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etchingを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 19971



例文

ETCHING SOLUTION FOR NICKEL OR NICKEL ALLOY例文帳に追加

ニッケルまたはニッケル合金のエッチング液 - 特許庁

To provide a plasma etching process capable of effectively etching aluminum-neodymium alloy.例文帳に追加

アルミニウム−ネオジム合金を効果的にエッチングするプラズマエッチングプロセスを提供する。 - 特許庁

ELECTRIC DISCHARGE PROCESSING HEAD FOR CHEMICAL ETCHING SUPPORT SYSTEM例文帳に追加

化学エッチング支援放電加工ヘッド - 特許庁

To provide an etching solution supply unit, an etching apparatus, and an etching method that allow a glass substrate to be etched uniformly.例文帳に追加

ガラス基板を均一にエッチングすることができるエッチング液供給装置、エッチング装置及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an etching method suitable for etching an antireflective film using a resist film as a mask, and to provide an etching treatment device.例文帳に追加

レジスト膜をマスクとした反射防止膜のエッチングに適したエッチング方法及びエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁


例文

In the step (G), the etching resist is removed.例文帳に追加

(G)エッチングレジストを除去する工程。 - 特許庁

The Cu etching step is performed using an etching liquid in which Ag is not dissolved.例文帳に追加

Cuエッチング工程は、Agを溶解しないエッチング液を用いて実施する。 - 特許庁

The etching may be direct aqueous solution etching of a silicon carbide substrate.例文帳に追加

このエッチングは、炭化ケイ素基板の直接水溶液エッチングとすることができる。 - 特許庁

MULTIPLE MASK PROCESS USING ETCHING MASK STACK例文帳に追加

エッチングマスクスタックを用いたマルチマスクプロセス - 特許庁

例文

To provide a resist ink for wet etching having good etching resistance even if an etching process is carried out under severe working conditions.例文帳に追加

より過酷なエッチング条件でエッチング加工してもエッチング耐性が良好なウェットエッチング用レジストインクを提供する。 - 特許庁

例文

ALUMINUM ETCHING FOIL AND ITS PRODUCING METHOD例文帳に追加

アルミニウムエッチング箔とその製造方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING SYSTEM, MOLDING DIE FOR OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

プラズマエッチング法、プラズマエッチング装置、光学素子用成形金型及び光学素子 - 特許庁

ETCHING AGENT AND METHOD FOR MANUFACTURING BASE MATERIAL FOR ELECTRONIC EQUIPMENT BY USING THE ETCHING AGENT例文帳に追加

エッチング剤及びこのエッチング剤を用いた電子機器用基板の製造方法 - 特許庁

Further, the process to carry out the hole etching or the trench etching is carried out once again.例文帳に追加

さらに、前述のホールエッチング又はトレンチエッチングをする工程を再度行う。 - 特許庁

ACID ETCHING METHOD, ACID ETCHING TREATMENT DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM-BASED MEMBER例文帳に追加

酸エッチング方法、酸エッチング処理装置及びアルミニウム系部材の製造方法 - 特許庁

ANISOTROPIC ETCHING METHOD AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

異方性エッチング方法およびその装置 - 特許庁

DRY-ETCHING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法および半導体素子 - 特許庁

FABRICATION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, WET-ETCHING TREATMENT APPARATUS, AND WET-ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体装置の製造方法、ウエットエッチング処理装置及び、ウエットエッチング方法 - 特許庁

MASK FOR ETCHING AND ITS FORMING METHOD例文帳に追加

エッチング用マスク及びその形成方法 - 特許庁

Contact holes are formed by etching the insulating film with such dry etching.例文帳に追加

このようなドライエッチングにより絶縁膜をエッチングしてコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR FILM, ETCHING METHOD USING IT, AND METHOD FOR RECOVERING IODINE FROM ITS ETCHING WASTE SOLUTION例文帳に追加

化合物半導体膜のエッチング液とそれを用いたエッチング方法、及びそのエッチング廃液のヨウ素の回収方法 - 特許庁

METHOD FOR WET-ETCHING PYRAMIDAL STRUCTURE ON SURFACE OF SILICON AND ETCHING SOLUTION例文帳に追加

シリコン表面のピラミッド形組織ウエットエッチングのための方法及びエッチング溶液 - 特許庁

SEMICONDUCTOR ETCHING DEVICE, AND ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE UTILIZING THE SAME例文帳に追加

