アニールするの英語

アニール処理を能率的に行うことができ、かつアニール処理の品質が低下することを防止できるアニール処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an annealing process device for efficient annealing while preventing degradation in quality of it. - 特許庁

アニールプロセス時において、アニール温度の温度むらを低減することを目的とする。例文帳に追加

To reduce nonuniform temperature of an annealing temperature, in the time of an annealing process. - 特許庁

次いで、後アニール（ポストアニール）として、窒素及び酸素を含有する雰囲気中でアニールを行う（ステップＳ５）。例文帳に追加

Then, annealing is conducted in an atmosphere containing nitrogen and oxygen as an after-annealing (post-annealing) (step S5). - 特許庁

レーザアニールの品質向上および製造コストの低減を図ったレーザアニール装置、およびレーザアニール方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a laser annealing which is designed to improve the quality of laser annealing and to reduce the manufacturing cost and a laser annealing method. - 特許庁

被処理物のレーザアニール領域全体でレーザアニール処理を安定して行えるレーザアニール装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a laser annealing apparatus that can stably perform annealing treatment on the whole laser-annealed area of an object to be treated. - 特許庁

アニール処理において半導体基板の所望の温度分布が得られるアニール装置及びアニール方法を提供する。例文帳に追加

To provide an annealing apparatus and method that obtain a desired temperature distribution of a semiconductor substrate in annealing. - 特許庁

従来よりも単純な機構のアニール装置、及びこのアニール装置を用いたアニール方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an annealing device, having a mechanism more simple than a conventional device, and to provide an annealing method employing the annealing device. - 特許庁

その後、この微結晶膜を、エキシマレーザーアニール等のアニール法を用いて溶融する（Ｓ２）。例文帳に追加

Thereafter the microcrystalline film is melted by annealing, such as excimer laser annealing (S2). - 特許庁