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drift typeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 465件
ION DRIFT TYPE FLOW METER例文帳に追加
イオンドリフト式流量計 - 特許庁
a type of fishing net called a drift net 例文帳に追加
浮き刺し網という魚網 - EDR日英対訳辞書
DRIFT FLUID TYPE SNOW MELTING DRAINING DEVICE例文帳に追加
編流体型消流雪装置 - 特許庁
IH TYPE DRIFT TUBE LINEAR ACCELERATOR例文帳に追加
IH型ドリフトチューブ線形加速器 - 特許庁
H-MODE TYPE DRIFT TUBE LINEAR ACCELERATOR例文帳に追加
Hモード型ドリフトチューブ線形加速器 - 特許庁
DRIFT TYPE SEA ICE COOLING FACILITATION DEVICE例文帳に追加
漂流式海氷冷却促進装置 - 特許庁
To provide a bimorph type vibration gyroscope stable in a temperature drift and a long term drift.例文帳に追加
温度ドリフトや長期ドリフトの安定なバイモルフ型の振動ジャイロを提供する。 - 特許庁
A P-type anode layer 2 is provided above an N^--type drift layer 1.例文帳に追加
N^−型ドリフト層1上にP型アノード層2が設けられている。 - 特許庁
CLOSE TYPE ELECTRON DRIFT PLASMA THRUSTER ADAPTED TO PYROGENETIC LOAD例文帳に追加
高熱負荷に適応する閉鎖型電子ドリフトプラズマスラスタ - 特許庁
A silicon substrate 11 forms an N- type drift region.例文帳に追加
シリコン基板11はN^- 型のドリフト領域を形成する。 - 特許庁
The n-type region where the p-type anode region 3 is not formed is an n-type drift region 2.例文帳に追加
このpアノード領域3が形成されないn領域がnドリフト領域2である。 - 特許庁
To realize a power-MOSFET using n-type drift layers and p-type drift layers and capable of reducing the ON-resistance.例文帳に追加
オン抵抗の低減化を図れる、n型ドリフト層とp型ドリフト層を用いたパワーMOSFETを実現すること。 - 特許庁
An N-type buffer layer 6 is provided between the N^--type drift layer 1 and the P-type anode layer 2.例文帳に追加
N^−型ドリフト層1とP型アノード層2の間にN型バッファ層6が設けられている。 - 特許庁
In this way, the low-density N type embedded drift layer 5 extending from the N+ type drift layer 11 to the bottom of the P type body layer 3 is ensured.例文帳に追加
これによりN+型ドリフト層11からP型ボディ層3底部まで延在する低濃度のN型埋め込みドリフト層5を確保する。 - 特許庁
An N^--type drift layer 2, a P^+-type layer 3, and an N^+-type layer 5 are sequentially formed on an N^+-type substrate 1 using an epitaxial growth.例文帳に追加
N^+型基板1の上に、N^-型ドリフト層2、P^+型層3、N^+型層5を順にエピタキシャル成長させる。 - 特許庁
Since the concentration of the n-type impurity of an n+-type drift region 18b is higher than that of the n-type impurity of n-type drift regions 18a, 12a, and 12b, the resistance of the n+-type drift region 18b is lower than that of the regions.例文帳に追加
n^+型ドリフト領域18bのn型不純物濃度は、n型ドリフト領域18a、12a、12bのn型不純物濃度より高いので、n^+型ドリフト領域18bの抵抗は、これらの領域の抵抗より低い。 - 特許庁
H-MODE TYPE DRIFT TUBE LINEAR ACCELERATOR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
Hモード型ドリフトチューブ線形加速器及びその製造方法 - 特許庁
The N-type buffer layer 6 has a higher impurity concentration than the N^--type drift layer 1.例文帳に追加
N型バッファ層6は、N^−型ドリフト層1よりも高い不純物濃度を持つ。 - 特許庁
A p-type base region 2 is provided in a surface layer of an n^- type drift region 1.例文帳に追加
n^-型のドリフト領域1の表面層に、p型のベース領域2が設けられている。 - 特許庁
The n-type drift electric path region 38a is the conductive-type non-inversion region.例文帳に追加
n型のドリフト電路領域38aはその導電型非反転領域となっている。 - 特許庁
