「etching」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

Condition of the dry etching is the same as condition of dry etching of a first time.例文帳に追加

ドライエッチングの条件は、一回目のドライエッチングの条件と同じである。 - 特許庁

DEVICE FOR DRYING AND WET ETCHING DEVICE例文帳に追加

乾燥装置及びウエットエッチング装置 - 特許庁

AFTER-ETCHING TREATMENT METHOD FOR PROTECTING SURFACE AGAINST CORROSION CHARACTERIZED BY PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチングを特長とする腐食防止表面のエッチング後の処理方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING FERROELECTRIC SUBSTRATE例文帳に追加

強誘電体基板のエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR DISPLAYING PROGRESS OF ETCHING AND MONITORING DEVICE OF ETCHING PROCESS例文帳に追加

エッチング工程の進行状況表示方法およびエッチング工程モニタ装置 - 特許庁

Next, dry etching is performed by plasma (C).例文帳に追加

次にプラズマによるドライエッチングした(C)。 - 特許庁

Wet etching can be employed in the step for etching the surface.例文帳に追加

また、表面をエッチングする工程をウエットエッチングにより行なうことができる。 - 特許庁

The non-etching surface is arranged at a prescribed height from the etching surface.例文帳に追加

非エッチング表面は、エッチング表面から所定の高さに配置されている。 - 特許庁

ETCHING TREATMENT METHOD FOR DUAL DAMASCENE PROCESS例文帳に追加

デュアルダマシン用のエッチング処理方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DETECTING ENDPOINT OF PLASMA ETCHING, AND PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチングの終点検出方法および装置、並びにプラズマエッチング装置 - 特許庁

ETCHING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF METAL FILM STRUCTURE AND ETCHING STRUCTURE例文帳に追加

エッチング方法、金属膜構造体の製造方法およびエッチング構造体 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING END POINT OF WET ETCHING AND WET ETCHING METHOD例文帳に追加

ウエットエッチング終点検出方法及び装置並びにウエットエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF CLEANING CHAMBER OF ETCHING APPARATUS例文帳に追加

エッチング装置のチャンバークリーニング方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

プラズマエッチング方法及び記憶媒体 - 特許庁

The Cu etching step and the Ag etching step are performed as separate steps.例文帳に追加

Ｃｕエッチング工程とＡｇエッチング工程とを、別工程として実施する。 - 特許庁

WET CHEMICAL ETCHING METHOD UTILIZING MAGNETISM例文帳に追加

磁気利用湿式化学エッチング方法 - 特許庁

To obtain uniform etching characteristics on a wafer in an etching apparatus with magnetic fields.例文帳に追加

有磁場エッチング装置においてウェハ上で均一なエッチング特性を得る。 - 特許庁

INKJET INK COMPOSITION FOR ETCHING RESIST例文帳に追加

エッチングレジスト用インクジェットインキ組成物 - 特許庁

A first trench etching 78 is carried out, and a bottom face of the substrate is subjected to etching.例文帳に追加

第１のトレンチエッチング(78)が実施され、基板の底面がエッチングされる。 - 特許庁

AUXILIARY APPARATUS FOR PROCESS ETCHING APPARATUS例文帳に追加

製版用エッチング装置の補助装置 - 特許庁

ORGANIC LAYER ETCHING BY THREE-LAYER RESIST例文帳に追加

三層レジストによる有機層エッチング - 特許庁

PLASMA ETCHING APPARATUS FOR FILM-SHAPED SUBSTRATE例文帳に追加

フィルム状基板のプラズマエッチング装置 - 特許庁

ETCHING DEVICE SOLID-STATE IMAGING ELEMENT AND ETCHING METHOD FOR SOLID-STATE IMAGING DEVICE例文帳に追加

固体撮像素子のエッチング装置及び固体撮像素子のエッチング方法 - 特許庁

WET ETCHING APPARATUS, WET ETCHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID DISCHARGE HEAD例文帳に追加

ウエットエッチング装置、ウエットエッチング方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁

GAS-JETTING BOARD OF PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチング装置のガス吹き出し板 - 特許庁

ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板のエッチング処理方法 - 特許庁

In the second etching, etching is carried out under the condition where isotropic etching characteristics are strong, and the etching of the tungsten plug is not carried out so that tungsten residues can be completely removed.例文帳に追加

