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イオンビーム走査の英語
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「イオンビーム走査」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 91件
イオンビームの照射制御は、イオンビームの走査速度制御とする。例文帳に追加
The irradiation control of the ion beam is made by scan speed control of ion beam. - 特許庁
集束イオンビーム加工による走査型顕微鏡用プローブ例文帳に追加
PROBE FOR SCANNING MICROSCOPE BY FOCUSED ION BEAM PROCESSING - 特許庁
可動部材の多方向走査及びそのためのイオンビーム監視構成体例文帳に追加
MULTI-DIRECTIONAL SCANNING OF MOVABLE MEMBER AND ION BEAM MONITORING ARRANGEMENT THEREFOR - 特許庁
その後、イオンビーム走査禁止領域を除く領域について取得されるＦＩＢ画像に、イオンビーム走査禁止領域の設定に使用した画像をずれ無く重ね合わせ、イオンビーム走査を行っていないイオンビーム走査禁止領域を含む画像を形成する。例文帳に追加
An image used for setting the ion beam scanning prohibition region is superposed without a deviation on the FIB image acquired on a region excluding the ion beam scanning prohibition region to form an image including the ion beam scanning prohibition region where ion beam scanning is not performed. - 特許庁
また、このビーム幅Ｄを用いてイオンビーム４の適切な走査距離を設定し、その状態でのイオンビーム４のビーム幅を求める。例文帳に追加
An appropriate scanning distance of the ion beam 4 is set by using the beam width D, and the beam width of the ion beam 4 is obtained in that state. - 特許庁
Ｘ方向に走査されるイオンビーム１００をホルダ２に保持された基板９０に照射する構成のイオンビーム照射装置に関する。例文帳に追加
The ion beam irradiation device is of a structure in which ion beams 100 scanned in an X direction are irradiated on the substrate 90 held by a holder 2. - 特許庁
注入方法に関し、第１の方向に延びる一連の走査線に沿って基板に対してイオンビームを走査するステップと、該基板と該イオンビーム間の相対的な回転をもたらすステップと、異なる方向に一連の第２の走査線に沿って該イオンビームを走査するステップとを備えている。例文帳に追加
The implantation method has a step of scanning a substrate with an ion beam along a series of scan lines extending in a first direction, a step of providing relative rotation between the substrate and the ion beam, and a step of scanning the substrate with the ion beam along a series of second scan lines in a different direction. - 特許庁
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「イオンビーム走査」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 91件
重イオン癌治療設備用のイオンビーム用走査マグネットシステムを提供する。例文帳に追加
To provide an ion beam scanning magnet system for a heavy ion cancer therapy facility. - 特許庁
Ｘ方向の静電スキャンにより走査されたイオンビームがウェハ１６に照射される。例文帳に追加
Ion beams that are scanned by electrostatic scanning in an X direction are applied to a wafer 16. - 特許庁
イオンビーム４の走査範囲を縮小することで、加工装置全体を小型化できる。例文帳に追加
The entire processing apparatus can be made to be small by reducing the scanning range of the ion beam 4. - 特許庁
第２モードでは、イオンビームは、ビーム走査システム128とパラライザー130を走査しないで通過し、かつ加工物122は、スポットイオンビーム112を通って二次元で走査される。例文帳に追加
In the second mode, the ion beam passes without scanning the beam scanning system 128 and the parallelizer 130 and the workpiece 122 is scanned through the spot ion beam 112 in two dimensions. - 特許庁
第１モードでは、加工物122は、加工物走査システム167によって少なくとも１次元で走査イオンビームを通って走査される。例文帳に追加
In the first mode, the workpiece 122 is scanned through the scanning ion beam at least in one dimension by a workpiece scanning system 167. - 特許庁
反映領域を形成した試料をイオンビームで走査して、反映領域の範囲を示す座標情報として、イオンビームの走査座標軸上の座標情報を求める。例文帳に追加
The sample having the reflecting region formed thereon is scanned with an ion beam to find a coordinate information on a scan coordinate axis of the ion beam as coordinated information, indicative of a range of the reflection region. - 特許庁
イオンビームの走査信号に、加工範囲を走査する信号成分と移動ステージの移動に同期した信号成分を重畳する。例文帳に追加
A signal component for scanning in the processing range and a signal component synchronizing with the movement of the movement stage are superposed in a scanning signal of the ion beam. - 特許庁
イオンビーム走査装置のイオンビームの加速電圧、大きさ及び入射時間とを調節して半導体基板に所望の直径及び深さを有するクアンタムホールを形成する。例文帳に追加
The accelerating voltage, the size and the incident time of an ion beam of an ion beam scanning device are adjusted to form quantum holes having a desired diameter and depth in a semiconductor substrate. - 特許庁
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ion-beam scanning
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