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フルエンス率の英語
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英訳・英語 fluence rate
「フルエンス率」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
業務フロー図に基づいて効率よくインフルエンスダイアグラムを生成すること。例文帳に追加
To efficiently generate an influence diagram based on a business flow diagram. - 特許庁
基材上に少なくとも粘着剤層が設けられており、粘着剤層のエッチング率(エッチング速度/エネルギーフルエンス)が0.4〔(μm/pulse)/(J/cm^2 )〕以上であり、かつ基材のエッチング率(エッチング速度/エネルギーフルエンス)が0.4〔(μm/pulse)/(J/cm^2 )〕未満であるレーザーダイシング・ダイボンド用粘着シート。例文帳に追加
The adhesive sheet for laser die bonding is disclosed which is provided with at least an adhesive layer on a base material, with the etching rate of the adhesive layer as >0.4 [(μm/pulse)/(J/cm^2)] and the etching rate (etching speed/energy fluence) of the base material as ≤0.4 [(μm/pulse)/(J/cm^2)]. - 特許庁
効用値計算部15は、インフルエンスダイヤグラムによるモデルを用いて、人感センサ1および着火センサ2の検出結果の組み合わせと確率表記憶部13に記憶した条件付確率表とから、警報を報知する場合の効用値と報知しない場合の効用値とを計算する。例文帳に追加
A utility value calculation part 15 calculates a utility value when a warning is given and that when a warning is not given from the combination of the detection results of the human sensor 1 and the ignition sensor 2 and the conditional probability table stored in the probability table storage part 13 by using a model based on an influence diagram. - 特許庁
500mJ/cm^2のフルエンスを持ったArFエキシマレーザー光を5.0×10^7パルス照射したときに、照射部に発生する常光線32もしくは異常光線33の屈折率の低下が50ppm以下の人工水晶部材を用いた光学素子を提供する。例文帳に追加
An optical element is obtained by using the artificial quartz member characterized in that lowering of the refractive index of a normal light ray 32 or abnormal light ray 33, generated at an irradiated part, is ≤50 ppm when the member is irradiated with 5.0×10^7 pulses of ArF eximer laser beam having a fluence of 500 mJ/cm^2. - 特許庁
屈折率1.33以上1.34以下の可視光領域において透明なフッ素系樹脂基板21を酸素を含有しない雰囲気中に保持し、基板表面にF_2レーザーのレーザー光をアブレーション閾値以下のレーザーフルエンスで照射して親水性を付与する。例文帳に追加
The cell culture substrate is obtained by holding the fluororesin substrate 21 having ≥1.33 and ≤1.34 refractive index and transparent in a visual light region in an atmosphere free from oxygen, and irradiating the surface of the substrate with a laser beam of F_2 laser with a laser fluence not higher than the abrasion threshold. - 特許庁
この表面加工方法では、加工補助材2のパルスレーザー光20の波長に対する透過率は、被加工物1のパルスレーザー光20の波長に対する透過率よりも小さく、パルスレーザー光20のフルエンスは、被加工物1のパルスレーザー光20に対するアブレーション閾値より低く且つ加工補助材2のパルスレーザー光20に対するアブレーション閾値より高くなっている。例文帳に追加
In this surface machining method, the transmissivity of the machining auxiliary material 2 for the wavelength of the pulsed laser beam 20 is smaller than the transmissivity of the workpiece 1 for the wavelength of the pulsed laser beam 20, and the fluence of the pulsed laser beam 20 is lower than the ablation threshold of the workpiece 1 for the pulsed laser beam 20 and higher than the ablation threshold of the machining auxiliary material 2 for the pulsed laser beam 20. - 特許庁
レーザー光の紫外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に使用するレーザー加工用粘着シートにおいて、前記粘着シートは、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられているものであり、かつ基材のエッチング率(エッチング速度/エネルギーフルエンス)が0.4〔(μm/pulse)/(J/cm^2 )〕以下であることを特徴とするレーザー加工用粘着シート。例文帳に追加
The adhesive sheet is such that at least an adhesive layer is provided on a substrate, wherein the etching rate(etching speed/energy fluence) of the substrate is ≤0.4[(μm/pulse)/(J/cm^2)]. - 特許庁
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「フルエンス率」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
レーザー光の赤外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に使用するレーザー加工用保護シートであって、前記保護シートは、少なくとも基材を有しており、かつ前記基材のエッチング率(エッチング速度/エネルギーフルエンス)が2×10^−4〔(μm/pulse)/(J/cm^2)〕以上であることを特徴とするレーザー加工用保護シート。例文帳に追加
The protective sheet at least has a base material, and the etching ratio (etching rate/energy fluence) of the base material is ≥2×10^-4[(μm/pulse)/(J/cm^2)]. - 特許庁
レーザー光の紫外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に使用するレーザー加工用粘着シートにおいて、前記粘着シートは、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられているものであり、前記基材は、波長300nm以下の紫外レーザー光を照射した際のエッチング率(エッチング速度/エネルギーフルエンス)が0.006〔(μm/pulse)/(J/cm^2)〕以下であることを特徴とするレーザー加工用粘着シート。例文帳に追加
The etching rate (etching speed/energy fluence) of the base material is ≤0.006 [(μm/pulse)/(J/cm^2)] when the base material is irradiated with an ultraviolet laser beam having ≤300 nm wave length. - 特許庁
作業物質に適切な条件でレーザーを照射して赤外多光子分解を誘起し、生成物中に特定の同位体を分離・濃縮してのち、未分解の作業物質を取出し、その未分解の作業物質に異なる圧力、異なるレーザー光の波長およびフルエンスでレーザー照射して赤外多光子分解を誘起し、別の同位体を残る作業物質中に分離・濃縮する効率的な同位体のレーザー分離・濃縮法。例文帳に追加
After a working material is irradiated laser 1 on a suitable conditions to excite infrared multiple photon decomposition to separate and concentrate a specified isotope in formed material, the undecomposed working material is taken out, and the undecomposed working material is subjected to laser irradiation under different pressure, with different laser ray wavelength, and fluence to excite infrared multiple photon decomposition to separate and concentrate another isotope into the remaining working material. - 特許庁
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