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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > patterningの意味・解説 > patterningに関連した英語例文

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patterningを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3921



例文

METHOD FOR PATTERNING PROTEIN SUPERMOLECULE例文帳に追加

タンパク超分子のパターニング方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF PHOTOSENSITIVE RESIN例文帳に追加

感光性樹脂のパターニング方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD, PATTERNING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD, ELECTRONIC DEVICE, LIGHT EMITTING ELEMENT, COLOR FILTER AND PATTERNING DEVICE例文帳に追加

パターニング方法、電子デバイス、発光素子、カラーフィルタ及びパターニング装置 - 特許庁

例文

OVERLAY MEASUREMENT ON DOUBLE PATTERNING SUBSTRATE例文帳に追加

ダブルパターニング基板のオーバレイ測定 - 特許庁


例文

EXPOSURE MASK AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

露光用マスク及びパターニング方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD AND FILM FORMING APPARATUS例文帳に追加

パターニング方法及び製膜装置 - 特許庁

LITHOGRAPHY METHOD AND PATTERNING DEVICE例文帳に追加

リソグラフィ方法およびパターニングデバイス - 特許庁

METHOD OF PATTERNING CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

導電性フィルムのパターニング方法 - 特許庁

例文

AQUEOUS MULTICOLOR-PATTERNING PAINT COMPOSITION例文帳に追加

水性多彩模様塗料組成物 - 特許庁

例文

DOUBLE PATTERNING METHOD BY LITHOGRAPHY例文帳に追加

リソグラフィによるダブルパターンニング方法 - 特許庁

PATTERNING SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターニング基板とその製造方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD AND ALIGNER例文帳に追加

パターン形成方法及び露光装置 - 特許庁

PATTERNING METHOD AND PATTERNING DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

The product patterning device is separated from the measuring-target patterning device.例文帳に追加

製品パターン化デバイスと計測ターゲット・パターン化デバイスは分離されている。 - 特許庁

METHOD OF PATTERNING NANO CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

ナノ導電性膜のパターニング方法 - 特許庁

Finally, the patterning step of wiring is performed.例文帳に追加

この後、配線パターニングを行なう。 - 特許庁

SYSTEM FOR PATTERNING LAPPING SURFACE例文帳に追加

ラップ仕上面をパターン付けするシステム - 特許庁

PATTERNING METHOD AND ALIGNER例文帳に追加

パターン形成方法および露光装置 - 特許庁

the action of glossing or patterning by polishing 例文帳に追加

研いで光沢や模様を出すこと - EDR日英対訳辞書

Thus, the position of the patterning support is controlled to compensate for slip of the patterning device relative to the patterning support.例文帳に追加

従って、パターン支持体の位置の制御により、パターン支持体に対するパターニングデバイスのスリップが補正される。 - 特許庁

The patterning device includes at least two image patterning portions and at least two methodology mark patterning portions.例文帳に追加

パターニングデバイスは少なくとも2つのイメージパターニング部分および少なくとも2つのメトロロジーマークパターニング部分を含む。 - 特許庁

BASE MATERIAL FOR PATTERNING FILAMENTOUS FLOATING CELL例文帳に追加

糸状浮遊細胞パターニング基材 - 特許庁

MASK STRUCTURAL BODY AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

マスク構造体及びパターニング方法 - 特許庁

MAGNETIC MEMORY SUBJECTED TO ASSYMETRICAL PATTERNING例文帳に追加

非対称にパターニングされた磁気メモリ - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING LIQUID CRYSTAL LAYER AND ORIGINAL PLATE FOR PATTERNING USED FOR THE SAME例文帳に追加

液晶層のパターニング方法およびそれに用いられるパターニング用原版 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERNING MOLDING AND PATTERNING MOLDING OBTAINED THEREBY例文帳に追加

模様付成形品の製法およびそれによって得られる模様付成形品 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING METALLIC OXIDE FILM例文帳に追加

金属酸化物膜のパターン化方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF WATER-SOLUBLE PHOTORESIST例文帳に追加

水溶性フォトレジストのパターニング方法 - 特許庁

PATTERNING APPARATUS USING INK JET HEAD例文帳に追加

インクジェットヘッドを用いたパターニング装置 - 特許庁

PHOTORESIST AND METHOD FOR PATTERNING THE SAME例文帳に追加

フォトレジストおよびそのパターン化方法 - 特許庁

To provide a patterning apparatus to be used in patterning processing having a high degree of freedom.例文帳に追加

自由度の高いパターニング方法に用いるパターニング装置を提供する。 - 特許庁

PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION例文帳に追加

パターン形成方法及びレジスト材料 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING LAYOUT OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置のパターンレイアウト方法 - 特許庁

RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加

レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加

レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

MASK FOR PATTERNING AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

パターニング用マスク及びその製造方法 - 特許庁

PLASMA FOR PATTERNING IMPROVED GATE STACK例文帳に追加

改良型ゲートスタックのパターン化用プラズマ - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターニングの方法および半導体デバイス - 特許庁

LIQUID DELIVERY APPARATUS AND PATTERNING APPARATUS例文帳に追加

液体吐出装置及びパターニング装置 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加

レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD AND EQUIPMENT例文帳に追加

パタン作製方法及びパタン作製装置 - 特許庁

PATTERNING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法及び半導体装置 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING SILICON COMPOUND THIN FILM例文帳に追加

ケイ素化合物薄膜のパターニング方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加

半導体装置及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERNING PROCESS AND COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM TO BE USED FOR PATTERNING PROCESS例文帳に追加

パターン形成方法及びこれに用いるケイ素含有膜形成用組成物 - 特許庁

PATTERNING METHOD AND PATTERNED PRODUCT例文帳に追加

模様付与加工方法及びその製品 - 特許庁

The patterning for the second time is carried out under the set patterning condition.例文帳に追加

その後、その設定されたパターニングの条件により2回目のパターニングを行う。 - 特許庁

例文

Thereafter, the second patterning is conducted by transferring the wafer W to the patterning system.例文帳に追加

その後、ウェハWをパターニングシステムに搬送して2回目のパターニングを行う。 - 特許庁




  
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