「measuring mark」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DIMENSION MEASURING METHOD, DIMENSION MEASURING DEVICE AND MEASURING MARK例文帳に追加

寸法測定方法、寸法測定装置および測定マーク - 特許庁

MARK POSITION MEASURING METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

マーク位置計測方法及び装置 - 特許庁

SIZE MEASURING METHOD FOR LASER WELDING MARK例文帳に追加

レーザ溶接痕のサイズ計測方法 - 特許庁

MARK POSITION MEASURING DEVICE, MARK POSITION MEASURING METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

マーク位置計測装置、マーク位置計測方法、露光装置、及び露光方法 - 特許庁

a mark set for measuring the land 例文帳に追加

陸地測量のために設置した標識 - EDR日英対訳辞書

a mark made on wood used for measuring land called a measuring marker 例文帳に追加

覘標という,陸地測量に用いる木製の目標 - EDR日英対訳辞書

MARK MEASURING APPARATUS, METHOD, AND ALIGNER例文帳に追加

マーク計測装置及び方法及び露光装置 - 特許庁

MARK AND METHOD FOR AUTOMATICALLY MEASURING COMA- ABERRATION例文帳に追加

コマ収差自動計測用マークと計測方法 - 特許庁

(i) The specified measuring instrument is affixed with a verification mark, etc. 例文帳に追加

一　検定証印等が付されていること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

PLATE THICKNESS MEASURING DEVICE AND CHATTER MARK DETECTION SYSTEM例文帳に追加

板厚測定装置及びチャタマーク検出装置 - 特許庁

SYSTEM, APPARATUS, AND METHOD FOR MEASURING ROAD SURFACE MARK AUTOMATICALLY例文帳に追加

路面標示自動計測システム、装置及び方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PROBE MARK例文帳に追加

プローブ痕測定方法およびプローブ痕測定装置 - 特許庁

MARK LOCATION DETECTING APPARATUS, MARK LOCATION DETECTING METHOD, SUPERIMPOSITION MEASURING APPARATUS, AND SUPERIMPOSITION MEASURING METHOD例文帳に追加

マーク位置検出装置、マーク位置検出方法、重ね合わせ測定装置、および、重ね合わせ測定方法 - 特許庁

In the mark edge deviation measuring part 70, mark edge deviation between a reference clock edge and a mark edge is measured.例文帳に追加

マークエッジずれ測定部７０は、基準クロックエッジとマークエッジとの間のマークエッジずれを測定する。 - 特許庁

MARK DETECTION METHOD, ALIGNMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, PROGRAM AND MEASURING APPARATUS OF MARK例文帳に追加

マーク検出方法、位置合わせ方法、露光方法、プログラム及びマーク計測装置 - 特許庁

MARK-POSITION MEASURING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, MARK-POSITION COMPUTING PROGRAM AND RECIPE CONVERSION PROGRAM例文帳に追加

マーク位置計測装置、露光装置、マーク位置算出プログラム、レシピ変換プログラム - 特許庁

SUPERPOSITION MEASURING MARK AND PATTERNING METHOD THEREOF例文帳に追加

重ね合わせ測定マーク及びそのパターン形成方法 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING DEVICE, THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING METHOD AND TARGET MARK例文帳に追加

三次元形状測定装置、三次元形状測定方法及びターゲットマーク - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MEASURING ALIGNMENT MARK POSITION AND DRAWING DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク位置測定装置及び方法、及び描画装置 - 特許庁

METHOD FOR MAKING PRECISE MARK FOR MEASURING SCALE, MEASURING SCALE FORMING APPARATUS AND MARKING DEVICE例文帳に追加

測定スケールのための精密マーク生成方法、測定スケール形成装置およびマーキング装置 - 特許庁

This long-range part measuring mark 11A has a couple of mark bodies 11A1 arranged opposite each other.例文帳に追加

この遠用部測定マーク１１Ａは、対向配置された一対のマーク本体１１Ａ１を備える。 - 特許庁

IMAGE-PROCESSING UNIT, MARK-MEASURING DEVICE AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

画像処理装置、マーク計測装置および半導体製造装置 - 特許庁

METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING POSITION OF MARK AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

マーク位置計測方法と装置および半導体製造装置 - 特許庁

To provide a probe mark depth measuring apparatus capable of simply measuring the depth of a contact mark of a probe in a short time.例文帳に追加

プローブの接触痕の深さを簡易かつ短時間に測定することができるプローブ痕深さ測定装置を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE FRONT AND BACK SURFACE MARK POSITION MEASURING METHOD, SUBSTRATE FRONT AND BACK SURFACE MARK POSITION MEASURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF RETICLE FOR ELECTRON BEAM PROJECTION EXPOSURE例文帳に追加

