キナルジン酸の英語

４−メトキシキノリンまたはその誘導体 (例、６−アセトアミド−４−メトキシキナルジン) を酢酸アンモニウムと反応させてアミノ化することによる４−アミノキノリンまたはその誘導体 (例、６−アセトアミド−４−アミノキナルジン) の製造において、反応操作性を改善し、酢酸アンモニウムの使用量を低減させる。例文帳に追加

To improve the reaction operability and decrease the consumption of ammonium acetate in the production of 4-aminoquinoline or its derivative (e.g. 6-acetamido-4-aminoquinaldine) by the amination of 4-methoxyquinoline or its derivative (e.g. 6-acetamido-4-methoxyquinaldine) with ammonium acetate. - 特許庁

被研磨膜が銅膜等の金属膜である場合は、ケイタングステン酸、リンタングステン酸等のヘテロポリ酸またはその塩、あるいはキナルジン酸、キノリン酸等の複素芳香環を備える有機酸またはその塩を発色剤として含有させることができる。例文帳に追加

When the polished film is a metallic film such as a Cu film, as a coupler, the aqueous dispersion can contain heteropolyacid or its salt that includes silicotungstic acid and phosphotungstic acid, or an organic acid or its salt that has a complex aromatic ring such as quinaldic acid and quinolinic acid. - 特許庁

このようなレベリング剤には、１，５−ナフタリン−ジスルホン酸ナトリウム、１，３，６ナフタリン−トリスルホン酸ナトリウム、サッカリン、アルデヒド、ゼラチン、２ブチン−１，４ジオール、キナルジン、ピリジウム化合物、エチレンシアンヒドリン、アゾ染料、チオシアン酸カリウム、ピロ燐酸カリウムが挙げられる。例文帳に追加

Examples of such a leveling agent are 1,5-naphthalene-sodium disulfonate, 1,3,6-naphthalene- sodium trisulfonate, saccharin, aldehyde, gelatin, 2 butyne-1,4diol, quinaldine, pyridium compound, ethylene-cyane hydrine, azo dye, potassium thiocyanate, and potassium pyrophosphate. - 特許庁

キナルジン核にさらにフタル酸イミド基等が結合しているキノフタロン誘導体であって、２つの該誘導体がフタル酸イミドの芳香環同志が直接結合あるいはメチレン、エーテル、チオエーテル等の二価の有機残基で結合している構造を有する顔料。例文帳に追加

This pigment has a structure in which the phthalimide aromatic rings of two quinophthalone derivatives having quinaldine nuclei bound to phthalimide or the like, respectively, are bound to each other directly or through a divalent organic residue such as methylene, ether or thioether. - 特許庁

（Ａ）複素環を有する化合物、好ましくは、キナルジン酸、ベンゾトリアゾール、およびベンゾイミダゾールの群から選択された化合物、（Ｂ）三重結合を有する界面活性剤、好ましくは非イオン系界面活性剤、および（Ｃ）酸化剤を含有する化学機械研磨用、特に銅の化学機械研磨用水系分散体。例文帳に追加

This aqueous dispersion for chemically polishing machines, especially for chemically polishing copper machines, comprises (A) a compound selected from the group consisting heterogeneous ring-having compounds, preferably quinaldinic acid, benzotriazole, and benzoimidazole, (B) a surfactant, preferably a nonionic surfactant, having a triple bond, and (C) an oxidizing agent. - 特許庁

研磨材として一次粒子の平均粒径が３０ｎｍであるコロイダルシリカ、シュウ酸、過酸化水素、ベンゾトリアゾール、キナルジン酸、ヒスチジン、水酸化カリウムを０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。例文帳に追加

The polishing composition with 30 nm average diameter as a primary particle is obtained by mixing colloidal silica, oxalic acid, hydrogen peroxide, benzotriazole, quinaldinic acid, histidine, and potassium hydroxide with ion exchange water filtered with a 0.5 μm cartridge filter, agitated by a high-speed homogenizer, and uniformly dispersed to obtain the polishing composition. - 特許庁

研磨材として、平均粒径４０ｎｍのＰＭＭＡとジビニルベンゼンの共縮合物、過酸化水素、ベンゾトリアゾール、キナルジン酸、グリシン、安息香酸を０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。例文帳に追加

For the preparation of the polishing composition, a cocondensate of PMMA with an average particle diameter of 40 nm and divinylbenzene, hydrogen peroxide, benzotriazol, quinaldic acid, glycine, and benzoic acid are mixed with ion-exchanged water filtered by a 0.5 μm cartridge filter, and then stirred in a high-speed homogenizer for homogeneous dispersion. - 特許庁

研磨材として一次粒子の平均粒径が３０ｎｍであるコロイダルシリカ、シュウ酸、過酸化水素、ベンゾトリアゾール、キナルジン酸、エチエンジアミン、ヒスチジンを０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。例文帳に追加

This abrasive composition is prepared by mixing primary particles of colloidal silica, oxalic acid, hydrogen peroxide, benzotriazole, quinaldinic acid, ethylenediamine, and histidine having the mean particle diameter of 30 nm in ion-exchanged water filtrated through a 0.5-μm cartridge filter as abrasive powder and uniformly scattering the particles in the water by agitating the water with a high-speed homogenizer. - 特許庁