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引っ張り歪みの英語
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英訳・英語 tensile strain; strain under tension; stretching strain
「引っ張り歪み」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 43件
引っ張り歪みシリコン層が緩和SiGe層上に形成される。例文帳に追加
The tensile distortional silicon layer is formed on the loosened SiGe layer. - 特許庁
電子ブロック層23はX軸方向の引っ張り歪みを受ける。例文帳に追加
The electron block layer 23 is subjected to tensile strain in the X-axis direction. - 特許庁
Si−Ge層12の表面には引っ張り歪みSiチャネル層13が形成されている。例文帳に追加
A tensile strain Si channel layer 13 is formed on the surface of the Si-Ge layer 12. - 特許庁
緩和SiGe合金層12上に歪みSi層14及び引っ張り歪みSiGe合金層16の第一多層化構造10を構成する。例文帳に追加
A first multilayered structure 10 of a strained Si layer 14 and tensile strain SiGe alloy layer 16 constitute on a relaxation SiGe alloy layer 12. - 特許庁
圧縮歪みおよび引っ張り歪みは、デバイスの内部ベースの近傍に応力層を形成することによって生じさせる。例文帳に追加
The compression strain and tensile strain are generated by forming a stress layer in the neighborhood of the internal base of the device. - 特許庁
熱歪みによって発生する引っ張り応力に弱く、クラックの進展はこの引っ張り応力によって誘導されるという硬脆材料の特徴を応用したレーザマイクロ割断装置を提供する。例文帳に追加
To provide a laser micro-slitting device using the features of hard, fragile material which is weak to tensile stress caused by thermal strain and in which the progress of a crack is induced by the tensile stress. - 特許庁
半導体基板に引っ張り歪みを発生させ、これにより上記半導体基板に形成される素子の性能を向上する。例文帳に追加
To improve an element formed on a semiconductor substrate by generating tensile strain on the semiconductor substrate. - 特許庁
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「引っ張り歪み」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 43件
均一なミスフィット転位密度を含む緩和SiGe被膜上の引っ張り歪みシリコンおよびその形成方法例文帳に追加
TENSILE DISTORTIONAL SILICON ON LOOSENED SiGe FILM CONTAINING EVEN MISFIT DISLOCATION DENSITY AND FORMING METHOD OF SAME - 特許庁
引っ張り歪みSiチャネル層13上にTa_2 O_5 層15及びTiN層16を介してAlゲート電極17が形成されている。例文帳に追加
An Al gate electrode 17 is formed on the tensile strain Si channel layer 13 through the intermediary of a Ta2O5 layer 15 and a TiN layer 16. - 特許庁
NMOS及びPMOSトランジスタそれぞれのチャネルに同時に引っ張り及び圧縮歪みを与えるための方法例文帳に追加
METHOD FOR SIMULTANEOUSLY IMPARTING TENSION AND COMPRESSIVE STRAIN TO EACH CHANNEL OF NMOS AND PMOS TRANSISTOR - 特許庁
トランジスタのサイズによらない普遍的な引っ張り歪みをnチャネル型MOSトランジスタに印加できる半導体装置を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor device capable of applying a universal tensile distortion not depending on a size of a transistor, to a n-channel type MOS transistor. - 特許庁
引っ張り歪みを受けたシリコン層の一部がチャネル領域13となっており、このチャネル領域13は電子が走行するnチャネルとなっている。例文帳に追加
A part of the silicon layer subjected to tensile strain forms a channel region 13, which makes an N-channel for electron transit. - 特許庁
引っ張り歪みを受けたシリコン層をチャネル領域として利用することにより、特性のよいかつ安価な電界効果トランジスタを提供する。例文帳に追加
To obtain a low-cost field-effect transistor excellent in characteristics by using a silicon layer subjected to tensile strain, as a channel region. - 特許庁
さらに、p−GaN第2コンタクト層の膜厚を臨界膜厚未満とすることで、p−GaN第2コンタクト層には面内引っ張り歪みが発生し、当該面内引っ張り歪みによってp−GaN第2コンタクト層のバンドギャップエネルギーが低減する。例文帳に追加
In-plane tensile stress is produced on the p-GaN second contact layer by making the thickness of the p-GaN second contact layer less than a critical thickness, so that bandgap energy of the p-GaN second contact layer of the p-GaN second contact layer is reduced owing to the in-plane tensile stress. - 特許庁
起歪体3の矩形状をした表面の一方の対角線の一端に引っ張り圧縮力検出用歪みゲージ16を縦方向に貼着し、一方の対角線の他端に引っ張り圧縮力検出用歪みゲージ17を横方向に貼着する。例文帳に追加
A strain gauge 16 for detecting tensile/compressive forces is attached longitudinally to one end of one diagonal line, on the surface of the strain member 3 made up in a rectangular form, and a strain gauge 17 for detecting tensile/compressive forces is attached laterally to the other end of the one diagonal line. - 特許庁
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