「liquid deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DEPOSITION DEVICE, DEPOSITION METHOD, LIQUID CRYSTAL DEVICE, AND PROJECTOR例文帳に追加

成膜装置、成膜方法、液晶装置、並びにプロジェクタ - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, AND LIQUID DISCHARGER例文帳に追加

成膜装置および成膜方法、並びに、液体吐出装置 - 特許庁

LIQUID SUPPLY DEVICE FOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

成膜装置の液体供給装置 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, LIQUID CRYSTAL APPARATUS, AND PROJECTOR例文帳に追加

成膜装置、成膜方法、液晶装置、並びにプロジェクタ - 特許庁

VACUUM DEPOSITION SYSTEM FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT LAYER AND FILM DEPOSITION METHOD THEREOF例文帳に追加

液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION DEVICE FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT LAYER AND DEPOSITION METHOD THEREOF例文帳に追加

液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DEVICE PRODUCTION METHOD例文帳に追加

蒸着装置、蒸着方法、液晶装置の製造方法 - 特許庁

DEPOSITION APPARATUS AND DEPOSITION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加

蒸着装置及び蒸着方法並びに液晶装置の製造方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着装置、蒸着方法、液晶装置の製造方法 - 特許庁

The metal compound thin-film may be acquired by either physical deposition method or chemical deposition method, otherwise by vapor-phase deposition method or liquid-phase deposition method.例文帳に追加

金属化合物薄膜は物理堆積法および化学堆積法のいずれでも、また気相堆積法および液相堆積法のいずれでもよい。 - 特許庁

LIQUID COMPOSITION IN WHICH AMINO ACID DEPOSITION IS INHIBITED例文帳に追加

アミノ酸の析出が抑制された液状組成物 - 特許庁

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, ITS PRODUCTION AND DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

液晶表示装置、その製造方法及び成膜装置 - 特許庁

MICROPATTERNING METHOD BY LIQUID PHASE DEPOSITION例文帳に追加

液相析出法によるマイクロパターニング方法 - 特許庁

LIQUID PHASE DEPOSITION SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

液相成膜装置および液相成膜方法 - 特許庁

LIQUID RAW MATERIAL FOR SPRAY TYPE CVD FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

噴霧型ＣＶＤ成膜装置用液体原料 - 特許庁

THIN FILM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

薄膜形成装置及び方法並びに液晶表示装置 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID TRANSPORTING DEVICE例文帳に追加

成膜方法及び液体移送装置の製造方法 - 特許庁

THIN FILM DEPOSITION METHOD, LIQUID DROPLET-DISCHARGING DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

薄膜形成方法、液滴吐出装置および液晶表示装置 - 特許庁

DEPOSITION METHOD, LIQUID DISCHARGE HEAD AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID DISCHARGE HEAD例文帳に追加

成膜方法、液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁

VAPORIZER AND VAPOR DEPOSITION SYSTEM OF REACTANT LIQUID FOR CHEMICAL VAPOR FILM DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学的蒸着膜工程のための反応液体の気化器および蒸着システム - 特許庁

TREATMENT LIQUID FOR FORMING SELF-DEPOSITION COATING FILM ON METAL MATERIAL, AND TREATMENT METHOD FOR FORMING SELF-DEPOSITION COATING FILM例文帳に追加

金属材料の自己析出被膜処理液、および自己析出被膜処理方法 - 特許庁

VACUUM CHAMBER FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION, PHYSICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, THIN FILM DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

物理蒸着真空チャンバ、物理蒸着方法、薄膜デバイスおよび液晶ディスプレイ - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

成膜装置および成膜方法ならびに液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

IN-LIQUID PLASMA FILM DEPOSITION METHOD, COATING FILM FORMED BY THE SAME, AND IN-LIQUID PLASMA FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

液中プラズマ成膜方法、その方法により成膜される被覆膜および液中プラズマ成膜装置 - 特許庁

LIQUID MATERIAL VAPORIZING/FEEDING DEVICE, THIN FILM DEPOSITION APPARATUS, AND VAPORIZING/FEEDING METHOD OF LIQUID MATERIAL TO THIN FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

液体材料気化供給装置、薄膜堆積装置および薄膜堆積装置への液体材料気化供給方法 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method in which a plurality of vapor-deposited films of uniform vapor deposition angle and/or vapor deposition film thickness can be easily formed over the entire substrate surface as a work to be vapor- deposited, and a manufacturing method of a liquid crystal device using the vapor deposition apparatus and the vapor deposition method.例文帳に追加

