ターゲットパターンの英語

それぞれの回折マップが、設計レイアウトから、ターゲットパターンの最初のより大きな集合からの複数のターゲットパターンのそれぞれについて生成される。例文帳に追加

Each diffraction map is generated with respect to each of a plurality of target patterns from the first larger set of the target patterns, from a design layout. - 特許庁

ターゲットパターンの部分集合がリソグラフィプロセスのための設計レイアウトの少なくとも一部を表すように、可能な回折シグネチャグループすべてをカバーするようにターゲットパターンの部分集合が選択される。例文帳に追加

A subset of the target pattern is selected so as to cover all possible diffraction signature groups so that the subset of the target pattern shows at least a part of a design layout for a lithography process. - 特許庁

コントローラは、該第１および第２の画像ベクトルと、該ターゲットパターンを表すターゲットベクトルとに基づいて、ターゲットパターンの原点に対する第１のサブセットの二次元絶対位置を求める。例文帳に追加

The controller asks for the absolute two-dimensional position of the first subset to the origin position of the target pattern, based on the first and second imaging vectors and the target vector representing the target pattern. - 特許庁

ターゲット基板は、印刷基板１０３にターゲットパターン形成物質１０１を塗布したことに続き、印刷ロール１００上に残っているターゲットパターン形成物質１０１を収容するようにして形成される。例文帳に追加

The target substrate is formed so as to store target pattern forming material 101 remaining on the printing roll 100 following transfer of target forming material 101 to the printing substrate 103. - 特許庁

このようにして，ターゲットパターン１２を露出させるための特段の工程なくして，ターゲットパターン１２が外層材２０のパターン加工のための基準として用いられる。例文帳に追加

Thus, a special stage for exposing the target pattern 12 is eliminated and the target pattern 12 is used as the standard for the patterning of the external layer material 20. - 特許庁

ターゲットパターンに基づいて垂直マスクを作成するステップをさらに含み、垂直マスクは低コントラスト水平フィーチャを含む。例文帳に追加

The method further includes generating a vertical mask based on the target pattern, where the vertical mask contains low contrast horizontal features. - 特許庁

スペクトルはターゲットパターンから測定され、測定されたスペクトルのスペクトル分析が行われる。例文帳に追加

The spectrum is measured from the target pattern and spectrum analysis on the measured spectrum is carried out. - 特許庁

ダブルパターニングを使用する際に、ウェーハに印刷されるターゲットパターンを複数のパターンに分解するための方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for decomposing a target pattern to be printed on a wafer into multiple patterns upon using double patterning techniques. - 特許庁