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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 日英固有名詞辞典 > しかまくあなせかこの英語・英訳 

しかまくあなせかこの英語

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日英固有名詞辞典での「しかまくあなせかこ」の英訳

しかまくあなせかこ

地名

英語 Shikamakuanasekako

飾磨鹿


「しかまくあなせかこ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 10



例文

繊維基布の少なくとも片面に水系樹脂からなる微多孔膜を有し、かつ該膜表面に水系樹脂からなる無孔膜が積層されていることを特徴とする防水透湿加工布帛例文帳に追加

The waterproof moisture-permeable fabric has a fine porous membrane formed of an aqueous resin at least on one surface of a fiber base cloth, and a non-porous membrane made of the aqueous resin laminated on the surface of the membrane. - 特許庁

被加工物を加工する時に、加工領域を覆うカバーの加工領域側の面にぬれ性を持たせ、この面に純水等の流体を複数の小孔から吐出させて水膜を形成し、加工屑を水膜に取り込んで加工領域外に排出する。例文帳に追加

The working chips are taken on a water film and discharged out of a working region by forming the water film by discharging fluid of pure water, etc., on a surface on the working region of a cover to cover the working region from a plurality of pores by providing wettability on it at the time of working the work. - 特許庁

これにより、実質的な光の入射開口となる側壁絶縁膜26で囲まれた領域と対応する正孔蓄積層16の厚さを厚くし、かつ正孔蓄積層16の外周部分を薄くした2段構造にした。例文帳に追加

Consequently, a two-stage structure is formed in which a positive hole storage layer 16 corresponding to an area surrounded by the sidewall insulating film 26 which becomes a substantial light incidence opening is thick and the outer circumferential part of the positive hole storage layer 16 is thin. - 特許庁

これと共に、酸化膜22にレーザ光が集光させることにより、酸化膜22における貫通孔に対応する部分に沿ってアブレーションするように加工し、かかる部分に欠陥領域(ダメージ領域)22bを形成する。例文帳に追加

In addition, the laser beams are condensed onto the oxide film 22 to perform machining so as to ablate along the part corresponding to the through-hole in the oxide film 22 and to form a defective region (a damaged region) 22b in the part. - 特許庁

酸化膜表面が窒化された薄い窒化膜により、従来の構成に比べて加工の困難性もなく集光効率の悪化もなく、空孔を発生させ、イオン注入によって発生した格子間Si原子を空孔に捕獲させることによりシリコン基板内のリーク電流を低減させる。例文帳に追加

To reduce a leakage current in a silicon substrate by forming holes by a thin nitride film having an oxide film surface nitrided without difficulty in processing nor deterioration in light collection efficiency as compared with conventional constitution and capturing interstitial Si atoms generated by ion injection into the holes. - 特許庁

加工対象物1にレーザ光を集光させて貫通孔に対応する部分に沿って改質領域7を形成し、加工対象物1の表面3及び裏面に酸化膜22を生成した後、加工対象物1にエッチング処理を施すことにより貫通孔を形成する。例文帳に追加

A property modification region 7 is formed along a portion corresponding to a through hole by converging a laser beam on a process target 1, an oxide film 22 is formed on each of a surface 3 and a rear surface of the process target 1, and then the process target 1 is subject to etching treatment, thereby forming the through hole. - 特許庁

例文

試料側の相である高分子化合物膜の孔径を調節し、目的分子の酵素固定化膜への移動量を調節する基質制御膜とすることにより、固定化酵素膜自体の変更なしに、直線性を向上させ、定量的測定可能な測定レンジを広げることが可能となり、課題が解決された。例文帳に追加

A polymer membrane which is a phase on a specimen side and whose pore size is adjusted, is used as a substrate control membrane controlling the movement quantity of the target molecule into an enzyme-immobilizing membrane, thereby improving the linearity and expanding the measurement range which allows the quantitative measurement to be carried out, without modifying the immobilized enzyme membrane itself. - 特許庁

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「しかまくあなせかこ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 10



例文

クラックが発生し難く、空孔率の低い密な誘電体厚膜をセラミック基板、ガラス/セラミック複合基板上に形成することにより、高輝度の青色発光が得られ、白色発光やフルカラー化、高精細化が可能で、しかも製造が容易な薄膜EL素子、およびその製造方法を実現する。例文帳に追加

To realize a thin film EL element which shows a blue luminescence of high luminosity, white luminescence and full-color displaying, and a highly precision display and can be easily manufactured, and its manufacturing method, by forming a high dense dielectric thick film of a low perforation rate in which a crack cannot be generated easily on a ceramic substrate or a glass/ceramic complex substrate. - 特許庁

マシニングセンタのワ−クタッチセンサ−35を用いてマクロプログラムで各穴、端面に移動し接触させマシニングセンタのNC内部に記憶して演算処理し、加工工作図面と照合できるデ−タ計測結果を求め、マシニングセンタのモニタ−に表示する。例文帳に追加

A data measuring result collatable with a processing shop drawing is determined, and is displayed on a monitor of the machining center. - 特許庁

例文

その表面を覆うように透明導電膜12を形成し、その上に平坦化膜13を形成し、貫通孔および凹所以外の領域のアクリル系樹脂膜10が露出するまで全面エッチングすることで画素電極12aをパターニングし、コンタクトホール加工と画素電極パターニングを1枚のフォトマスクで行う。例文帳に追加

A transparent conductive film 12 is formed covering the top surface and a flattening film 13 is formed thereupon and the entire surface is etched until the acryl-based resin film 10a in the area except the through hole and recess is exposed to pattern pixel electrodes 12a, and contact hole processing and pixel electrode patterning are carried out by a sheet of photomask. - 特許庁

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「しかまくあなせかこ」の英訳に関連した単語・英語表現
1
Shikamakuanasekako 日英固有名詞辞典

2
飾磨区阿成鹿古 日英固有名詞辞典

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