厚純の英語

純水が凍結する際に純水タンクに発生する応力を低減し、壁厚を厚くすることなく変形、破損などを防止する純水タンクを提供する。例文帳に追加

To provide a pure water storage tank capable of preventing deformation, breakage and the like without increasing the thickness of a wall by reducing stress generated in the pure water tank when pure water is frozen. - 特許庁

キャリア蓄積層４は、高濃度不純物層４ａと低濃度不純物層４ｂとを有し、高濃度不純物層４ａは１．５μｍ以上の厚さであり、この層の不純物濃度が層全体にわたり１．０×１０^１６ｃｍ^−３以上であるようにした。例文帳に追加

The carrier storing layer 4 has a high concentration impurity layer 4a and a low concentration impurity layer 4b. - 特許庁

抵抗体とするシリコンの膜厚ばらつきにかかる最大の膜厚の領域（図５（ａ））における不純物の添加量を「Ｎ０」とし、最小の膜厚の領域（図５（ｂ））における不純物の添加量を「Ｎ０−Ｎａ」とする。例文帳に追加

The adding amount of impurities in the maximum film thickness region (Fig.(a)) related to the variety of a resistor or a silicon film thickness is specified so as to be "NO" and the adding amount of impurities in the minimum film thickness region (Fig.(b)) is specified so as to be "NO-Na". - 特許庁

膜厚が薄く充分な不純物濃度を有する不純物領域を備えるダイオードを有する半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device including a diode having an impurity region small in film thickness and having sufficient impurity concentration. - 特許庁

Ｐ型の不純物濃度の薄い層１２７とＮ型の不純物濃度の薄い層１２８の厚さは４０ｎｍ以下である。例文帳に追加

The p-type layer 127 having small impurity concentration, and n-type layer 128 having small impurity concentration are as thick as 40 nm or less. - 特許庁

膜厚均一性に優れ且つ不純物拡散防止機能の高いシリコン窒化膜を形成する。例文帳に追加

To form a silicon nitride film having high uniformity in a coating thickness and a high impurity diffusion prevention function. - 特許庁

第２領域１５６では２回の注入で、不純物が透過しないレジスト膜厚に設定する。例文帳に追加

A resist film thickness not transmitting impurities is set in the second region 156 by two injections. - 特許庁

純粋アルミニウムは、酸素に曝すと、表面に１ｎｍ程度の厚さの酸化アルミニウムができる。例文帳に追加

When the pure aluminum is exposed to oxygen, an aluminum oxide which is about 1 nm in thickness is formed on a surface. - 特許庁