基板表裏面マーク位置測定方法、基板表裏面マーク位置測定装置及び電子線投影露光用レチクルの製造方法 - 特許庁

MATERIAL TESTING MACHINE AND METHOD FOR MEASURING BENCH MARK OF MATERIAL TESTING MACHINE例文帳に追加

材料試験機および材料試験機の標線測定方法 - 特許庁

SUPERPOSITION ACCURACY MEASUREMENT MARK AND SUPERPOSITION ACCURACY MEASURING METHOD例文帳に追加

重ね合わせ精度測定マークおよび重ね合わせ精度測定方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING POSITION, METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE, AND MARK MEASURING METHOD例文帳に追加

位置計測方法と位置計測装置、及び露光方法と露光装置並びにマーク計測方法 - 特許庁

The central mark BM2 portion for measuring aligning accuracy is used for measuring the aligning accuracy with a lower layer.例文帳に追加

中心の合わせ精度測定用マークＢＭ２部分が、下層との合わせ精度に用いられる。 - 特許庁

FOCUSING SYSTEM, METHOD FOR MEASURING COORDINATE OF SUBSTRATE EDGE, AND METHOD FOR MEASURING DISTANCE OF MARK FOR MEASUREMENT例文帳に追加

合焦点方式、基板エッジの座標測定方法及び測定用マークの距離測定方法 - 特許庁

A first complementary mark C21 has a shape in which a mark TM3 for measurement formed by superimposing a rectangular mark BM2 for measuring aligning accuracy upon a cross mark is complementarily divided.例文帳に追加

第１相補マークＣ２１は、十字マークと矩形の合わせ精度測定用マークＢＭ２部分とが重なった形状の測定用マークＴＭ３を相補分割した形状をもつ。 - 特許庁

SIZE MEASURING MARK, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR INSPECTING THE SAME例文帳に追加

寸法測定マーク、半導体装置の検査方法及び半導体装置 - 特許庁

TEST MARK AS WELL AS FOCUS USING THE SAME AND METHOD OF MEASURING ABERRATION例文帳に追加

テストマーク、並びにそれを用いたフォーカス及び収差の測定方法 - 特許庁

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MEASURING MISALIGNMENT MEASUREMENT MARK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク及び合わせずれ測定マークの測定方法 - 特許庁

ALIGNMENT MARK MEASURING METHOD AND DEVICE, AND DRAWING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク測定方法および装置並びに描画方法および装置 - 特許庁

MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, MEASURING MARK, AND MASK例文帳に追加

計測方法、露光方法、デバイス製造方法、計測用マーク、及びマスク - 特許庁

To provide a "registration accuracy measuring mark" for measuring registration accuracy of a three layer pattern at once.例文帳に追加

３層のパターンの重ね合わせ精度を１回で測定可能な「重ね合わせ精度測定マーク」を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING MARK, METHOD, DEVICE AND SYSTEM FOR EXPOSURE例文帳に追加

マーク計測方法及び装置、露光方法及び装置、並びに露光システム - 特許庁

COMBINED ERROR MEASURING MARK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加

合わせ誤差計測マークおよびこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

MARK FOR DETECTING MISALIGNMENT AND METHOD FOR MEASURING MISALIGNMENT OF WAFER, RETICLE AND PATTERN例文帳に追加

位置ずれ検出用マーク、ウエハ、レチクル、及びパターンの位置ずれの測定方法 - 特許庁

mark (the scale of a measuring instrument) so that it can be read in the desired units 例文帳に追加

希望する単位で読まれるように、（計測器のスケールの）印をつける - 日本語WordNet

DETECTION MARK, MISREGISTER QUANTITY MEASURING INSTRUMENT, PRINTING APPARATUS, MISREGISTER QUANTITY MEASURING METHOD, PRINTING METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

検出マーク、見当ずれ量測定装置、印刷装置、見当ずれ量測定方法、印刷方法およびプログラム - 特許庁

ALIGNMENT MARK, AND METHOD AND DEVICE FOR MEASURING ALIGNMENT ACCURACY USING THE SAME例文帳に追加

アライメントマーク、及びこれを用いたアライメント精度測定方法並びに測定装置 - 特許庁

MEASURING METHOD, METHOD OF PROVIDING ALIGNMENT MARK AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

測定方法、位置合せマークを提供するための方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

A measuring instrument 23 reads authentication object information from an optical mark hologram 7.例文帳に追加

測定装置２３で光学マークホログラム７から認証対象情報を読取る。 - 特許庁