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polymeric compositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 554件
The invention further provides a coating produced by using the aqueous polymeric composition.例文帳に追加
水性ポリマー組成物から調製されたコーティングが、また、提供される。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁
POLYMERIC FLAME-REARDANT AND FLAME-RETARDANT THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME例文帳に追加
高分子難燃剤およびそれを含む難燃性熱可塑性樹脂組成物 - 特許庁
This polymeric material composition is provided by containing a polymeric material and a triazine-based compound expressed by general formula (I).例文帳に追加
高分子材料と、下記一般式(I)、で表されるトリアジン系化合物とを含有する高分子材料組成物である。 - 特許庁
RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR, POLYMERIC COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING POLYMERIZED PRODUCT例文帳に追加
ラジカル重合開始剤、重合性組成物、および重合物の製造方法。 - 特許庁
COSMETIC COMPOSITION CONTAINING POLYMERIC PARTICLE- DISPERSED MATERIAL IN LIQUID FATTY PHASE例文帳に追加
液体脂肪相中にポリマー粒子の分散物を含む化粧品組成物 - 特許庁
To provide a polymeric compound useful for a positive resist composition, a positive resist composition including the polymeric compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a polymeric compound useful for a positive resist composition, a positive resist composition including the polymeric compound, and a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
There are provided a polymeric composition produced by dispersing at least two-photon absorption compound and dye precursor having color development by an oxidation reaction into a polymeric compound, a polymerizable composition comprising the polymeric composition and a polymerizable compound, and a two-photon optical recording medium which includes the polymeric composition or polymerizable composition, and utilizes two-photon absorption.例文帳に追加
高分子化合物中に、少なくとも2光子吸収化合物と酸化反応により発色する色素前駆体とを分散して成る高分子組成物、該高分子組成物と重合性化合物からなる重合性組成物、該高分子組成物又は重合性組成物を含み、2光子吸収を利用した2光子光記録媒体。 - 特許庁
POLYMERIC LIQUID CRYSTAL COMPOUND, LIQUID CRYSTAL COMPOSITION, FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
液晶性高分子化合物、液晶組成物、フィルム、及びその製造方法 - 特許庁
The composition comprises a modified polymeric material and a ceramic antiferroelectric particle.例文帳に追加
組成物は、変性ポリマー材料およびセラミック反強誘電体粒子を含む。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SOLID POLYMERIC PHOSPHATE AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE PHOSPHATE例文帳に追加
固体ポリマー状ホスフェートの製造方法及び該ホスフェートを含む樹脂組成物 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING POLYMERIC COMPOUND FOR PHOTORESIST, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST例文帳に追加
フォトレジスト用高分子化合物の製造方法、及びフォトレジスト用樹脂組成物 - 特許庁
POLYMERIZABLE COMPOUND, POLYMERIZABLE LIQUID CRYSTAL COMPOSITION, POLYMERIC COMPOUND, AND FILM例文帳に追加
重合性化合物、重合性液晶組成物、高分子化合物およびフィルム - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, POLYMERIC COMPOUND, AND COMPOUND例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および化合物 - 特許庁
COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
To obtain a filtered polymeric composition having a reduced amount of particulate impurities.例文帳に追加
本方法は粒状不純物量の低減した濾過ポリマー組成物を得る。 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING POLYMERIC COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
The polymeric composition for the electromagnetic wave interference suppresser is composed of a vinyl alcohol-based polymeric composition containing soft magnetic particles having a mean particle size of 10 μm or less, and the electromagnetic wave interference suppresser is manufactured by use of the polymeric composition.例文帳に追加
平均粒径10μm以下の軟磁性粒子を含有するビニルアルコール系重合体組成物からなる電磁波干渉抑制体用の重合体組成物、及び当該重合体組成物を用いて製造した電磁波干渉抑制体。 - 特許庁
To provide a silicone-based polymer and a polymeric composition, a method of preparation of the silicone-based polymer and a polymeric composition, and a method of use thereof with a light emitting diode (LED).例文帳に追加
シリコーン系ポリマー及びポリマー組成物、前記シリコーン系ポリマー及びポリマー組成物の製造方法ならびに発光ダイオード(LED)との併用方法を提供する。 - 特許庁
To reduce tackiness of a polymeric substance by coating with a silicone rubber composition.例文帳に追加
シリコーンゴム組成物によってコーティングした重合基材の粘着性を低減する。 - 特許庁
FLUOROCARBON POLYMERIC COMPOSITION HAVING HYDROPHILIC FUNCTIONAL GROUP AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
親水性官能基を有するフルオロカーボンポリマー組成物およびその調製方法 - 特許庁
POLYCARBONATE COMPOSITION, PREPARATION THEREOF AND POLYMERIC SOLID ELECTROLYTE USING THE SAME例文帳に追加
ポリカーボネート組成物、その製造方法、およびそれを用いた高分子固体電解質 - 特許庁
COMPOSITION CONTAINING AROMATIC ETHER COMPOUND AND POLYMERIC LIGHT-EMITTING DEVICE MADE USING THE SAME例文帳に追加
芳香族エーテル化合物含有組成物及びそれを用いた高分子発光素子 - 特許庁
COATING COMPOSITION AND POLYMERIC FORM EACH HAVING ANTIBLOCKINGNESS AND CONTAMINATION-PROOFNESS例文帳に追加
