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のり面処理の英語
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英訳・英語 treatment for face of slope
「のり面処理」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 2071件
金属ナノ粒子を用いた表面処理方法、その表面処理方法を用いて表面処理された器具例文帳に追加
SURFACE TREATMENT METHOD USING METAL NANOPARTICLE, AND INSTRUMENT SUBJECTED TO SURFACE TREATMENT USING THE SURFACE TREATMENT METHOD - 特許庁
情報処理システムおよび画面からのリクエストの処理方法例文帳に追加
INFORMATION PROCESSING SYSTEM AND PROCESSING METHOD OF REQUEST FROM SCREEN - 特許庁
帯状の被処理物の両面を同時処理できるだけでなく片面だけを処理することもできるプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a plasma treatment apparatus which can treat not only both surfaces of a strip to be treated simultaneously but also only one surface thereof. - 特許庁
金属材料表面のリン酸塩処理膜に防錆剤含浸処理および樹脂含浸処理の少なくとも一つの処理を施す。例文帳に追加
This method is characterized by applying at least either of anti-rust agent impregnation treatment or resin impregnation treatment on a phosphate conversion coating on the surface of a metal material. - 特許庁
基板の両面に対して良好な処理（とくに洗浄処理）を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。例文帳に追加
This substrate processing equipment comprises a substrate processing portion 1 and an indexer portion 2. - 特許庁
海苔網等上面下面同時処理作業用システム例文帳に追加
SYSTEM FOR SIMULTANEOUS PROCESSING WORK OF UPPER SURFACE AND LOWER SURFACE OF LAVER NET - 特許庁
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「のり面処理」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 2071件
金属のりん酸塩皮膜化成処理前の表面調整用前処理液及び表面調整方法例文帳に追加
PRETREATMENT LIQUID FOR SURFACE CONDITIONING PRIOR TO PHOSPHATE TREATMENT OF METAL, AND METHOD OF SURFACE CONDITIONING - 特許庁
金属のりん酸塩被膜化成処理前の表面調整用処理液及び表面調整方法例文帳に追加
TREATMENT LIQUID FOR SURFACE CONTROL BEFORE PHOSPHATING METAL, AND SURFACE CONTROLLING METHOD - 特許庁
金属のりん酸塩皮膜化成処理前の表面調整用前処理液及び表面調整方法例文帳に追加
PRETREATMENT LIQUID FOR SURFACE CONTROL BEFORE PHOSPHATING METAL, AND SURFACE CONTROLLING METHOD - 特許庁
片面の表面処理、及び両面の表面処理の両方に対応可能な湿式処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a wet treatment apparatus, which is adaptable to both a single-surface treatment and a both-surface treatment. - 特許庁
被処理体の裏面に供給された処理液が、被処理体の周縁部で、処理液の表面張力によって被処理体の表面側に回り込むことを防止し、このことによって、被処理体の周縁部の表面を精度良く処理すること。例文帳に追加
To process the surface of a peripheral portion of a workpiece by preventing a processing liquid supplied to the rear surface of the workpiece from wrapping around the front surface side of the workpiece because of the surface tension of the processing liquid in the peripheral portion of the workpiece. - 特許庁
複数基板の両面同時処理でもプラズマを安定させ得る表面処理方法及び表面処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a surface processing method and a surface processing device wherein plasma can be kept stable even when both the surfaces of two or more substrates are subjected to surface processing. - 特許庁
裏面洗浄処理ユニットＲＳＷにおいて、露光処理前に基板Ｗの裏面が洗浄される。例文帳に追加
The rear surface of the substrate W is cleaned in the rear-surface cleaning unit RSW, before exposure processing. - 特許庁
基板の表面のメッキ処理中に、基板の裏面の洗浄を行うことができ、かつメッキ処理を含む基板の処理時間を短縮する。例文帳に追加
To clean the back side of a substrate in the process of subjecting the surface of the substrate to plating treatment and to reduce the time for substrate treatment inclusive of plating treatment. - 特許庁
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