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フォトマスク照射の英語
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英訳・英語 photomask exposure
「フォトマスク照射」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 166件
フォトマスクに照射される露光量に応じて定期的にフォトマスクのクリーニング処理を行なう。例文帳に追加
A photomask is periodically cleaned according to an exposure value applied to the photomask. - 特許庁
フォトマスク１０には、照射光源２１からの光が照射される。例文帳に追加
The photomask 10 is irradiated with light from an irradiation light source 21. - 特許庁
閃光照射装置およびフォトマスクブランクの製造方法例文帳に追加
FLASHLIGHT APPLYING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK - 特許庁
その後、フォトマスクを用いてＵＶ光照射による露光をおこなう。例文帳に追加
Then, the pattern layer is exposed to light by being irradiated with UV rays using a photomask. - 特許庁
フォトマスクブランク及びその製造方法、フォトマスク、光パターン照射方法、並びに遷移金属ケイ素系材料膜の設計方法例文帳に追加
PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PHOTOMASK, OPTICAL PATTERN IRRADIATION METHOD, AND METHOD FOR DESIGNING TRANSITION METAL-SILICON MATERIAL FILM - 特許庁
フォトマスク及びフォトマスクブランクを非接触でケースに保管することでパーティクルの発生を抑制し、且つ、紫外線が照射されるとＣＶＤを起こすガスがフォトマスクの表面に吸着しないようにすること。例文帳に追加
To suppress the generation of particles by storing a photomask and a photomask blank in a case in non-contact with the case and prevent gas causing CVD when UV rays are applied from being adsorbed on the surface of the photomask. - 特許庁
露光装置にフォトマスク２をセット後、露光光１をウェハステージ５上のウェーハにこのフォトマスクを介して照射し、フォトマスクを透過して投影光学系３により得られた光学像を露光装置内で観測する。例文帳に追加
After a photomask 2 is set on an aligner, a wafer on a wafer stage 5 is irradiated with an exposure light 1 via the photomask, and an optical image which penetrates the photomask and is obtained by a projection optical system 3 is observed in the aligner. - 特許庁
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「フォトマスク照射」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 166件
露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して、フォトマスクパターンの像を、投影光学系により被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを、密閉可能な筐体に収装し、前記筐体内部において走査させ、投影露光する。例文帳に追加
In a method, in which the image of a photomask pattern provided on a photomask is projected and exposed upon and on a surface to be exposed by irradiating the photomask with light from an exposure light source by means of a projection optical system, the image is projected and exposed upon the surface to be exposed by scanning the photomask, while the photomask is housed in a hermetically sealable enclosure. - 特許庁
フォトマスクや基板には，温度上昇の原因となる長波長光が照射されない。例文帳に追加
The photomask or the substrate is not irradiated with long wavelength light which causes temperature rise. - 特許庁
該膜２に無偏光紫外線５を、フォトマスク４を介して５分間照射する。例文帳に追加
The film 2 is irradiated with non-polarized UV 5 via a photomask 4 for 5 minutes. - 特許庁
各反射領域は、照射光量を調整するためにフォトマスクを用いて形成する。例文帳に追加
Each reflection region is formed by using a photomask so as to control the quantity of irradiation light. - 特許庁
光源９は、フォトマスク１を介してウエハ３に照射される光を発生させるためのものである。例文帳に追加
A light source 9 generates light radiated to a wafer 3 through a photomask 1. - 特許庁
フォトマスク１０５を介して粘着シート１０２に対して紫外線を照射する。例文帳に追加
Ultraviolet rays are emitted to the adhesive sheet 102 via a photo mask 105. - 特許庁
発生する全紫外光のうち、９０％以上が１７０〜１８０ｎｍの波長である紫外線照射装置を用いて、フォトマスクに該紫外光を一定時間照射し、その後、該フォトマスクをアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とするフォトマスクの洗浄方法。例文帳に追加
This cleaning method for photomask consists of irradiating a photomask with UV light for a specified time by using a UV irradiation device of 170 to 180 nm in wavelength of ≥90% of the total generated UV light, then cleaning this photomask by using an alkaline cleaning liquid. - 特許庁
光源１１からの光をフォトマスク１３を介して半導体基板２に照射する際において、量子ドット３１が含められてなるフォトマスク基板２１を有し、転写すべき所望のパターンに応じて遮光膜２２がフォトマスク基板２１上に成膜されたフォトマスク１３を介して光を照射する。例文帳に追加
In the process of irradiating a semiconductor substrate 2 with light from a light source 11 through a photomask 13, the substrate is irradiated with light through a photomask 13 having a photomask substrate 21 comprising quantum dots 31 and a light shielding film 22 formed on the photomask substrate 21 according to a desired pattern to be transferred. - 特許庁
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photomask exposure
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