粘着防止性および耐汚染性を有する塗料組成物および高分子成形体 - 特許庁
POLYMERIC COMPOUND, ACID GENERATOR, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
AROMATIC ETHER COMPOUND-CONTAINING COMPOSITION AND POLYMERIC LIGHT-EMITTING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
芳香族エーテル化合物含有組成物及びそれを用いた高分子発光素子 - 特許庁
To provide a polymeric additive and an adhesive composition containing these additives.例文帳に追加
ポリマー添加剤およびこれらの添加剤を含む接着剤組成物を提供する。 - 特許庁
PHOTORESPONSIVE POLYMERIC COMPOUND, PHOTORESPONSIVE POLYMERIC COMPOSITION, DICARBOXYLIC ACID MONOMER, POLYESTER, OPTICAL RECORDING MEDIUM, AND OPTICAL RECORD-REPRODUCING DEVICE例文帳に追加
光応答性高分子化合物、光応答性高分子組成物、ジカルボン酸モノマー、ポリエステル、光記録媒体、及び光記録再生装置 - 特許庁
To provide a polymeric composition comprising: a polymeric resin; a conductive filler; and a dispersion-control agent that promotes substantially uniform arrangement of the conductive filler.例文帳に追加
ポリマー樹脂と、導電性フィラーと、導電性フィラーのほぼ均一な配置を促進する分散制御剤を含むポリマー組成物。 - 特許庁
To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加
レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加
レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
COSMETIC COMPOSITION FOR FORMING POLYMERIC MATRIX WITH HOLLOW EMBOSSMENT OR OUTGROWTH例文帳に追加
中空のレリーフまたは隆起物を含むポリマーマトリックスを形成可能な化粧品組成物 - 特許庁
COMPOSITION AND METHOD USING AMINE OXIDE MONOMER UNIT- CONTAINING POLYMERIC SUDS ENHANCER例文帳に追加
アミンオキシドモノマー単位含有高分子石鹸泡増進剤を使用する組成物および方法 - 特許庁
POLYMERIC COLORANT HAVING PIGMENT AND DYE COMPONENT AND CORRESPONDING INK COMPOSITION例文帳に追加
顔料及び染料成分を有する高分子着色剤並びに対応するインク組成物 - 特許庁
HEXAMETHYLENETETRAMINE/POLYMERIC PROTECTOR AND ITS PRODUCTION METHOD, AND PHENOL RESIN COMPOSITION例文帳に追加
ヘキサメチレンテトラミン/高分子保護体およびその製造方法、並びにフェノール樹脂組成物 - 特許庁
POLYMERIC MICRO PARTICLE CONTAINING ESSENTIAL OIL OF TREE AND WAX COMPOSITION INCLUDING THE SAME例文帳に追加
樹木精油成分含有重合体微粒子及びそれを含有したワックス組成物。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁
The polymeric electrolyte composition comprises a polymeric electrolyte and a solvent, wherein the solvent is a compound that has ether linkage and a hydroxy group.例文帳に追加
高分子電解質と溶媒とを含有し、上記溶媒が、ヒドロキシ基とエーテル結合とを有する化合物である高分子電解質組成物。 - 特許庁
A radiation curable ink composition contains a radiation curable material, a polymeric dispersant, and a fluorescent nanoparticle composition.例文帳に追加
放射線硬化性物質と、ポリマ分散剤と、蛍光ナノ粒子組成物と、を含む放射線硬化性インク組成物である。 - 特許庁
To provide a new polymeric compound useful as a component of a positive resist composition, a monomer thereof, a positive resist composition including the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の成分として有用な新規な高分子化合物、そのモノマー、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To obtain a coating composition and a polymeric form each having antiblockingness and contamination-proofness, and to provide a method for using a branched polymer as additive to the coating composition and the polymeric form.例文帳に追加
粘着防止性および耐汚染性を有する塗料組成物および高分子成形体、およびこれらの添加剤としての分岐状ポリマーを使用する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a new polymeric compound that can be used as a base component of a positive resist composition, and to provide a positive resist composition containing the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
POLYMERIC COMPOUND AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND LUMINESCENT MATERIAL, LIQUID COMPOSITION, THIN FILM, POLYMERIC LIGHT EMITTING ELEMENT, PLANAR LIGHT SOURCE, DISPLAY DEVICE, ORGANIC TRANSISTOR AND SOLAR BATTERY, EACH USING THE POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加
高分子化合物及びその製造方法、並びに、その高分子化合物を用いた発光材料、液状組成物、薄膜、高分子発光素子、面状光源、表示装置、有機トランジスタ及び太陽電池 - 特許庁
To provide: a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition; a compound useful as a monomer of the polymeric compound; a positive resist composition including the polymeric compound; and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition, a compound useful as a monomer of the polymeric compound, a positive resist composition including the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a composition of polymeric material sufficiently manifesting characteristics of molded articles of the polymeric material such as slip properties, stickiness resistance, water repellency, etc., without impairing productivity.例文帳に追加
生産性を損うことなく高分子成形体の滑性,耐貼り付き性,撥水性等を高め、目的とする高分子成形体の機能を十分に発揮する。 - 特許庁
The composition contains C.I. Pigment Yellow 180 as the yellow pigment and further a polymeric dispersing agent having basic adsorptive groups and preferably contains C.I. Pigment Yellow 151 as a dispersion aid.例文帳に追加
分散助剤として、C.I.ピグメント・イエロー・151を含有することが好ましい。 - 特許庁
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