネルギ線８１３を照射して照射領域に触媒金属を析出させて金属触媒膜８１４を得る。 - 特許庁

The surface treatment method comprises bringing a resist pattern formed from a resin containing a specific lactone structure and a compound having two or more nucleophilic functional groups per molecule into a solid phase-gas phase reaction.例文帳に追加

特定のラクトン構造を含有する樹脂によって形成されたレジストパターンと、一分子中に二個以上の求核性官能基を有する化合物とを固相−気相反応させる表面処理方法。 - 特許庁

To provide an acrylic acid ester derivative which is useful as the raw material for a polymer compound for a photoresist composition having excellent lithographic properties and improved LWR and forms a photoresist pattern of high resolution.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、ＬＷＲが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。 - 特許庁

A cesium-containing aluminosilicate compound obtained by hydrothermal synthesis is subjected to heating treatment at ≥500°C, so that cesium-containing zeolite having a specified X-ray powder diffraction pattern can be crystallized.例文帳に追加

水熱合成により得られたセシウム含有アルミノシリケート化合物を５００℃以上の温度で加熱処理することによって特定のＸ線粉末回折パターンを有するセシウム含有ゼオライトが結晶化される。 - 特許庁

To provide: a polymeric compound useful as a base component of a resist composition; a positive resist composition containing the efficiently; and a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The method includes: a step where an anodically oxidized coating is formed to light metal or an alloy thereof; a step where it is dipped into an aqueous solution containing at least one or more water soluble compounds selected from the group consisting of a water soluble zirconium compound, a water soluble vanadium compound and a water soluble titanium compound; and further; a step where a design pattern is printed or transferred thereto.例文帳に追加

軽金属又はそれらの合金に対して陽極酸化皮膜を形成する工程と、その後に、それぞれ水溶性のジルコニウム化合物、バナジウム化合物、チタン化合物の郡から選ばれた少なくとも１つ以上の水溶性化合物を含有する水溶液に浸漬する工程の後に、さらに、意匠模様を印刷又は転写する工程を含むことを特徴とする - 特許庁

The invention relates to: a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The pattern forming material comprises at least a support and a photosensitive layer on the support, wherein the support has a haze value of ≤5.0% and the photosensitive layer contains at least a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a thermal crosslinking agent and a heterocyclocondensation compound, wherein the photopolymerization initiator contains at least one α-aminoalkylphenone compound.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該支持体のヘイズ値が５.０％以下であり、かつ、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及びヘテロ縮環系化合物を少なくとも含み、該光重合開始剤が、少なくとも１種のα−アミノアルキルフェノン化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

To provide a high molecular compound having excellent reactivity, inflexibility and adhesion to a substrate and less liable to swell in development and a resist material using the high molecular compound as a base resin and having much higher resolution and etching resistance than conventional resist materials and to provide a pattern forming method using the resist material.例文帳に追加

反応性、剛直性及び基板密着性に優れ、かつ現像時の膨潤の小さい高分子化合物、該高分子化合物をベース樹脂とし、従来品を大きく上回る解像性及びエッチング耐性を有するレジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an alkali-developable resin composition having excellent sensitivity, resolution, adhesion and alkali resistance, and the like and forming a minute pattern with high precision, a compound useful as a raw material for the alkali-developable photosensitive resin composition, an alkali-developable resin composition using the compound, and an alkali-developable photosensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用な化合物、該化合物を用いたアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A substrate for recording medium has a track pattern constituted of plural concentric circle-, spiral-or stripe-shaped recessed and projecting parts for dividing tracks thereon and the recessed and projecting parts are manufactured by applying a liquid compound including a precursor for forming a SiO2 layer thereon and converting the liquid compound into SiO2.例文帳に追加

基板上に同心円状、スパイラル状もしくは縞状に多数のトラック分割用の凹凸部から構成されるトラックパターンを有し、前記凹凸部がＳｉＯ_2層を作るための前駆体を含む液状化合物を塗布し、前記液状化合物を転化してＳｉＯ_2となすことにより作製された記録媒体用基板。 - 特許庁