etchingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 19971件
ETCHING METHOD FOR PRINTED CIRCUIT BOARD AND ETCHING LIQUID例文帳に追加
プリント配線板のエッチング方法及びエッチング液 - 特許庁
METHOD OF ETCHING DEPOSITION FILM例文帳に追加
付着膜のエッチング法 - 特許庁
PLASMA ETCHING PROCESSING METHOD例文帳に追加
プラズマエッチング加工方法 - 特許庁
NORMAL PRESSURE PLASMA ETCHING METHOD例文帳に追加
常圧プラズマエッチング方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ETCHING ARTICLE例文帳に追加
エッチング品の製造法。 - 特許庁
COMPOSITION FOR ETCHING例文帳に追加
エッチング処理用組成物 - 特許庁
METHOD OF ETCHING OXIDE FILM例文帳に追加
酸化膜エッチング方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR SILICON ETCHING例文帳に追加
シリコンエッチング用組成物 - 特許庁
In etching steps, a first etching step is performed by wet etching in which an etchant is used, and a second etching step is performed by dry etching in which an etching gas is used.例文帳に追加
エッチング工程において、第1のエッチング工程は、エッチング液によるウエットエッチングを用い、第2のエッチング工程はエッチングガスによるドライエッチングを用いる。 - 特許庁
As the anisotropic etching, dry etching and PEC etching can be cited.例文帳に追加
この異方性エッチングとしては、乾式エッチング、PECエッチングが挙げられ得る。 - 特許庁
The etching includes two steps of a first etching step and a second etching step.例文帳に追加
エッチングは第1エッチング工程と第2エッチング工程の2段階に分ける。 - 特許庁
SUBSTRATE TRAY USED IN PLASMA ETCHING EQUIPMENT, ETCHING EQUIPMENT, AND ETCHING METHOD例文帳に追加
プラズマエッチング装置において用いる基板トレイ、エッチング装置及びエッチング方法 - 特許庁
In this method of dry etching, CH2F2 is used as an etching gas at the time of dry etching.例文帳に追加
ドライエッチング時に、エッチングガスとしてCH_2F_2を用いることを特徴としている。 - 特許庁
ETCHING RESIDUE REMOVAL METHOD例文帳に追加
エッチング残渣除去方法 - 特許庁
ETCHING SOLUTION AND METHOD FOR CONTROLLING CONCENTRATION OF ETCHING SOLUTION例文帳に追加
エッチング液およびエッチング液の濃度制御方法 - 特許庁
METHOD FOR ETCHING METAL THIN PLATE AND ETCHING DEVICE例文帳に追加
金属薄板のエッチング方法およびエッチング装置 - 特許庁
HIGH RESOLUTION PLASMA ETCHING例文帳に追加
高解像度プラズマ・エッチング - 特許庁
ETCHING SIMULATION METHOD AND ETCHING SIMULATION DEVICE例文帳に追加
エッチング・シミュレーション方法及びエッチング・シミュレーション装置 - 特許庁
ETCHING DEVICE FOR SILICON WAFER例文帳に追加
シリコンウエハのエッチング装置 - 特許庁
ETCHING LIQUID FOR SPRAY ETCHING FOR COPPER AND COPPER ALLOY例文帳に追加
銅および銅合金のスプレーエッチング用エッチング液 - 特許庁
ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING AND PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加
プラズマエッチング用電極板及びプラズマエッチング装置 - 特許庁
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