被蒸着材たる基板面全体に亙って、蒸着角度及び／又は蒸着膜厚の均一な蒸着膜を簡便に複数層積層して形成することが可能な蒸着装置、及び蒸着方法、ならびに蒸着装置、蒸着方法を用いた液晶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

ACTIVATION LIQUID FOR PRETREATMENT OF DISPLACEMENT DEPOSITION TYPE ELECTROLESS GOLD PLATING例文帳に追加

置換析出型無電解金めっきの前処理用活性化液 - 特許庁

ELECTRODE STRUCTURE SUPPORTING SELF-ALIGNMENT OF LIQUID DEPOSITION OF MATERIAL例文帳に追加

材料の液体堆積のセルフアライメントを支援する電極構造 - 特許庁

DEPOSITION METHOD, DISPLAY PANEL, ELECTRONIC APPARATUS, AND LIQUID DROPLET DISCHARGE DEVICE例文帳に追加

成膜方法、表示パネル、電子機器および液滴吐出装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DEVICE AND MANUFACTURING DEVICE FOR DEPOSITION SUBSTRATE例文帳に追加

液晶装置の製造方法、及び蒸着基板の製造装置 - 特許庁

REFLECTION BODY, LIGHT SOURCE DEVICE, LIQUID CRYSTAL PROJECTOR, AND DEPOSITION METHOD OF REFLECTION FILM例文帳に追加

反射体、光源装置、液晶プロジェクタ及び反射膜の成膜方法 - 特許庁

DEVICE FOR SUPPRESSING DEPOSITION OF WASTE INK, RECORDING APPARATUS, AND LIQUID JET APPARATUS例文帳に追加

廃インクの堆積抑制装置、記録装置及び液体噴射装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DEVICE AND MANUFACTURING EQUIPMENT FOR VAPOR DEPOSITION SUBSTRATE例文帳に追加

液晶装置の製造方法、及び蒸着基板の製造装置 - 特許庁

SELECTIVE DEPOSITION METHOD OF LIQUID CRYSTAL EMULSION AND STRUCTURE THEREFOR例文帳に追加

液晶エマルジョンの選択的付着方法およびその構造物 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION LAMINATE AND LIQUID PACKAGING SMALL BAG USING THE SAME例文帳に追加

蒸着積層体及びそれを使用した液体包装用小袋 - 特許庁

DEGREASING AND ZINC PHOSPHATE CHEMICAL CONVERSION LIQUID FOR STEEL MATERIAL WITH DEPOSITION OF OIL例文帳に追加

油分付着鋼材の脱脂兼リン酸亜鉛化成処理液 - 特許庁

METHOD OF SOLUTION DEPOSITION, POLARIZING PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

溶液製膜方法並びに偏光板及び液晶表示装置 - 特許庁

To control the deposition of a spray liquid on an electrode.例文帳に追加

電極における噴霧液の付着量を抑制することである。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MONITORING DEPOSITION STATE OF DEPOSIT IN LIQUID例文帳に追加

液中堆積物の堆積状況監視装置および方法 - 特許庁

DEVICE FOR SUPPRESSING DEPOSITION OF WASTE INK, RECORDER AND LIQUID JET APPARATUS例文帳に追加

廃インクの堆積抑制装置、記録装置及び液体噴射装置 - 特許庁

In addition, the cleaning liquid can contain a metal deposition preventing agent and chelating agent.例文帳に追加

さらに金属付着防止剤、キレート剤を含んでもよい。 - 特許庁

LIQUID COMPOSITION FOR ORAL CAVITY AND METHOD FOR PREVENTING 1-MENTHOL DEPOSITION例文帳に追加

液体口腔用組成物及びｌ−メントールの析出防止方法 - 特許庁

To prevent the deposition of fine particles in a liquid circulation type spray gun.例文帳に追加

液体循環式スプレーガンにおける微粒子の沈殿を防止する。 - 特許庁

However, the deposition f the liquid on the solenoid 41 covered with the liquid preventing walls 12c, 12d is prevented.例文帳に追加

しかし、ソレノイド４１は防液壁１２ｃ，１２ｄにて覆われているため液体が付着しない。 - 特許庁

METAL DEPOSITION ACCELERATION COMPOUND IN PLATING LIQUID AND PLATING LIQUID CONTAINING THE SAME例文帳に追加

めっき液における金属析出促進化合物および該化合物を含むめっき液 - 特許庁