etchingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 19971件
After etching the interlayer insulation films 2 and 3 by anisotropic etching, isotropic etching is performed.例文帳に追加
そして、異方性エッチングによりこれら層間絶縁膜２，３をエッチングした後、等方性エッチングを施す。 - 特許庁
ETCHING LIQUID FOR SILVER THIN FILM, AND ETCHING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD FOR SILVER THIN FILM USING THE ETCHING LIQUID例文帳に追加
銀薄膜用エッチング液、そのエッチング液を用いた銀薄膜のエッチング方法及びパターン形成方法 - 特許庁
To provide a plasma etching method and a plasma etching device which can increase anisotropy of etching.例文帳に追加
エッチングの異方性を高めることのできるプラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching device which has a high etching rate and prevents ion damages on a surface after etching.例文帳に追加
高いエッチングレートを有しエッチング後の表面のイオン損傷を防止するエッチング装置を提供する。 - 特許庁
ETCHING METHOD AND CLEANING PROCESSING METHOD例文帳に追加
腐刻方法、清掃処理方法 - 特許庁
SOFT-ETCHING SOLUTION AND PLATING METHOD例文帳に追加
ソフトエッチング液及びめっき方法 - 特許庁
Thereafter, the Si etching is resumed.例文帳に追加
その後、Ｓｉエッチングを再開する。 - 特許庁
METHOD FOR TREATING COPPER-ETCHING WASTE LIQUID例文帳に追加
銅エッチング廃液の処理方法 - 特許庁
METHOD FOR DRY-ETCHING MAGNETIC MATERIAL例文帳に追加
磁性材料のドライエッチング方法 - 特許庁
CLEANING METHOD OF DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加
ドライエッチング装置のクリーニング方法 - 特許庁
ETCHING METHOD OF QUARTZ GLASS MEMBER例文帳に追加
石英ガラス部材のエッチング方法 - 特許庁
After etching the silicon substrate 2 by the base etching process, etching of the quartz substrate 1 is performed by the quartz etching process, or after etching the quartz substrate 1 by the quartz etching process, etching of the silicon substrate 2 is performed by the base etching process.例文帳に追加
ベースエッチング工程によりシリコン基板２のエッチングを行った後、水晶エッチング工程により水晶基板１のエッチングを行ったり、或いは、水晶エッチング工程により水晶基板１のエッチングを行った後、ベースエッチング工程によりシリコン基板２のエッチングを行ったりするようにした。 - 特許庁
PLASMA ETCHING METHOD FOR POLYSILICON LAYER例文帳に追加
ポリシリコン層のプラズマ・エッチング方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ETCHING METAL BODY例文帳に追加
エッチング金属体の製造方法 - 特許庁
TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM ETCHING COMPOSITION例文帳に追加
透明導電膜エッチング組成物 - 特許庁
CUPRIC CHLORIDE ETCHING LIQUID COMPOSITION例文帳に追加
塩化第二銅エッチング液組成物 - 特許庁
ETCHING METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
窒化物半導体のエッチング方法 - 特許庁
ATMOSPHERIC PLASMA ETCHING METHOD FOR TUNGSTEN例文帳に追加
タングステンの常圧プラズマエッチング方法 - 特許庁
UPPER ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING例文帳に追加
プラズマエッチング用上部電極板 - 特許庁
ETCHING OF MULTILAYER ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM例文帳に追加
多層導電膜のエッチング方法 - 特許庁
VIA ETCHING METHOD FOR ORGANIC SILICA GLASS例文帳に追加
有機シリカガラスのビアエッチング方法 - 特許庁
The patterning process includes a first etching process for etching the processed film in a first etching condition and a second etching process for etching further the processed film in a second etching condition different from the first etching condition.例文帳に追加
このパターニング工程は、第１のエッチング条件で前記被処理膜のエッチングを行なう第１エッチング工程、および、第１のエッチング条件とは異なる第２エッチング条件で前記被処理膜のエッチングを更に行なう第２エッチング工程を含む。 - 特許庁
When performing etching for forming grooves of dummy patterns 12, since the etching rate of the etching-resistant film 6 is made not higher than one-tenth of the etching rate of the second insulation layer, the etching-resistant film 6 functions as an etching stopper so that the etching does not proceed to the first insulation layer 5.例文帳に追加
ダミーパターン１２の溝の形成のためのエッチングの際は、絶縁層のエッチングの速度に対し、耐エッチング膜６のエッチングの速度が1/10以下であるため、これがエッチングストッパーとして機能し、第１の絶縁層５にまでエッチングが進むことがない。 - 特許庁
To provide a dry etching method for etching an etched substrate directly without forming an etching mask of resist, or the like, on the etched substrate in which the etching mask is not required to be exfoliated after dry etching, and to provide an etching mask.例文帳に追加
被エッチング基材上にレジスト等のエッチングマスクを形成せずに直接被エッチング基材をエッチングし、且つドライエッチング後にエッチングマスクを剥離する必要のないドライエッチング方法及びエッチングマスクを提供する。 - 特許庁
To provide an etching liquid and etching method, capable of etching silicon nitride and also capable of stably etching for long periods of time, by reducing a surface tension of a phosphoric acid etching liquid in etching silicon nitride.例文帳に追加
窒化ケイ素のエッチングにおいて、リン酸系エッチング液の表面張力を低減して、窒化ケイ素をエッチングすることができ、しかも、長期間、安定的にエッチングすることができるエッチング液及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ETCHING MACHINING COMPONENT例文帳に追加
エッチング加工部品の製造方法 - 特許庁
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