「etching」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

ETCHING METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加

窒化物半導体層のエッチング方法 - 特許庁

WET ETCHING METHOD OF COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加

化合物半導体ウェットエッチング方法 - 特許庁

APPARATUS FOR CHEMICALLY ETCHING WORKPIECE例文帳に追加

ワークピースを化学的にエッチングする装置 - 特許庁

GAS SPOUTING PLATE FOR PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチング装置のガス噴出し板 - 特許庁

PREPROCESSING METHOD FOR ETCHING OF DISPLAY PANEL例文帳に追加

表示パネルのエッチング前処理方法 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING DOUGHNUT-TYPE GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ドーナツ状ガラス基板のエッチング方法 - 特許庁

WET ETCHING EQUIPMENT FOR MANUFACTURE SEMICONDUCTORS例文帳に追加

半導体製造用ウェットエッチング装置 - 特許庁

ETCHING LIQUID FOR COPPER AND COPPER ALLOY例文帳に追加

銅および銅合金用のエッチング液 - 特許庁

ETCHING EQUIPMENT WITH ION CONCENTRATION MEASURING DEVICE例文帳に追加

イオン濃度測定器付きエッチング装置 - 特許庁

METHOD OF ETCHING SILICON SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

シリコン半導体ウェーハのエッチング方法 - 特許庁

ETCHING PROCESS FOR EPOXY RESIN CURED PRODUCT例文帳に追加

エポキシ樹脂硬化物のエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR TREATING COPPER-ETCHING WASTE LIQUID例文帳に追加

銅エッチング廃液を処理する方法 - 特許庁

DRY-ETCHING METHOD AND THIN-FILM PATTERN例文帳に追加

ドライエッチング方法および薄膜パターン - 特許庁

HORIZONTAL-TRANSPORTATION REEL-SYSTEM ETCHING APPARATUS例文帳に追加

水平搬送リール方式エッチング装置 - 特許庁

ETCHING METHOD AND APPARATUS FOR WAFER EDGE例文帳に追加

ウエーハエッジのエッチング方法及び装置。 - 特許庁

Subsequently the substrate 1 is removed by etching.例文帳に追加

次に、基板1をエッチングで除去する。 - 特許庁

For instance, a method, by which the type of the etching gas conforming to the dry-etching conditions is selected, is employed as a method for having the dry-etching rate of the plug 10 and the dry-etching rate of the etching stopper film 11 approximately equal to each other.例文帳に追加

前記プラグ１０とエッチストッパ膜１１とのドライエッチングレートをほぼ同一にする手法として、たとえばドライエッチングの条件に適合するエッチングガスの種類を選択する手法を用いる。 - 特許庁

To provide a dry etching device, a dry etching method and a plasma controller such that etching processing can be performed in an optimum plasma state wherein etching damage to an etching mask as well as a material to be etched is taken into consideration.例文帳に追加

被エッチング材料に加えてエッチングマスクのエッチングダメージを考慮した最適なプラズマ状態でエッチング処理ができるドライエッチング装置、ドライエッチング方法およびプラズマ制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching solution which is free from the time change of turbidity, has excellent storage stability, has no etching fatigue in etching, and has excellent etching precision and just etch time properties compared with the conventional chromium etching solution.例文帳に追加

従来のクロムエッチング液よりも、液濁りの経時変化がなく、保存安定性に優れ、かつ、エッチング時に、エッチング疲労がなく、エッチング精度およびジャストエッチタイム性が優れたエッチング液の提供。 - 特許庁

This method of detecting etching end point includes a step of etching a prescribed portion of a semiconductor wafer 5, by dipping the wafer 5 in an etchant 18 put in an etching system 1 and a step of stopping the etching by deciding the end point of the etching, according to the amount of emission of an etching gas 26 generated during etching the wafer 5.例文帳に追加

エッチング装置１内のエッチング液１８に半導体ウエハ５を浸漬し、当該ウエハ５の所定の部位をエッチングする工程と、半導体ウエハ５のエッチング時に発生するエッチングガス２６の発生量に応じて、エッチングの終点を決定しエッチングを停止させる工程を備える。 - 特許庁

To provide an etching solution for a silver-based thin film which has does not field an etching residue (in particular gold residue), and has an excellent etching precision and an excellent etching rate compared with the conventional etching solution for a silver-based thin film.例文帳に追加

従来の銀系薄膜用エッチング液よりも、エッチング残渣が発生せず（とくに金残渣が発生しない）、エッチング精度およびエッチング速度が優れた銀系薄膜用エッチング液を提供すること。 - 特許庁

To suppress abnormality in the etching process or changes in the etching rate in RIE.例文帳に追加

ＲＩＥにおいて、エッチング加工の異常や、エッチング速度の変化を抑制する。 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置及び処理方法。 - 特許庁

To provide a vertical carrying type etching apparatus in which the leakage of an etching liquid to the outside of a case is reduced and etching quality is increased.例文帳に追加

エッチング液がケース外に漏れるのを減らし、エッチング品質を高める垂直搬送式エッチング装置を提供する。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 - 特許庁

DRY CLEANING METHOD AFTER METAL ETCHING例文帳に追加

金属エッチング後の乾式クリ—ニング方法 - 特許庁

To achieve perfect etching even in a gap in pattern formation by wet etching.例文帳に追加

ウェットエッチング処理によるパターン形成において、隙間のエッチング残りをなくす。 - 特許庁

CHAMBER CLEANING METHOD OF DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング装置のチャンバークリーニング方法 - 特許庁

Only HF is used as an etching gas.例文帳に追加

エッチングガスとしてHFのみが使用される。 - 特許庁

CAPACITY RECOVERING AND MAINTAINING DEVICE FOR ETCHING SOLUTION例文帳に追加

エッチング液の能力回復維持装置 - 特許庁

FLAT PANEL DISPLAY GLASS SUBSTRATE ETCHING DEVICE例文帳に追加

フラットパネルディスプレイガラス基板エッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法およびドライエッチング装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング装置およびエッチングの方法 - 特許庁

ALUMINUM FOIL WITH UNIFORM ETCHING PROPERTIES例文帳に追加

均質エッチング性を有するアルミニウム箔 - 特許庁

METHOD FOR SELECTIVELY ETCHING SAM SUBSTRATE例文帳に追加

ＳＡＭ基板の選択的エッチング方法 - 特許庁

To perform etching by varying an etching rate according to a thickness of a film to be etched.例文帳に追加

被エッチング膜の膜厚に応じて、エッチングレートを変動してエッチングを行う。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD USING DRY ETCHING SYSTEM例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いる製造方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING PERIPHERY OF WAFER SURFACE例文帳に追加

ウェハ表面周辺部のエッチング方法 - 特許庁

ETCHING APPARATUS AND METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加

基板のエッチング装置及びエッチング方法 - 特許庁

ETCHING DEVICE, ETCHING METHOD, AND PLATE MEMBER AND TRAY USED FOR IT例文帳に追加

エッチング装置、エッチング方法、それに用いるプレート部材、およびそれに用いるトレイ - 特許庁

Next a part of etching for an upper part of the film 2 to be made etching is made.例文帳に追加

次にレジストマスク３を用いて、被エッチング膜２の上部を一部エッチングする。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

ALKALI ETCHANT AND ALKALI ETCHING METHOD例文帳に追加

アルカリエッチング液及びアルカリエッチング方法 - 特許庁