第２の過エッチングでは等方性エッチング特性が強い条件でエッチングし、タングステンプラグはエッチングされず、タングステン残留物を完全に除去する。 - 特許庁

THICKNESS MEASURING DEVICE, WET ETCHING DEVICE USING IT, AND WET ETCHING METHOD例文帳に追加

厚み計測装置、及びそれを用いたウエットエッチング装置、ウエットエッチング方法 - 特許庁

An etching completion time or an etching rate is measured in the dry etching treatment to age the etching device 1 in a condition modified in response to the value.例文帳に追加

そのドライエッチング処理におけるエッチング終点時間またはエッチレートを測定し、その値に応じて変更された条件でエッチング装置１のエージングを行う。 - 特許庁

ETCHING METHOD FOR SILICON MATERIAL, ETCHING LIQUID AND METHOD FOR PRODUCING INK JET HEAD例文帳に追加

シリコン材のエッチング方法、エッチング液およびインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁

WAFER ETCHING MECHANISM ANNEXED POLISHER例文帳に追加

ウエハのエッチング機構付属研削装置 - 特許庁

To provide an etching method and an etching apparatus which ensure stable etch rate.例文帳に追加

安定したエッチレートを確保できるエッチング方法及び装置を提供する。 - 特許庁

POST-ETCHING TREATMENT METHOD, ETCHING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY PANEL例文帳に追加

エッチングの後処理方法、エッチング方法および表示パネルの製造方法 - 特許庁

To provide an etching method in which in-plane distribution of etching amount become uniform.例文帳に追加

エッチング量の面内分布が均一になるエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The unification of etching is accelerated and the spraying is utilized to a fresh etching liquid onto the etching surface continuously, thus increasing etching speed.例文帳に追加

そのためエッチングの均一化を促進し、且つ連続的にエッチング表面へ新鮮なエッチング液がスプレーされるのを利用し、エッチング速度を増進するものである。 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING SURFACE OF SEED CRYSTAL例文帳に追加

種結晶表面のエッチング方法 - 特許庁

WIRE ETCHING EQUIPMENT AND METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

ワイヤーエッチング装置及びその方法 - 特許庁

To provide an etching liquid suitable for etching a thermoplastic polyimide resin.例文帳に追加

熱可塑性ポリイミド樹脂のエッチングに好適なエッチング液を提供すること。 - 特許庁

To provide an etching liquid for etching a transparent conductive film containing indium oxide.例文帳に追加

インジウム酸化物を含む透明導電性膜のエッチング液を提供する。 - 特許庁

A bonding plane of a polytetrafluoroethylene part of the composite is etched (chemical etching, electron beam etching, laser etching, or plasma etching), before an uncured mixed material is coated thereto.例文帳に追加

未硬化混合材の塗布前に、コンポジットのポリテトラフルオロエチレン部分の結合面をエッチング（化学的エッチング、電子-ビームエッチング、レーザーエッチング、又はプラズマエッチング）する。 - 特許庁

A chlorine gas is used as an etching gas for plasma etching and supplied so that the etching is carried out at an etching rate of ≤250 nm/minute.例文帳に追加

プラズマエッチングを行うエッチングガスとして塩素ガスを用い、エッチング速度を２５０ｎｍ／分以下のエッチング速度でエッチングが行われるよう塩素ガスを供給する。 - 特許庁

To provide a wet-etching jig and a wet-etching apparatus which can reduce etching variations due to hydrogen bubbles in an etching processing.例文帳に追加

エッチング処理における水素の気泡によるエッチングのばらつきを低減させることができる、ウェットエッチング用の治具及びウェットエッチング装置を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING APPARATUS OF ELECTROLYTIC CAPACITOR ETCHING FOIL, AND ELECTROLYTIC CAPACITOR ETCHING FOIL例文帳に追加

電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置、および電解コンデンサ用エッチング箔 - 特許庁

ETCHING LIQUID FOR TITANIUM OR TITANIUM ALLOY例文帳に追加

チタンまたはチタン合金のエッチング液 - 特許庁

LIQUID ETCHANT FOR WET-ETCHING RESIN MEMBRANE AND ETCHING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

樹脂膜のウエットエッチング用エッチング液及びそれを用いて成るエッチング方法 - 特許庁