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etchingを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 19971



例文

METAL SELECTIVE ETCHING SOLUTION例文帳に追加

金属選択性エッチング液 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ETCHING SOLUTION例文帳に追加

エッチング液の製造方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェーハのエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

エッチング方法および装置 - 特許庁

例文

METHOD FOR ETCHING METAL FILM例文帳に追加

金属膜のエッチング方法 - 特許庁


例文

DRY ETCHING METHOD OF NOBLE METAL例文帳に追加

貴金属のドライエッチング法 - 特許庁

SOLUTION FOR ETCHING COPPER ON WAFER例文帳に追加

ウエハ上の銅エッチング液 - 特許庁

MEMBER FOR PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチング装置用部材 - 特許庁

REACTIVE ION ETCHING METHOD例文帳に追加

反応性イオンエッチング方法 - 特許庁

例文

METHOD FOR ETCHING GATE ELECTRODE例文帳に追加

ゲート電極エッチング方法 - 特許庁

例文

METHOD FOR ETCHING GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ガラス基板のエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING INSULATION FILM例文帳に追加

絶縁膜のエッチング方法 - 特許庁

POST BAKING-FREE ETCHING RESIST例文帳に追加

ポストベークフリー用エッチングレジスト - 特許庁

ETCHING METHOD OF CONTACT HOLE例文帳に追加

コンタクトホールのエッチング方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING USING XENON例文帳に追加

キセノンを用いたプラズマエッチング - 特許庁

ETCHING LIQUID, ETCHING TREATMENT METHOD OF GLASS SUBSTRATE AND REPRODUCING TREATMENT METHOD OF ETCHING LIQUID例文帳に追加

エッチング液、ガラス基板のエッチング処理方法およびエッチング液の再生処理方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF PLATINUM例文帳に追加

白金のドライエッチング方法 - 特許庁

MONITORING DEVICE FOR ETCHING PROCESSING例文帳に追加

エッチング処理のモニター装置 - 特許庁

METHOD OF ETCHING RUTHENIUM FILM例文帳に追加

ルテニウム膜のエッチング方法 - 特許庁

ETCHING DEPTH DETECTING APPARATUS, ETCHING APPARATUS, ETCHING DEPTH DETECTING METHOD, ETCHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング深さ検出装置、エッチング装置及びエッチング深さ検出方法、エッチング方法、半導体装置製造方法 - 特許庁

ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチング用電極板 - 特許庁

PHOTOELECTROCHEMICAL ETCHING APPARATUS例文帳に追加

光電気化学エッチング装置 - 特許庁

METHOD OF ETCHING TRANSPARENT FILM例文帳に追加

透明膜のエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING METALLIC FILM例文帳に追加

金属膜のエッチング方法 - 特許庁

The photosensitive film pattern is used as an etching mask to perform etching.例文帳に追加

感光膜パターンをエッチングマスクとしてエッチングを行う。 - 特許庁

ETCHING SYSTEM AND ULTRASONIC VIBRATING DEVICE FOR ETCHING SOLUTION例文帳に追加

エッチング装置及びエッチング液の超音波振動装置 - 特許庁

DRY-ETCHING DEVICE, DRY-ETCHING METHOD AND MEMBER TO BE DRY-ETCHED例文帳に追加

ドライエッチング装置、ドライエッチング方法、被ドライエッチング部材 - 特許庁

SINGLE WAFER PROCESSING ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE FOR WAFER THEREOF例文帳に追加

ウェーハの枚葉式エッチング方法及びそのエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING DEVICE AND DRY ETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ドライエッチング装置及びそれを用いたドライエッチング方法 - 特許庁

ANISOTROPIC ETCHING SOLUTION AND ETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

異方性エッチング液およびそれを用いたエッチング方法 - 特許庁

SPRAY TYPE WET ETCHING METHOD IMPROVED IN ETCHING FACTOR例文帳に追加

エッチングファクターを向上させたスプレー式ウェットエッチング法 - 特許庁

COMPOSITION FOR ETCHING AND ETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

エッチング用組成物及びそれを用いたエッチング方法 - 特許庁

To attain uniform etching using an etching system.例文帳に追加

エッチング装置において、均一なエッチングを行うようにする。 - 特許庁

JIG FOR ETCHING, AND APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING例文帳に追加

エッチング用治具及びエッチング装置並びにエッチング方法 - 特許庁

ETCHING AGENT FOR SYNTHETIC TEXTILE MATERIAL AND ETCHING PROCESSING例文帳に追加

合成系繊維材料の抜蝕剤および抜蝕加工方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR ETCHING SOLUTION, PREPARING METHOD, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体のエッチング液、調製方法及びエッチング方法 - 特許庁

SILICON WAFER ETCHING AGENT, AND ETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

シリコンウェハーエッチング剤及びそれを用いたエッチング方法 - 特許庁

WAFER ETCHING METHOD, AND ROTARY WAFER ETCHING APPARATUS例文帳に追加

ウエハのエッチング方法およびウエハの回転式エッチング装置 - 特許庁

SILICON WAFER, ETCHING LIQUID AND METHOD OF ETCHING THEREFOR例文帳に追加

シリコンウェーハ及びそのエッチング液並びにそのエッチング方法 - 特許庁

ETCHING AGENT FOR COPPER OR COPPER ALLOY, AND ETCHING METHOD THEREFOR例文帳に追加

銅または銅合金のエッチング剤ならびにエッチング法 - 特許庁

SOLUTION FOR ETCHING IRON BASED METAL, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

鉄系金属のエッチング用溶液およびエッチング方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING EQUIPMENT AND ETCHING USING THE SAME例文帳に追加

プラズマエッチング装置およびこれを用いたエッチングの方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM AND ETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

プラズマエッチング装置およびこれを用いたエッチングの方法 - 特許庁

DRY ETCHING SYSTEM AND DRY ETCHING METHOD USING SAME例文帳に追加

ドライエッチング装置及び該装置を用いたドライエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING ETCHING LIQUID, AND APPARATUS FOR CONTROLLING ETCHING LIQUID例文帳に追加

エッチング液管理方法およびエッチング液管理装置 - 特許庁

ETCHING AGENT FOR NATURAL TEXTILE MATERIAL AND ETCHING FINISHING例文帳に追加

天然系繊維材料の抜蝕剤および抜蝕加工方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE FOR SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

シリコン基板のエッチング方法とシリコン基板のエッチング装置 - 特許庁

To provide an etching apparatus capable of performing stable etching.例文帳に追加

安定したエッチングが可能なエッチング装置を提供する。 - 特許庁

SUCTION TYPE PLASMA ETCHING APPARATUS, AND PLASMA ETCHING METHOD例文帳に追加

吸引型プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 - 特許庁

例文

GENERAL POST-ETCHING PROCESSING METHOD FOR DIELECTRIC ETCHING PROCESS例文帳に追加

誘電エッチングプロセスのための総合エッチング後処理方法 - 特許庁




  
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