「shadow square」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

For a color cathode-ray tube equipped with a shadow mask structure 28 composed of a shadow mask 34 and a frame 35 of nearly square form having at least a pair of opposing sides to fix the shadow mask in a state of tension applied, a material 46 for controlling deformation is provided.例文帳に追加

シャドウマスク34と、このシャドウマスクを張力印加状態で保持固定する少なくとも一対の対向辺を有するほぼ矩形状のフレーム35とからなるシャドウマスク構体28を備えカラー陰極線管において、フレームに変形抑制部材46を取付けた。 - 特許庁

In a third domain 103a (b) from HL 2% to a second shadow SD 2%, the halftone dot 50c (d, e) is grown in the square.例文帳に追加

ＨＬ２％から第２のシャドーＳＤ２％の第３の変域１０３ａ（ｂ）では、正方形で網点ドット５０ｃ（ｄ，ｅ）を成長させる。 - 特許庁

In a forth domain from SD 2% to a first shadow SD 1%, the halftone dot 50e (f) is grown by changing the shape from the square to the circle.例文帳に追加

ＳＤ２％から第１のシャドーＳＤ１％の第４の変域１０４では、正方形から円形に形状を変更しながら網点ドット５０ｅ（ｆ）を成長させる。 - 特許庁

The inverse number of a square root of an absolute value of a product of the maximum value and minimum value of a curvature at an arbitrary point of a holed portion 41 of a shadow mask 4 is defined as a Gaussian curvature radius at this point.例文帳に追加

シャドウマスク４の有孔部４１の任意の点での曲率の最大値と最小値との積の絶対値の平方根の逆数をこの点でのガウス曲率半径と定義する。 - 特許庁

These figures are Lorentz images of magnetic domains in square elements of Permalloy films which were grown by UHV e-beam deposition on SiN substrate using shadow-mask techniques. 例文帳に追加

これらの図は、シャドウ・マスク技法を使ったSiN基板上での超高真空(UHV)電子ビーム成膜により成長させられたパーマロイ膜の正方形状の要素中にある磁区のローレンツ(顕微鏡)像である。 - 科学技術論文動詞集