etchingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 19971件
ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET FOR ETCHING WORK例文帳に追加
エッチング加工用電磁鋼板 - 特許庁
ELECTROCHEMICAL ETCHING OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加
半導体の電気化学エッチング - 特許庁
DRY ETCHING EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS例文帳に追加
ドライエッチング排ガス処理装置 - 特許庁
TREATING METHOD OF ETCHING WASTE LIQUID例文帳に追加
エッチング廃液の処理方法 - 特許庁
HIGH SPEED ETCHING METHOD OF SILICON例文帳に追加
Ｓｉの高速エッチング方法 - 特許庁
ETCHING LIQUID ELECTROLYSIS REGENERATIVE APPARATUS例文帳に追加
エッチング液電解再生装置 - 特許庁
CLEANING METHOD OF ETCHING DEVICE例文帳に追加
エッチング装置のクリーニング方法 - 特許庁
DRY ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加
半導体のドライエッチング方法 - 特許庁
ETCHING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体ウエハのエッチング装置 - 特許庁
METHOD FOR ETCHING MAGNETIC MATERIAL例文帳に追加
磁性材料のエッチング方法 - 特許庁
To a plasma etching trial method which can obtain etching parameters with a less-fluctuated etching rate.例文帳に追加
エッチング速度の変動が少ないエッチングパラメータが得られるプラズマエッチングの試行方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching apparatus which stabilizes etching amount thereby etching a surface to be processed with good reproducibility.例文帳に追加
エッチング量を安定させ、被処理面を再現性よくエッチングできる、エッチング装置を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method and an etching apparatus, capable of uniformly etching a wafer.例文帳に追加
より均一にウエハをエッチングすることができるエッチング方法、及び、エッチング装置を提供する。 - 特許庁
To provide an etching technique high in an etching factor even in high speed etching at a high temperature.例文帳に追加
高温における高速エッチングにおいてもエッチングファクターの高いエッチング技術を提供する。 - 特許庁
Dot deformation by etching is prevented by elimination of etching or laser marking work after etching.例文帳に追加
エッチングの省略、又はエッチング後のレーザマーキング加工により、エッチングによるドット変形が防止される。 - 特許庁
As a result, it becomes possible to change directivity of the etching (between isotropic etching and anisotropic etching).例文帳に追加
これにより、エッチングの指向性（等方的か異方的か）を変化させることが可能となる。 - 特許庁
ETCHING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, ETCHING METHOD USING THE ETCHING DEVICE AND TREATED OBJECT例文帳に追加
エッチング装置及びその製造方法並びに該装置を用いたエッチング方法及び被処理物 - 特許庁
To provide an etching method capable of performing etching at a high etching rate while avoiding notching.例文帳に追加
ノッチングを回避するとともに、高エッチングレートでのエッチングが可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To enable performing etching of an etching material hard to etch by using an ECR plasma etching apparatus.例文帳に追加
ＥＣＲプラズマエッチング装置を使用して難エッチング材料のエッチングを行えるようにする。 - 特許庁
PRODUCING METHOD OF DISPLAY DEVICE, ETCHING DEVICE AND ETCHING METHOD例文帳に追加
表示装置の製造方法とエッチング装置及びエッチング方法 - 特許庁
TREATMENT OF ETCHING WASTE LIQUID AND DEVICE FOR TREATMENT OF ETCHING WASTE LIQUID例文帳に追加
エッチング廃液の処理方法及びエッチング廃液処理装置 - 特許庁
PRODUCING METHOD FOR CIRCUIT BOARD AND ETCHING METHOD AND ETCHING SYSTEM THEREFOR例文帳に追加
回路基板の製造方法、エッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁
CAUSTIC REDUCTION ACCELERATOR FOR ETCHING POLYESTER FIBER AND METHOD FOR ETCHING例文帳に追加
ポリエステル繊維抜蝕加工用減量促進剤及び抜蝕加工方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MATERIAL FOR ETCHING, AND MATERIAL FOR ETCHING例文帳に追加
エッチング加工用素材の製造方法及びエッチング加工用素材 - 特許庁
ETCHING SIMULATION DEVICE, ETCHING SIMULATION METHOD, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
エッチングシミュレーション装置、エッチングシミュレーション方法、プログラム、記憶媒体 - 特許庁
The etching amount is controlled depending on the number of etching times under a condition that the etching amount is decided independently of the etching time.例文帳に追加
エッチング時間に依存することなくエッチング量が定まる条件の下で、エッチング回数によってエッチング量を制御する。 - 特許庁
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