etchingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 19971件
ANISOTROPIC ETCHING METHOD FOR SILICON例文帳に追加
ケイ素の異方性エッチング法 - 特許庁
PLASMA ETCHING SYSTEM AND PLASMA ETCHING METHOD FOR QUARTZ CRYSTAL PLATE例文帳に追加
水晶板のプラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 - 特許庁
ETCHING APPARATUS, ETCHING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
エッチング装置、エッチング方法、および電子装置の製造方法 - 特許庁
ETCHING APPARATUS, ETCHING METHOD, AND PLATE MEMBER TO BE USED THEREFOR例文帳に追加
エッチング装置、エッチング方法、およびそれに用いるプレート部材 - 特許庁
PRODUCTION EQUIPMENT FOR ETCHING PRODUCT例文帳に追加
エッチング製品の製造設備 - 特許庁
MEASURING METHOD FOR ETCHING ACCURACY例文帳に追加
エッチング精度の測定方法 - 特許庁
ETCHING LIQUID, ETCHING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
エッチング液、エッチング方法および電子部品の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ETCHING PARTS例文帳に追加
エッチング部品の製造方法 - 特許庁
A chemical wet etching by alkali or acid and a physical dry etching such as a sputter etching are used as the etching method.例文帳に追加
エッチング法としてはアルカリや酸による化学的湿式エッチング、スパッタエッチングなどの物理的ドライエッチングが使用される。 - 特許庁
An alkali etching liquid can be used as the etching liquid.例文帳に追加
エッチング液としては、アルカリエッチング液を用いることができる。 - 特許庁
DRY ETCHING APPARATUS, METHOD FO ETCHING, AND METHOD OF FORMING WIRING例文帳に追加
ドライエッチング装置、エッチング方法、及び配線の形成方法 - 特許庁
SUBSTRATE ETCHING APPARATUS, AND SUBSTRATE ETCHING METHOD USING SAME例文帳に追加
基板エッチング装置及びそれを用いた基板エッチング方法 - 特許庁
METHOD FOR REGENERATING ETCHANT, ETCHING METHOD AND ETCHING DEVICE例文帳に追加
エッチング液の再生方法、エッチング方法およびエッチング装置 - 特許庁
PRETREATMENT METHOD FOR POLYIMIDE ETCHING例文帳に追加
ポリイミドエッチング前処理方法 - 特許庁
ALKALINE ETCHING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR WAFER AND ALKALINE ETCHING METHOD例文帳に追加
半導体ウェーハ用のアルカリエッチング液及びアルカリエッチング方法 - 特許庁
ETCHING SOLUTION FOR ALUMINUM FOIL AND ETCHING METHOD FOR ALUMINUM FOIL例文帳に追加
アルミニウム箔用エッチング液およびアルミニウム箔のエッチング方法 - 特許庁
PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置並びに記憶媒体 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD AND DRY ETCHING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
ドライエッチング方法及びこの方法に用いるドライエッチング装置 - 特許庁
ETCHING METHOD OF GOLF CLUB HEAD例文帳に追加
ゴルフクラブヘッドのエッチング方法 - 特許庁
SILICON SUBSTRATE ETCHING METHOD AND SILICON SUBSTRATE ETCHING APPARATUS例文帳に追加
シリコン基板のエッチング方法、及びシリコン基板のエッチング装置 - 特許庁
CLEANING METHOD FOR PLASMA ETCHING EQUIPMENT AND PLASMA ETCHING EQUIPMENT例文帳に追加
プラズマエッチング装置のクリーニング方法、およびプラズマエッチング装置 - 特許庁
ETCHING LIQUID COMPOSITION FOR POLYIMIDE RESIN AND ETCHING METHOD例文帳に追加
ポリイミド系樹脂用エッチング液組成物及びエッチング方法 - 特許庁
ETCHING METHOD OF SILICON NITRIDE FILM, ETCHING APPARATUS AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
窒化シリコン膜のエッチング方法、エッチング装置及び記憶媒体 - 特許庁
PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA ETCHING APPARATUS, PLASMA ETCHING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
プラズマエッチング装置、プラズマエッチング方法および半導体装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ETCHING DEVICE例文帳に追加
エッチング装置の製造方法 - 特許庁
WASHING PROCESSING METHOD AFTER ETCHING例文帳に追加
エッチング後の洗浄処理法 - 特許庁
Next, etching for the film 2 to be made etching is made by using the etching mask 4 and after that a punched pattern of the film 2 to be made etching is formed by eliminating the etching mask 4.例文帳に追加
次にエッチングマスク４を用いて、被エッチング膜２をエッチングし、その後エッチングマスク４を除去して被エッチング膜２の抜きパターンを形成する。 - 特許庁
The selective etching step is performed by a two-step plasma etching method of first anisotropic etching and second isotropic etching having different etching conditions.例文帳に追加
選択食刻工程は食刻条件が異なる第１の異方性食刻と第２の等方性食刻からなる二段階のプラズマ食刻方法で行なう。 - 特許庁
CONTROL METHOD FOR ETCHING DEPTH例文帳に追加
食刻深度の制御方法 - 特許庁
ETCHING METHOD FOR FLEXIBLE BOARD例文帳に追加
フレキシブル基板のエッチング方法 - 特許庁
METHOD FOR ANISOTROPICALLY ETCHING COPPER例文帳に追加
銅の異方性エッチング方法 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