A p-type base region 2 is provided on a surface layer of an n^-type drift region 1.例文帳に追加
n^-型のドリフト領域1の表面層に、p型のベース領域2が設けられている。 - 特許庁
An anode electrode 5 is formed on the o-type anode region 3 and on the n-type drift layer 2.例文帳に追加
pアノード領域3上とnドリフト層2上にアノード電極5を形成する。 - 特許庁
An N- type drift layer 21 is formed in the surface of the N-- type semiconductor layer 12.例文帳に追加
N−−型の半導体層12の表面には、N−型のドリフト層21が形成されている。 - 特許庁
A semiconductor device 10 comprises a p-type semiconductor substrate 1, an n-type drift region 3 provided in the p-type semiconductor substrate 1, and a p-type body region 4 provided in the n-type drift region 3.例文帳に追加
半導体装置10は、p型半導体基板1、p型半導体基板1内に設けられたn型ドリフト領域3、及びn型ドリフト領域3内に設けられたp型ボディ領域4を含む。 - 特許庁
In the semiconductor device, an MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor) includes an n-type drift layer 2 formed on an n-type substrate 1 of silicon carbide, and a p-type body layer 3 selectively formed on the n-type drift layer 2.例文帳に追加
MOSFETは、炭化珪素のn型基板1上に形成されたn型ドリフト層2と、n型ドリフト層2の上部に選択的に形成されたp型ボディ層3とを有する。 - 特許庁
An MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor) of the semiconductor device includes an n-type drift layer 2 formed on an n-type substrate 1 of silicon carbide, and a p-type body layer 3 selectively formed on the n-type drift layer 2.例文帳に追加
MOSFETは、炭化珪素のn型基板1上に形成されたn型ドリフト層2と、n型ドリフト層2の上部に選択的に形成されたp型ボディ層3とを有する。 - 特許庁
An N- type first high resistance drift layer 22 is arranged on one face of a silicon substrate 21 as an N+ type drain area, and an N- type second high resistance drift layer 23 is arranged on the first high resistance drift layer 22.例文帳に追加
N+型ドレイン領域としてのシリコン基板21の一主面上にN型第1高抵抗ドリフト層22が配置され、第1高抵抗ドリフト層22上にN−型第2高抵抗ドリフト層23が配置されている。 - 特許庁
An n-type drift region 101 is formed on a surface part of a p-type silicon substrate 100.例文帳に追加
p型シリコン基板100の表面部にn型ドリフト領域101が形成されている。 - 特許庁
A p type base region 2 is selectively provided on a surface of an n^- type drift region 1.例文帳に追加
n^-型のドリフト領域1の表面に、p型のベース領域2が選択的に設けられている。 - 特許庁
A p-type collector region 103 is formed on a surface part of the n-type drift region 101.例文帳に追加
n型ドリフト領域101の表面部にp型コレクタ領域103が形成されている。 - 特許庁
The concentration of the drift layer 102 is increased while breakdown strength is ensured by the p-type layer 112 to reduce drift resistance.例文帳に追加
P型層112により耐圧を確保しながらもドリフト層102の濃度を高めてドリフト抵抗を低減する。 - 特許庁
An n-type drift region 112 is formed between the n++-type drain region 104 and the p+-type well region 105.例文帳に追加
n^++形ドレイン領域104とp^+形ウェル領域105との間にはn形ドリフト領域112が形成される。 - 特許庁
This is a semiconductor substrate where n-type drift region 2 which is set at desired dopant density is formed on a n+ type substrate 1 is formed, and a trench 10 is formed in the n-type drift region 2.例文帳に追加
n^+型基板1上に所望のドーパント濃度とされたn型ドリフト領域2が形成された半導体基板において、n型ドリフト領域2にトレンチ10を形成する。 - 特許庁
