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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > JST科学技術用語日英対訳辞書 > 高速スパッタリングの英語・英訳 

高速スパッタリングの英語

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英訳・英語 high rate sputtering


JST科学技術用語日英対訳辞書での「高速スパッタリング」の英訳

高速スパッタリング


「高速スパッタリング」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 44



例文

高速スパッタリングが可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM WHICH ENABLES HIGH-SPEED SPUTTERING - 特許庁

ハイパワースパッタリング高速スパッタリング)時においても亀裂や割れの発生がなく、スパッタリング特性を安定させ、高品質のスパッタリング用チタンターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a high-quality titanium target for sputtering, generating no crack or break even in high-power sputtering (high-speed sputtering), and capable of stabilizing the sputtering characteristics. - 特許庁

バンドパスフィルターをスパッタリング高速に成膜する。例文帳に追加

To fast deposit a band pass filter by sputtering. - 特許庁

製造コストが安く、かつ高速スパッタリングが可能な大型のスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target of a large size which has low manufacturing cost and permits high-speed sputtering. - 特許庁

スパッタリング法による配線膜形成において、スパッタリングによる異常放電を抑制しつつ、高速成膜を実現することを可能としたスパッタリングターゲット材を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target material which achieves high speed film deposition while suppressing abnormal discharge caused by sputtering in wiring film deposition by a sputtering process. - 特許庁

高速成膜条件でも割れ発生のない高密度スパッタリング燒結ターゲット材例文帳に追加

HIGH-DENSITY SPUTTERING SINTERED TARGET MATERIAL NOT CRACKED EVEN IN HIGH-SPEED FILM FORMING CONDITION - 特許庁

例文

パーティクルや異常放電現象の原因となる不純物を低減させると同時に、ハイパワースパッタリング高速スパッタリング)時においても亀裂や割れの発生がなく、スパッタリング特性を安定させ、成膜時のパーティクルの発生を効果的に抑えることのできる高品質のスパッタリング用チタンターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a titanium target for sputtering having high quality capable of reducing the amount of impurities causing particles or abnormal discharge phenomenon, preventing occurrence of any crack even during the high-power sputtering (the high-speed sputtering), stabilizing the sputtering characteristic, and effectively suppressing generation of particles during the film deposition. - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「高速スパッタリング」の英訳

高速スパッタリング


「高速スパッタリング」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 44



例文

スパッタリング装置10は、流量コントローラ13でスパッタガスと酸素ガスの導入比率を変化させることにより、酸素ガスを含む雰囲気で高速スパッタリングを行う遷移領域モードで動作させる。例文帳に追加

The sputtering apparatus 10 is operated in a transition area mode for performing the sputtering at high speed in an atmosphere containing gaseous oxygen by changing the introduction ratio of a sputtering gas to the gaseous oxygen by a flow rate controller 13. - 特許庁

高速スパッタリングすることが可能な硫化亜鉛−二酸化ケイ素焼結体からなる光記録保護膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target for forming a protective film of an optical recording medium, which is made of a zinc sulfide-silicon dioxide sintered compact and can perform high-speed sputtering, and its manufacturing method. - 特許庁

安定した放電状態を短時間で達成し、より高速度での成膜を実現したスパッタリング装置及びスパッタリング処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering apparatus and a sputtering treatment method for attaining a stable discharge state in a short period of time and achieving film-deposition at higher speed. - 特許庁

CRT、LCD、PDPなどのディスプレイ表面の反射を抑制する反射防止膜をスパッタリング高速に成膜する。例文帳に追加

To fast deposit an antireflection film which suppresses reflection on the display surface such as a CRT, LCD, PDP or the like by sputtering. - 特許庁

高速成膜しても割れが発生することのない高誘電体膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR FORMING HIGH DIELECTRIC FILM FREE FROM GENERATION OF CRACKING EVEN IN THE CASE OF HIGH SPEED FILM FORMATION - 特許庁

高速成膜が可能な光記録媒体誘電体保護層形成用導電性焼結スパッタリングターゲット材例文帳に追加

CONDUCTIVE SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM DIELECTRIC PROTECTIVE LAYER, CAPABLE OF HIGH SPEED FILM DEPOSITION - 特許庁

Al基合金スパッタリングターゲットを用いた場合に、高速成膜してもスプラッシュの発生を抑制し得る技術を提供すること。例文帳に追加

To provide a technology which can suppress the occurrence of splash even though a film is formed at high speed, when having used a sputtering target of an Al-base alloy. - 特許庁

例文

金属とSiO_2の混合膜を高速かつ安定してスパッタリングで形成可能な成膜方法及び成膜装置を提供する。例文帳に追加

To provide a film deposition method and a film deposition system for depositing a mixed film of a metal and SiO_2 at high speed by sputtering. - 特許庁

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「高速スパッタリング」の英訳に関連した単語・英語表現

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