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etchingを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 19971



例文

ETCHING COMPOSITION FOR Ni-Fe ALLOY AND ETCHING METHOD例文帳に追加

Ni−Fe合金のエッチング用組成物およびエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ETCHING APPARATUS例文帳に追加

エッチング方法、半導体装置の製造方法、およびエッチング装置 - 特許庁

In the first recess etching process, anisotropic etching is performed, and in the second recess etching process, etching free from anisotropy is performed.例文帳に追加

第1のリセスエッチング工程では、異方性エッチングを実施し、第2のリセスエッチング工程では、異方性のないエッチングを実施する。 - 特許庁

TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM ETCHING LIQUID例文帳に追加

透明導電膜のエッチング液 - 特許庁

例文

METHOD OF MONITORING PLASMA ETCHING CHAMBER例文帳に追加

プラズマエッチング室の監視方法 - 特許庁


例文

SEPARATING DEVICE FOR ETCHING UNIT FRAME例文帳に追加

エッチング・ユニットフレームの分離装置 - 特許庁

ETCHING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

エッチング装置およびエッチング方法 - 特許庁

ETCHING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

エッチング装置およびエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

エッチング方法およびエッチング装置 - 特許庁

例文

ETCHING METHOD OF SILICON STRUCTURE例文帳に追加

シリコン構造体のエッチング方法 - 特許庁

例文

METHOD OF ANISOTROPICALLY ETCHING SUBSTRATE例文帳に追加

基板の異方性エッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

エッチング方法及び記録媒体 - 特許庁

METHOD FOR ELECTROLYZING ETCHING LIQUID例文帳に追加

エッチング液の電解処理方法 - 特許庁

SHEET-FED ETCHING METHOD FOR WAFER例文帳に追加

ウェーハの枚葉式エッチング方法 - 特許庁

APPARATUS FOR ETCHING WAFER BACK例文帳に追加

ウェーハ背面をエッチングする装置 - 特許庁

ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置のエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板のエッチング方法 - 特許庁

SYSTEM FOR PROCESSING EXHAUST GAS OF DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチング排ガス処理装置 - 特許庁

ETCHING METHOD AND SYSTEM例文帳に追加

エッチング方法およびエッチング装置 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR Ni-BASED THIN FILM例文帳に追加

ニッケル系薄膜用エッチング液 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR WET ETCHING例文帳に追加

ウェットエッチング装置および方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING DEVICE FOR QUARTZ PLATE例文帳に追加

水晶板のプラズマエッチング装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ETCHING例文帳に追加

エッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING例文帳に追加

エッチング装置及びエッチング方法 - 特許庁

METHOD AND JIG FOR ETCHING例文帳に追加

エッチング方法およびエッチング治具 - 特許庁

FOCUSING RING FOR PLASMA ETCHING APPARATUS例文帳に追加

プラズマエッチング装置用フォーカスリング - 特許庁

ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェーハのエッチング方法 - 特許庁

ETCHING COMPOUND FOR HAFNIUM OXIDE例文帳に追加

酸化ハフニウム用エッチング組成物 - 特許庁

ELECTROLYTIC ETCHING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

電解エッチング装置及び方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR ETCHING例文帳に追加

エッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR ETCHING例文帳に追加

エッチング装置及びエッチング方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR ETCHING TREATMENT例文帳に追加

エッチング処理装置及び方法 - 特許庁

To facilitate the execution of the control of etching conditions such as an etching rate, etching depth and an etching surface smoothening degree in an etching reaction stage on the spot and to enable wet chemical etching of a higher degree.例文帳に追加

エッチング速度、エッチング深さ、および、エッチング表面平滑度などのエッチング条件の制御をエッチング反応過程においてその場で行うことを容易とし、より高度な湿式化学エッチングを可能とする。 - 特許庁

METHOD FOR PLASMA ETCHING PERFORMANCE ENHANCEMENT例文帳に追加

プラズマエッチング性能強化方法 - 特許庁

To provide an etching system capable of stable etching with high precision.例文帳に追加

精度良く安定したエッチングが可能なエッチング装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF DETECTING END POINT OF ETCHING AND DRY ETCHING SYSTEM例文帳に追加

エッチング終点検出方法及び装置並びにドライエッチング装置 - 特許庁

The groove portion is formed by etching.例文帳に追加

エッチングにて溝部を形成する。 - 特許庁

METHOD OF ETCHING AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

エッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング方法及びその装置 - 特許庁

ETCHING LIQUID, ETCHING METHOD USING THE SAME, AND SUBSTRATE TO BE ETCHED例文帳に追加

エッチング液、該エッチング液を用いたエッチング方法および被エッチング基板 - 特許庁

PARALLEL-PLATE DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

平行平板型ドライエッチング装置 - 特許庁

DEVICE FOR ETCHING DISK-LIKE MEMBER AND ETCHING METHOD USING SAME例文帳に追加

円盤状部材のエッチング装置及びこれを用いたエッチング方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING ETCHING DEPTH, AND ETCHING SYSTEM例文帳に追加

エッチング深さ測定方法および測定装置並びにエッチング装置 - 特許庁

SHEET-TYPE ETCHING EQUIPMENT OF WAFER AND SHEET-TYPE ETCHING METHOD OF WAFER例文帳に追加

ウェーハの枚葉式エッチング装置及びウェーハの枚葉式エッチング方法 - 特許庁

CONTAINER FOR TRANSPORTING SINGLE CRYSTAL FOR ETCHING, AND DEVICE FOR ETCHING SINGLE CRYSTAL例文帳に追加

エッチング用単結晶運搬容器及び単結晶エッチング装置 - 特許庁

APPARATUS FOR ETCHING WAFER BEVELING SURFACE例文帳に追加

ウェーハ面取り面のエッチング装置 - 特許庁

An etching resistance layer 16 is formed on the selective etching possible layer.例文帳に追加

耐侵食性層16を、選択エッチング可能層上に形成する。 - 特許庁

To provide an etching agent such that etching liquid is high in stability and fast in etching speed, side etching is small, and linearity of a pattern is excellent.例文帳に追加

エッチング液の安定性が高く、エッチング速度が速く、サイドエッチングも少なく、パターンの直線性も良好なエッチング剤を提供する。 - 特許庁

ETCHING COMPOSITION OF TANTALUM OXIDE例文帳に追加

酸化タンタルのエッチング用組成物 - 特許庁

例文

ETCHING SOLUTION FOR TITANIUM-CONTAINING LAYER AND ETCHING METHOD FOR TITANIUM-CONTAINING LAYER例文帳に追加

チタン含有層用エッチング液及びチタン含有層のエッチング方法 - 特許庁




  
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