A surface layer on a reverse side of the n-type drift region 1 is provided with a p-type collector region 7.例文帳に追加
n型ドリフト領域1の裏面の表面層には、p型コレクタ領域7が設けられている。 - 特許庁
An n+-type drain layer 17 and a p-type reserve layer 19 are formed on the surface of the drift layer 13.例文帳に追加
ドリフト層13の表面には、n^+ 型のドレイン層17とp型のリサーフ層19とが形成される。 - 特許庁
To reduce background in a silicon drift type detector used in an energy dispersion type X-ray spectrometer.例文帳に追加
エネルギー分散型X線分光器に用いられるシリコンドリフト型検出器においてバックグランドを低減する。 - 特許庁
By increasing an (n) type impurity concentration in an n+ type drift region 21, an ON resistance is lowered.例文帳に追加
n^+型ドリフト領域21中のn型不純物濃度を高くすることにより、ON抵抗を下げている。 - 特許庁
An n+-type source layer 4 is formed on the surface of the p-type well layer 2, and an n+-type drain layer 6 is formed on the surface of the n-type drift layer 3.例文帳に追加
p型ウエル層2の表面にn^+ 型ソース層4が形成され、n型ドリフト層3の表面にn^+ 型ドレイン層6が形成される。 - 特許庁
A P-type body layer 6 is formed on a surface of an N-type drift layer 2, and an N+type source layer 7 is formed on a surface of the P-type body layer 6.例文帳に追加
N型ドリフト層2の表面にP型ボディ層6を形成し、該P型ボディ層6の表面にN+型ソース層7を形成する。 - 特許庁
An n-type buffer layer 2, an n^--type drift layer 3, and a p-type base layer 5 are laminated on an n^+-type 4H-SiC substrate 1 in this order.例文帳に追加
n^+型4H−SiC基板1の上に、n型バッファー層2と、n^-型ドリフト層3と、p型ベース層5とが、この順に積層されている。 - 特許庁
The semiconductor device 100 comprises an n^+-type source region 31, an n^+-type drain region 11, a p^--type body region 41 and an n^--type drift region 12.例文帳に追加
半導体装置100は,N^+ ソース領域31,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁
The N^--type drift layer 2, the P^+-type layer 3, the N^+-type layer 5, and the N^--type channel layer 8 are formed in self- aligning manner by this manufacture.例文帳に追加
このような製法によれば、N^-型ドリフト層2、P^+型層3およびN^+型層5とN^-型チャネル層8とが自己整合的に形成される。 - 特許庁
FABRICATION OF DRIFT TYPE SILICON RADIATION DETECTOR HAVING P-N JUNCTION例文帳に追加
PN接合部分を有するドリフト型シリコン放射線検出器の製造方法 - 特許庁
The semiconductor device 100 includes an N^+-type source region 31, a contact P^+-type region 32, an N^+-type drain region 11, a P^--type body region 41 and an N^--type drift region 12.例文帳に追加
半導体装置100は,N^+ ソース領域31,コンタクトP^+ 領域32,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁
The high-field drift layer 6 constitutes a drift part, and the n-type silicon substrate 1 and an ohmic electrode (not illustrated) on the rear surface of the n-type silicon substrate 1 constitute a lower electrode.例文帳に追加
強電界ドリフト層6がドリフト部を構成し、n形シリコン基板1とn形シリコン基板1の裏面のオーミック電極(図示せず)とで下部電極を構成している。 - 特許庁
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| Copyright (c) 2001 Robert Kiesling. Copyright (c) 2002, 2003 David Merrill. The contents of this document are licensed under the GNU Free Documentation License. Copyright (C) 1999 JM Project All rights reserved. |
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