ふっかまんがんの英語

試合中，人々は「釜石，がんばれ！」と大声をあげ，漁船の旗である大漁旗を振った。例文帳に追加

During the match, people called out, "Go for it, Kamaishi!" and waved tairyo-bata, fishing boat flags.発音を聞く  - 浜島書店 Catch a Wave

下層金属配線１４を覆うようにフッ素含有シリコン酸化膜１６を形成する。例文帳に追加

The fluorine-containing silicon oxide film 16 is formed so as to cover a lower layer metal wiring 14. - 特許庁

低濃度のフッ素を含有する排水中からフッ素を除去して、環境基準以下までフッ素濃度を低減することが可能なフッ素含有排水の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for treating waste water containing fluorine, being capable of reducing the fluorine concentration below the environmental quality standard by removing the fluorine from the waste water containing the fluorine of the low concentration. - 特許庁

ゲート電極、ゲート酸化膜及びオフセット領域の少なくとも一つに弗素が含有されている。例文帳に追加

Fluorine comprises by at least one of the gate electrode, the gate oxide film and the offset region. - 特許庁

フッ素含有廃水にマグネシウム化合物を添加してフッ化マグネシウムを生成する添加工程と、生成されたフッ化マグネシウムを凝集させて分離回収する回収工程と、回収工程で回収されたフッ化マグネシウムスラッジを脱水乾燥させる乾燥工程とからなる。例文帳に追加

A fluorine-containing waste water treatment method comprises an addition process for adding magnesium compound to the fluorine-containing waste water to produce magnesium fluoride, a recovery process for separating and recovering the produced magnesium fluoride by coagulating it, and a drying process for dehydrating and drying the recovered magnesium fluoride in the recovery process. - 特許庁

埋め込み酸化膜３１は、その全域に渡ってフッ素（Ｆ）をほぼ均一に含有しており、フッ素を含有しないシリコン酸化膜（比誘電率が３．９程度）に比べて比誘電率が低下している。例文帳に追加

Because the embedded oxide film 31 contains fluorine almost uniformly over the entire region, its relative dielectric constant is lower than a silicon oxide film (relative dielectric constant of approximately 3.9), containing no fluorine. - 特許庁

フッ素含量が１００ｐｐｍより少ないにも関わらず、フッ素を１００ｐｐｍより多く含む酸化マグネシウムと同程度以上の紫外光発光強度を持つフッ素含有酸化マグネシウム発光体を提供すること。例文帳に追加

To provide a fluorine-containing magnesium oxide illuminant having ultraviolet light emitting intensity more than magnesium oxide containing 100 ppm or more of fluorine even though fluorine content is less than 100 ppm. - 特許庁

シリコン窒化膜５０４のフッ酸含有薬液でのウェットエッチングレートは、シリコン酸化膜のフッ酸含有薬液でのウェットエッチングレートよりも小さい。例文帳に追加

The wet etching rate of the silicon nitride film 504 by a fluorine-containing chemical liquid is smaller than that of the silicon dioxide film 503 by a fluorine-containing chemical liquid. - 特許庁