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「対象パターン」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1858件
評価対象パターン決定装置、評価対象パターン決定方法、評価対象パターン決定プログラムおよびパターン評価システム例文帳に追加
DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR DETERMINING PATTERN TO BE EVALUATED AND PATTERN EVALUATION SYSTEM - 特許庁
パターン検査装置、パターン検査方法、及び検査対象試料例文帳に追加
PATTERN INSPECTION DEVICE, PATTERN INSPECTION METHOD, AND TEST PIECE FOR INSPECTION - 特許庁
パターン検査装置、パターン検査方法、及び検査対象試料例文帳に追加
PATTERN INSPECTION DEVICE AND METHOD, AND INSPECTION OBJECT SAMPLE - 特許庁
補正対象パターン記憶領域１７に、補正対象パターンが記憶される。例文帳に追加
Correction object patterns are stored in a correction object pattern storage area 17. - 特許庁
そして側壁パターンで加工対象をエッチングする。例文帳に追加
Then, the processing subject is etched by the side wall pattern. - 特許庁
認識対象のパターンに類似する輪郭パターンを含む認識対象外の輪郭パターンが誤認識されることがないようにする。例文帳に追加
To prevent a contour pattern other than a recognition target including contour patterns similar to the pattern of the recognition target from being erroneously recognized. - 特許庁
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「対象パターン」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1858件
転写対象パターンの周囲の遮光性を確保しつつ、転写対象パターンに近接させてダミーパターンを設ける。例文帳に追加
To dispose a dummy pattern in the proximity of a pattern to be transferred while keeping light shielding property around the pattern to be transferred. - 特許庁
レジストパターン評価対象取得方法及び反射防止膜評価対象取得方法及びレジストパターン評価対象取得システム例文帳に追加
SUBJECT ACQUISITION METHOD FOR RESIST PATTERN EVALUATION, SUBJECT ACQUISITION METHOD FOR EVALUATION OF RESIST PATTERN AND ANTI-REFLECTION COATING, AND SUBJECT ACQUISITION SYSTEM FOR EVALUATION OF RESIST PATTERN - 特許庁
パターン適合手段４は、パターン抽出対象格納手段２内の各パターン抽出対象を、パターン格納手段３内の各パターンと照合する。例文帳に追加
A pattern adapting means 4 collates each pattern extraction object in a pattern extraction object storage means 2 with each pattern in a pattern storage means 3. - 特許庁
検査対象パターン画像と、設計データ等の検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置および方法を提供する。例文帳に追加
To provide a pattern inspection apparatus and method for inspecting a pattern to-be-inspected by using an image of the pattern to-be-inspected and data for fabricating the pattern to-be-inspected such as design data. - 特許庁
判別対象文字パターンとその上下反転パターンとの正規化相関値ｘｑ、判別対象文字パターンとその左右反転パターンとの正規化相関値ｙｑ、判別対象文字パターンとその点対称パターンとの正規化相関値ｚｑを算出する。例文帳に追加
A normalized correlation value xq between a letter to be discriminated pattern and its vertical inversion pattern, a normalized correlation value yq between the letter to be discriminated pattern and its horizontal inversion pattern, and a normalized correlation value zq between the letter to be discriminated pattern and its point symmetrical pattern are calculated. - 特許庁
検査対象パターンと基準パターンとが著しく異なる場合であっても、適切なマッチングを行う。例文帳に追加
To perform appropriate matching, even when an inspection object pattern differs from a reference pattern remarkably. - 特許庁
検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。例文帳に追加
To perform comparison inspection between a pattern image to-be-inspected and a reference pattern in real time, or the like. - 特許庁
測定対象パターン１１の先端部近傍に、寸法測定用の補助パターン１２を形成する。例文帳に追加
An auxiliary pattern 12 for dimension measurement is formed near the top end of an objective pattern 11 for measurement. - 特許庁
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object pattern
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