半導体エッチング装置およびこれを利用した半導体素子のエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF SILICON COMPOUND FILM例文帳に追加

シリコン化合物膜のドライエッチング方法 - 特許庁

A silicon wafer W is immersed in etching liquid poured into an etching vessel 11 and etching on both front and rear surfaces is made.例文帳に追加

エッチング槽11に注入されたエッチング液中にシリコンウェーハWを浸し、その表裏両面にエッチングを施す。 - 特許庁

GAS FLOW CONTROLLER FOR LOCAL DRY ETCHING, AND ETCHING METHOD USING SAME例文帳に追加

局所ドライエッチングのためのガス流コントローラ及びこれを用いたエッチング方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION AND ETCHING METHOD例文帳に追加

エッチング液組成物およびエッチング方法 - 特許庁

PAA SYSTEM ETCHING LIQUID, ETCHING METHOD UTILIZING IT, AND STRUCTURE OF RESULTANT MATERIAL例文帳に追加

PAA系のエッチング液、それを利用するエッチング方法及び結果物の構造 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

BEVEL-ETCHING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法 - 特許庁

COMBINED WET-ETCHING METHOD OF LAMINATED FILM例文帳に追加

積層膜の複合ウェットエッチング方法 - 特許庁

The etching allowance is 1-100 μm.例文帳に追加

エッチングしろが1〜100μmである。 - 特許庁

ETCHING METHOD, VIBRATOR AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

エッチング方法、振動子および電子機器 - 特許庁

METHOD FOR GRAIN BOUNDARY ETCHING OF METAL SURFACE例文帳に追加

金属表面の粒界腐食方法 - 特許庁

To provide an etching device capable of improving the workability and quality of the etching.例文帳に追加

エッチングの作業性と品質とを向上できるエッチング装置を提供する。 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD ACCOMPANIED WITH PATTERN MASK例文帳に追加

パターンマスクを伴うプラズマエッチングの方法 - 特許庁

PRODUCTION OF ETCHING PRODUCT UNIT FRAME例文帳に追加

エッチング製品ユニットフレームの製造方法 - 特許庁

WET ETCHING TREATMENT APPARATUS AND WET ETCHING EVALUATION METHOD USING THE TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

ウェットエッチング処理装置及び該処理装置を用いたウェットエッチング評価方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND DEVICE FOR SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウエーハのエッチング方法及び装置 - 特許庁

TEMPERATURE MEASURING DEVICE FOR ETCHING TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

エッチング処理装置の温度測定装置 - 特許庁

ETCHING METHOD, VIBRATOR, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

エッチング方法、振動子および電子機器 - 特許庁

METHOD FOR RECOVERING ALKALI FROM ALKALI ETCHING LIQUID例文帳に追加

アルカリエッチング液のアルカリ回収方法 - 特許庁

Kokan SHIBA: "Mimeguri Kei-zu" (Landscape of Mimeguri), in which the technique of etching was used 例文帳に追加

司馬江漢:『三囲景図』--エッチング - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

MULTILAYER SILICON ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチング用多層シリコン電極板 - 特許庁

HIGH PURITY ALKALI ETCHING LIQUID FOR SILICON WAFER AND SILICON WAFER ALKALI ETCHING METHOD例文帳に追加

シリコンウエーハ用の高純度アルカリエッチング液およびシリコンウエーハアルカリエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD FOR TITANIUM OR TITANIUM ALLOY例文帳に追加

チタンまたはチタン合金のエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING SILICON SUBSTRATE, ETCHANT FOR SILICON SUBSTRATE AND ETCHING DEVICE OF SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

シリコン基板のエッチング方法、シリコン基板のエッチング液、シリコン基板のエッチング装置 - 特許庁

To provide a method for performing the detoxification treatment of a ruthenium etching composition after etching treatment to safely discard the ruthenium etching composition.例文帳に追加

エッチング処理した後のルテニウムのエッチング用組成物を除害処理し、安全に廃棄できる方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide silicon anisotropic etching liquid for selectively etching only silicon without etching aluminum.例文帳に追加

アルミニウムをエッチングすることなくシリコンのみを選択的にエッチングすることができるシリコン異方性エッチング液を提供すること。 - 特許庁




  
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